JPS6292412A - 厚膜抵抗体の形成方法 - Google Patents

厚膜抵抗体の形成方法

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Publication number
JPS6292412A
JPS6292412A JP60232545A JP23254585A JPS6292412A JP S6292412 A JPS6292412 A JP S6292412A JP 60232545 A JP60232545 A JP 60232545A JP 23254585 A JP23254585 A JP 23254585A JP S6292412 A JPS6292412 A JP S6292412A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resistor
thick film
resistance value
pattern
formation
Prior art date
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Pending
Application number
JP60232545A
Other languages
English (en)
Inventor
加藤 良毅
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Xerox Co Ltd filed Critical Fuji Xerox Co Ltd
Priority to JP60232545A priority Critical patent/JPS6292412A/ja
Publication of JPS6292412A publication Critical patent/JPS6292412A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、厚膜抵抗体の形成方法に係り、特に、−1−
、++ 抵抗値のトリミング方法に関する。
〔従来技術およびその問題点〕
プリンタあるいはファクシミリ装置等の記録部において
用いられる感熱記録ヘッド(サーマルヘッド)において
は、高痕な記録精度への要求が高まるにつれて、各発熱
抵抗体の抵抗値の均一化が重大な問題となってきている
殊に、厚膜ペーストをスクリーン印刷することによって
作製したパターンを焼成することによ−)で、抵抗体層
をはじめとした周辺回路を形成してなる厚膜型のサーマ
ルヘッドは、製造が容易でコストも低く機械的強度が高
いことから、サーマルヘッドの主流となってはいるが、
反面、薄膜型のものに比べてパターン精度が悪く、抵抗
値にバラツキが生じ易く、最終的に抵抗値を±10%以
内に抑えることは実用的には困難であった。
この厚膜型のサーマルヘッドは、一般に、第2図に示す
ようなフローブヤ〜トに従って製造される。
すなわち、まず、グレーズ加工のなされたセラミック基
板等の絶縁基板を出発材料(Fl)とし、スクリーン印
刷法によって導体を印刷した後、焼成しくF2)、フォ
トリソエッヂフグ法により導体をバターニングすること
により電極を形成する(F3)。
この後、発熱抵抗素子を構成するための抵抗体層パター
ンを、スクリーン印刷および焼成によって形成する(F
4)。
そして最後に、耐摩耗層を印刷、焼成しくF5)、完成
となる。
完成後のサーマルヘッドの各発熱抵抗素子の最終的な抵
抗値は、使用する抵抗ペーストのシート抵抗値、抵抗体
パターンのパターン寸法、焼成温度によって決定される
しかし、ロットのバラツキあるいは粘度変化等による抵
抗ペーストの成分差をはじめ、使用するスクリーンのス
クリーン張力あるいはスキージの摩耗度合等の印刷条件
、焼成プロファイルの再現性等の焼成条件等、変動要因
が多く、±10%以内の精度で各発熱抵抗素子の抵抗値
をそろえることは極めて困難であるとされてきた。
このため、各発熱抵抗素子の抵抗値をそろえるべく、回
転ヤスリ gンドブラスト、レーザ等を用いて抵抗体パ
ターンを1部分削り取ることにより抵抗修正(トリミン
グ)を行なう方法が提案されており、測定器と結合した
自動トリミング装置も開発されてはいるが、微調整は困
難である上特別の装置を準備しなければならない等の不
都合があった。
このことは、サーマルヘッドのみならず、厚膜抵抗体を
用いる全デバイスにおいても同様であった。
本発明は、前記実情に鑑みてなされたもので、簡単でか
つ高精痕の抵抗値を得ることのできる厚膜抵抗体のトリ
ミング方法を提供することを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
そこで本発明では、所望の抵抗体パターンを印刷焼成し
た後、この抵抗体パターンに対し初期抵抗値に応じて所
定の電界を供給することにより、所望の抵抗値をもつ厚
膜抵抗体を形成するようにしている。
(作用〕 一般に、厚膜抵抗体は電気パルスの印加によってその抵
抗値が変化することが知られている。例えば抵抗値の変
化率と印加電圧との関係曲線は第3図に示す如く、極小
点Aを有するような曲線となっている。
本発明者らは種々の実験を行なった結果、−(1)パル
ス幅が狭く、電圧の高い電気パルスを印加することによ
り抵抗値の変化量を大きくすることができる。
(2)抵抗値の変化率の極小点Aを越える電圧の電気パ
ルスを加えた抵抗体は長期の使用に対して抵抗値の変動
があるのに対し、極小点A以下の電気パルスを加えた抵
抗体は長期の使用に対して抵抗値の変動が小さく安定で
ある。一点を見いだした。
本発明は、これらの点に着目してなされたもので、極小
点A以下となる範囲内で印加する電気バルスの大きさを
決定し、これをパターン形成後に加えることによって容
易に所望の抵抗値をもつ信頼性の高い厚膜抵抗体を形成
することができる。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例について図面を参照しつつ詳細に
説明する。
第1図(a)乃至第1図(e)は、本発明実施例の厚膜
抵抗回路の作製工程図である。(第1図(e)は、最終
的な状態の平面図であり、このB−B’断面図が第1図
(d)に相当する。)まず、第1図(a)に示す如く、
96%のアルミナ基板1上に、1対の金電極パターンを
スクリーン印刷法によって形成した後、9oo℃で焼成
することにより、金電極2を形成する。
続いて、第1図(b)に示す如く、酸化ルテニウムとガ
ラスを主成分とする抵抗ペーストを用い、同様にスクリ
ーン印刷法によって抵抗体パターンを形成した後、87
0℃で焼成することにより抵抗体3を形成する。
このようにして形成された厚膜抵抗回路は、電極開路1
11td=0.5m、電極間での抵抗体の幅W=0.5
m、厚さT=15μTaとなッテイる。
この後、第1図(C)に示す如く、電極2間にプローブ
4をつなぎ、この抵抗体3の抵抗値を測定する。(ここ
で抵抗値はR=800〜900Ωとする。) そして、この測定値に応じて(測定値と、得ようとする
抵抗値との比をもとにして)300〜800v程度の電
気パルスを印加し、400〜900Ωの所望の安定した
抵抗値を有する厚膜抵抗回路を得ることができる。(第
1図(d)および第1図(e)) このように、本発明の方法では、極めて容易に、精度良
く抵抗値のトリミングを行なうことができる。
なお、抵抗体の形成に使用する抵抗体ペーストとしては
、実施例に限定されるものではない。
また、抵抗体層の上層に耐摩耗層等の保護層を形成する
場合にも、本発明の方法は適用可能であり、この場合は
、すべての層の形成後に、トリジ4・・・プローブ。
ングを行なうようにすればよい。
更に、本発明は、厚膜型サーマルヘッドのみならず、ハ
イブリッドIC等、他の厚膜抵抗回路を含むデバイスに
適用可能であることはいうまでもない。
〔効果〕
以上説明してきたように、本発明の方法によれば、印刷
、焼成後の厚膜抵抗体パターンに対し、所望の電界を供
給することにより抵抗値を調整(l〜リミング)するに
うにしているため、極めて容易に高精度かつ安定な抵抗
値を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)乃至(e)は、本発明実施例の厚膜抵抗回
路の製造■秤量、第2図は、通常の厚膜型1ノーマルヘ
ツドの作製工程のフローチャート、第3図は、抵抗値の
変化率の変化と印加電圧との関係を示す図の1例を示す
ものである。 1・・・アルミナ基板、2・・・金電極、3・・・抵抗
体、第1図(a) +lOO囁 枢 稚 値 の 麦 化 凱 第1図(d)    (′R’ 1J開日H62−a2412  (4)第2図 印浦電比

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基板上に所望の抵抗体パターンを印刷し、焼成し
    た後に、 該抵抗体パターンに対し所望の電界を供給し抵抗値を調
    整するトリミング工程を含むようにした厚膜抵抗体の形
    成方法。
  2. (2)前記トリミング工程は、該抵抗体パターンに対し
    、数百ボルトの電圧を印加する工程である特許請求の範
    囲第(1)項記載の厚膜抵抗体の形成方法。
JP60232545A 1985-10-18 1985-10-18 厚膜抵抗体の形成方法 Pending JPS6292412A (ja)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60171178A (ja) * 1984-02-15 1985-09-04 Mitsubishi Electric Corp サ−マルヘツド
JPS60183704A (ja) * 1984-03-02 1985-09-19 セイコーインスツルメンツ株式会社 サーマルヘッド発熱体の抵抗値トリミングの方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS60171178A (ja) * 1984-02-15 1985-09-04 Mitsubishi Electric Corp サ−マルヘツド
JPS60183704A (ja) * 1984-03-02 1985-09-19 セイコーインスツルメンツ株式会社 サーマルヘッド発熱体の抵抗値トリミングの方法

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