JPS6289967A - 版下台紙校正方法 - Google Patents

版下台紙校正方法

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Publication number
JPS6289967A
JPS6289967A JP60228860A JP22886085A JPS6289967A JP S6289967 A JPS6289967 A JP S6289967A JP 60228860 A JP60228860 A JP 60228860A JP 22886085 A JP22886085 A JP 22886085A JP S6289967 A JPS6289967 A JP S6289967A
Authority
JP
Japan
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information
block copy
clear base
mount
copy board
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60228860A
Other languages
English (en)
Inventor
Takashi Yoshino
孝 吉野
Akira Toda
明 戸田
Hirohito Egawa
江川 裕仁
Kazuyoshi Yokoyama
横山 一良
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP60228860A priority Critical patent/JPS6289967A/ja
Publication of JPS6289967A publication Critical patent/JPS6289967A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/90Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof prepared by montage processes

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、版下台紙の校正方法に係り、特にカタログ
デザインの版ド台紙の校正方法に関するものである。
〔従来の技術〕
従来、この種の装置としては、特願昭59−27076
3号等が提案されている。
第2図は従来のデザイン工程におけるミニラフ、ラフ作
成手順を示すフローチャートである。
なお、(1)〜(11)は各ステップを示す。
まず、ミニラフ、すなわち色版および文字型を表示・1
段、例えばディスプレイLで作成しく1)、掲載される
商品の商品香りを入カレ、ミニラフを、例えば画像出力
装置より出力してハードコピーを得る(2)。次いで、
出力されたミニラフにノ、(づいて、従来掲載された画
像情報1文字情報1図面情報等(あらかじめ登録されて
いる)を図示しない記憶手段より読み出しく3)、新製
品の商品画像を空白表示しく4)、さらにカメラの分解
倍率等に応じて登録されている従来の商品画像を変倍。
移動して位置決めを行い(5)、ラフを出力装置より出
力する(6)。次いで、罫線情報、例えば当り罫線およ
び生き罫線の寸法精度を上げた割付指定紙(入稿シート
)を作成しく7)、版下台紙を作成する(8)。ここで
、罫線情報で囲まれる角板領域を抽出して、マスクデー
タを作成し、マスク材料をカットするとともに(9)、
ステップ(7)で作成した割り付は指定紙に基づいて版
rを作成する(10)。次いで、版下の凸撮りを行い、
ステップ(9)で作成したマスクと合成して刷版を作成
する(11)。なお、印刷する原稿がカラーの場合は、
刷版を使用するインク数に応じて作成する。
〔発明が解決しようとする問題点〕
ところが、上記ステップ(8)で作成された版下台紙作
成段階で、指定された文字領域(写植文字が貼られる位
置)に誤って写植文字を貼ると、台紙表面を損傷して使
用不可になる問題点があった。また、版r作成段階で、
レイアウトを変更する場合などには、一度貼った写植文
字をはがすとともに、台紙を最初から作成しなければな
らず、レイアウトの変更に即応できず非常に校正効率が
低下する等の問題点を有していた。
この発明は、上記の問題点を解消するためになされたも
ので、版下校正段階におけるレイアウト変更に即応でき
るカタログ編集システムを得ることを[1的とする。
〔問題点を解決するための下段〕
この発明に係る版下台紙校正方法は、罫線情報が描画さ
れた版下台紙とクリアベースとを位置合せ情報に応じて
重ね合せ、版下台紙に描画された罫線情報を指標として
写植文字をクリアベース上の所定位置に貼り合せる。
〔作用〕
この発明においては、クリアベースを位置合せ情報に応
じて版下台紙上に重ね合せ、透過される版下台紙に描画
された罫線情報を指標として写植文字をクリアベース上
に貼り合せる。
〔実施例〕
第1図はこの発明の一実施例を示す版下台紙の校正方法
を説明する模式図であり、1はクリアベースで、例えば
ポリエステルフィルムにより構成される。2a〜2cは
印画紙で、CTS (電算写植)により所望の文字情報
が印画紙に印字されている。3は版下台紙で、罫線情報
(生き罫線、当り罫線2毛ヌキ等)が描画されている。
4は位置合せ情報で、例えばトンボマークが採用される
なお1位置合せ情報4はピン穴でもよい。
まず、版下台紙3上に図示しない、例えばX−yプロッ
タ等の作図機によりレイアウト情報に応じた罫線情報が
描画される。次いで、罫線情報が描画された版下台紙3
とクリアベース1とを位置合せ情報4を指標として重ね
合せ、クリアベース1Lから透過できる版下台紙3にの
罫線情報に基づいてクリアベース1上に写植文字が印字
された印画紙2a〜2cを貼り合せて行く。
ここで、罫線情報等に変更または修正が発生すると、版
下台紙3のみの作成を前述同様に行い、クリアベース1
と版下台紙3とを再度位置合せ情報4を指標として重ね
合せ、クリアベース11.Zの印画紙28〜2cを変更
された任意の位置に貼り直す。
なお、上記実施例では、カタログデザイン等におけるレ
イアウト情報に応じた版下台紙の校正方法について説明
したが、カタログデザインだけに限らず、一般の版下台
紙の校正に適用できることは云うまでもない。
〔発明の効果〕
以上説明したように、この発明は罫線情報が描画された
版下台紙とクリアベースとを位置合せ情報に応じて重ね
合せ、版下台紙に描画された罫線情報を指標として写植
文字をクリアベース−ヒの所定位置に貼り合せるように
したので、版下台紙りに写植文字が紙焼きされた印画紙
を直接貼り合せる必要がなく1版下台紙七に描画された
罫線情報の変更修IFによる版ド台紙辷での印画紙の貼
り直しを行わずに済むので、版ド台紙の校正を効率よく
行える。また、クリアベースと版下台紙とを位置合せ情
報に応じて貼り合せるように構成したので、横変よく両
者を貼り合せることができる笠の利点を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例を示す版下台紙の校正方法
を説明する模式図、第2図は従来のデザイン工程におけ
るミニラフ、ラフ作成手順を示すフローチャートである
。 図中、]はクリアベース、2a〜2Cは印画紙、3は版
下台紙、4は位置合せ情報である。 第1図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)罫線情報が描画された版下台紙とクリアベースと
    を位置合せ情報に応じて重ね合せ、前記版下台紙に描画
    された前記罫線情報を指標として写植文字を前記クリア
    ベース上の所定位置に貼り合せることを特徴とする版下
    台紙校正方法。
  2. (2)位置合せ情報は、トンボ情報であることを特徴と
    する特許請求の範囲第(1)項記載の版下台紙校正方法
  3. (3)位置合せ情報は、ピン穴情報であることを特徴と
    する特許請求の範囲第(1)項記載の版下台紙校正方法
JP60228860A 1985-10-16 1985-10-16 版下台紙校正方法 Pending JPS6289967A (ja)

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JP60228860A JPS6289967A (ja) 1985-10-16 1985-10-16 版下台紙校正方法

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JP60228860A JPS6289967A (ja) 1985-10-16 1985-10-16 版下台紙校正方法

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JPS6289967A true JPS6289967A (ja) 1987-04-24

Family

ID=16883016

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JP60228860A Pending JPS6289967A (ja) 1985-10-16 1985-10-16 版下台紙校正方法

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56155944A (en) * 1980-05-06 1981-12-02 Fukuda Shichie Locating method for multiple printing
JPS58174U (ja) * 1981-06-20 1983-01-05 三洋電機株式会社 ヒ−トパイプ

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56155944A (en) * 1980-05-06 1981-12-02 Fukuda Shichie Locating method for multiple printing
JPS58174U (ja) * 1981-06-20 1983-01-05 三洋電機株式会社 ヒ−トパイプ

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