JPS6286324A

JPS6286324A - ２ビ−ムレ−ザ−プリンタ

Info

Publication number: JPS6286324A
Application number: JP60226455A
Authority: JP
Inventors: Nobuaki Kubo; 信秋久保
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 1985-10-11
Filing date: 1985-10-11
Publication date: 1987-04-20

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（技術分野）本発明は２ビームレーザープリンタに関し、より詳細に
は半導体レーザーを用いたプリンタに適用１〜うる２ビ
ームレーザープリンタに関するものである。

（従来技術）複数のレーザービームを感光面」−に同時走査して書込
みを行なうレーザープリンタとして、従来、ガスレーザ
ーと音響光学光変ｈＩＡＩ器とを組合せ、複数のレーザ
ービームを？ζする方式が知られている。

Ｉ７かし、十ｄ已方式では、高周波数で変調しなければ
ｒｃらないためドライバーの構成が複雑になるとともに
光源たるガスレ・−ザーが大型であるため装置全体も尚
価かつ大型化するとの難点がある。

（目　　的）従って、本発明の目的は半導体し′−ザーを用いたコン
パクトな機械的手段により所定ピッチ間隔の書込用レー
ザービームな容易ニ得ることのできる２ビームレーザー
プリンタを提供することにある。

（構　　成）本発明は」二組の目的を構成させるため、レーザ−プリ
ンタの主要部が、２つの半導体レーザーと、こ才１ら各
半導体レーザーと各々一体的に対をｒｃ　ｌ。

ていて各半導体レーザーからの出射ビームを整える光学
ユニットと、各光学ユニットからの出射ビームを受光し
てＪｊいに平行に進行する２本のレーザーヒ−ｌｈとし
て出射する偏光ビームスプリンタと、これらのレーザー
ビームを感光面に走査する偏向手段を備え、十ｉ己各光
学ユニットの何れか一方が他の光学ユニットにｘ′１（
〜で、感光面上での副走査方向に相当する方向上にて微
動位置決め自在と７（るように構成したことを特敵とし
たものである。

以下、不発明の一実施例に基づいて具体的に説明する。

本発明に係るレーザープリンタの主要部分ｌＬ」−矛１
図に符号２で示されるベース上に組立てられている。こ
のベース２のｔ体的ｆ、’ＣｉＫ形は矛５図に示１−如
とものである。

すｆＣわち、１１５図（（おいて、平面部２０２上には
直線状の矛１壁２［Ｊ４と略り字状に折曲している矛２
壁２０６とが間隔をおいて対向直立している。矛２壁２
０乙の−ｉ’！ｉａ　ｆｌｌｌｌ　（ｊ、３・１壁と平
行であり、１・２壁２０６の他端側は〕・１１４：　２
［１ｉ！Ｉど酌交すイ）力回な向いていてその端部トま
上下方向Ｖ（つき二股状に分かＪｌている。この二股（
（分か、１また各先嬬部の一方会・−」二支持腕２０８
、他方ケ下支持腕２１　ｒＪと称する。

平面部２０２上には矛１壁２〔Ｊ４に直交する方向に切
欠き２１２が形成されていイ〕。さらに、切欠ぎ２１２
の近傍でル）ってＡ・ｉ　ｊｌ＋■２［Ｊ４と直交する
向ぎに１・ろ壁２１４が形成され、その−＋８１≦は矛
１壁２〔」４と平行であり、他の一部は切欠２１２に曲
していてブロック２１６と一体向Ｖζなっている。

ここで、平面部２［Ｊ２．３１・１壁２目４，３・２壁
２〔）６の各共通端面ば全体で略コの字状なしており、
この部分に矩形板状の固定圧４かｉ−ｖじ４０１　、　
４［］３により同定されている（〕・１１図］・２２図
参照。矛１図（Ｃ％いて、固定圧４にはプリント基板４
（Ｊ２と接続された半導体レ−ザーＬ＋”）１が受部（
Ｊｉ１４を介して固定され又、コリメータレンズ４０４
　Ｙ保持しているレンズセル４０６が固定されている。

半導体レーザーＬＤＩから出射されるレーザービームＬ
１　　の九軸土にはシリンダレンズ４０８．１／２波長
板４１０、絞り板４１２の順に諸部材が平面部２０２上
に固定されている。さらに、上記光軸の延Ｊ、ＬＩ−に
は偏光ビームスプリッタ５が配置されている。ここで、
半導体レーザーＬＤ１の活性層の向きはＳ偏光と！、ｃ
っでいる。レーザービームＬ１　　は半導体レーザーＬ
Ｄ１から出射された直後は発散光であるのでコリメータ
レンズ４０４．　Ｋより平行光にされ、さら（（シリン
ダレンズ４０８と絞り板４１２により７’！ＩＴ定のビ
ーム形状及び大きさに整形される。そして１／２波長板
４１１ＪによりＰ偏光に変換されて、偏光ビームスプリ
ッタ５を透過する。

従って、コリメータレンズ４０４　、シリンダレンズ４
θ８．７／２波長板４１０、絞り板４１２などは、半導
体レーザーＬＤＩかもの出射ビームを整えるための光学
ユニット’ａ’構成しているといえる。

矢ニ、偏光ビームスプリッタ５には、」二組レーザービ
ームＬ１　　と直交する方向から、もう一つのレーザー
ビームＬ２　　が入射されるようになっている。このレ
ーザービーム１．２　　は、半ｚ、ｑ体し・−ザーＬＤ
２から出射されたレーザービームがコリメータレンズ６
０４、シリンダレンズ（Ｓ［Ｊ８　、　絞す＆　６Ｊ２
などからなる光学ユニットを経て進行してぎたものであ
る。この光学ユニットは矛６図にも示す如き略Ｔ字状に
折曲された板状の回転座６上に組立てられている。すな
わち、書・１図に示す如く、回転座６の壁部６１４の外
ｆｌＩ！Ｉ　Ｋは、プリント基板６０２に接続された半
導体レーザーＬＤ２ヶ固定された受部材６１６が取付け
てあり、壁部６１４のｍ　側Ｌ／ｒ：はコリメータレン
ズ６０４が固定されているレンズセル６１８などが取付
けられている。

さらに、半導体レーザーＬＩ）２や光学ユニットなどと
一体をなす回転座乙の−に部両端にはｎ通穴６２２、　
６２４があけられ、前記切欠き２１２にその底部６２０
が嵌合するようにして、かつ、壁部６１４の右端が上支
持腕２０Ｂと下支持腕２１０との間に位置するようにし
て、これらの腕２［Ｊ８．　２１０のＵ通穴２０８Ａ、
２１目Ａ及び−にＪ［′、貫通穴６２２を貫く支軸７に
よりスギマバメにで枢着されている（矛２図参照）。

ここで、下支持腕２１Ｄｗは穴２１・ＯＡに隣接して底
ｆ＝１の穴２１０Ｂ　　が形成してあり、その中に落し
込まれた伸張性のげね２１８の上端が回転座乙の下部を
押圧するようにｔ〜である。その一方、上支持腕２（ｊ
８上の上ｔｌ穴２１０Ｂ　　との対向位置には−１−支
持腕２０Ｂを貫通するめねじ２［］８Ｂ　　が形成され
ていて、これにねじ２２０が螺合されでおり、このねじ
２２０の締め」ル合でｌｒ！１転座６は支軸７の方向に
平行に微動調整されるようにしである。

一方、回転座乙の左端側は次のように支持されている。

ブロック２１６には２つの貫通穴２１６Ａ、　　２１６
Ｂとねじ穴２１６Ｃが形成されている。そしてこのブロ
ック２１６にに矛４図に示す略コの字状のカムレバー８
がブロック２１６ケあたかもはさむ如く設定されている
。そしてカムレバー８に予めあけられていた穴８Ａ　　
及びブロック２１６の貫通穴２１６Ａ　　を通る支ｎｌ
＋７１ＶＣで枢着されている（　′Ａ−３図参照）。

又、貫通穴２１６ｒ３　　には〕・７図に示す如き偏心
軸９の大径部９Ａ　　か回転自在に嵌合し、その−１−
下端の小径部９Ｂ　　はカムレバー８のＪ〈穴８Ｂ　Ｖ
Ｃ係合している。カムレバー８には穴８Ａ　　を中心と
する円弧状の長穴８Ｃが形成されていで、この長穴８Ｃ
を貫いて止めねじ１（］かねじ穴２１６Ｃに螺合してい
る。そして、さらに、カムレバー８の開放端仙ｌには斜
面状の溝８Ｄ　　か形成されている。−力、回転月４６
の左端に形成された前ｈｔ’＝　’ＩＪ曲穴６２４を摺
動自在に貫通している輔１１があり、上ｄ［暑ｈ８ＤＩ
／ｉ１′はこの軸１１の両端（（形成したリング状の溝
が摺動自在に係合している。

この構成により、止めＡつじ１［］を緩めてから、小径
部９Ｂ　　のマイナス溝（この荷方向は大径部９Ａの中
心を通る）Ｋドライバーをさし込んでこれ全回転させる
と偏心軸９の偏心１’ｒｌｊ　ｌｈによってカムレバー
８が支！１！１１１７１を中心Ｖｃ揺動運動する。する
と、この揺動運動に能ｌｃつてＩＩ！ＩＩＩ　１１がｒ
１η８Ｄ　　Ｋそって移動する結果、回転座６全体が支
軸７を中ノ［、・に回動することになる。なお、ここで
、壁１η［１４のブロック２１６どの対向ＭＢ　［形成
された四部に伸張性のばね１２が収められており、との
ばね１２の付勢力によって軸１１と溝８Ｄ　　との間の
緩みが吸収されて安定したＮ転座６の動きが確保される
よ’）Ｖｒｃなっている。

ここで、半導体レーザーＬＤ２の活性層の向きは？ｔｆ
記半導体レーし−ＬＤ１と同様Ｓ偏光となっており、光
路中に１／２波長板がないので、半導体レーザーＬ　１
１）１から出射されたレーザービームＬ２　はレーザー
ビームＬ１　　とは偏光方向が直交する関係の状態で偏
光ビームスプリッタ５に入射され、進行方向な変辷られ
てレーザービームＬ１　　と平行に進行して図示な省略
した偏向器に向かう。そして、この偏向器により偏向さ
れて感光面上に走査される。このようにして、感光体面
上に照射される２本のレーザービームＬｌ、Ｌ２を得る
。

ビーム調整の方法は感光体面と等価の位置に測定治具を
セットしてビームピッチをモニターしながら行なう。調
整の順序は任意であるが、偏向器による走査方向である
主走査方向は偏心軸９を回転させることにより行ｆ［い
、主走竹方向に直交１−る副走査方向についてはねじ２
２０を回転さ・ぜることにより行なう。上記主士査方向
の調整については調整終了後、止めねじ１０を締め付け
てカムレバー８を固定する。

なお、上記例に限らず、回転座７ｖｃ施された微動調整
機構は、その十ま、固定１！Ｉ’？　４　Ｆ対して行な
うことも可能である。

次に、副走査方向の調整手段について、１・８図により
、他の実施例を説明する。

本例では前記例におけるねじ２２０に代えて偏心カム１
６を壁部６１４の上（ｆＢに当接させている。偏心カム
１６は不動部材としてのカム４ｆ＋ｌＩ　１６　Ａに枢
着されており、矢印方向に揺動自在である。そして偏心
カム１６の上￥ｚ［Ｓは、その揺動力向−１に緊縮性の
ばね１４　　で引かれ、反対ｊｌｌｌｌよりンレノイド
１５のプランジャーによって引かれ、カムの画用Ｓが内
陸した位置で安定している。ここで、ンレノイド１５を
オンにしてプランジャーを引けは、偏心カム１３が１１
１動して、ばね２１８Ｖｃより回転座６が光学ユニット
と共に支１１！１ＩＩ７の一１１方向に移動し、２つの
ビームの副走査方向でのピッチが所定量変位させられる
。

このように副走査方向でのピッチを可変として、半導体
レーザーの変調周波数も切換えて発光パワーなコントロ
ールすることにより画像密度の自動切替えも可能となる
。

なお、書き込み密度を変える場合、上記の如くビームの
ピッチ及び半導体レーザーのパワーをコントロールする
と同（堤に以下に示す事項についてもｒｌＩ丁変する必
要がある。

例えば、感光体の線速度が一定として、書き込み密度ヲ
Ａ（ＤＰＴ）カらＢ　（ＤＰＩ　）　Ｋ変える場合には
、偏向器たる回転多−面鏡の回転速度は−ＸＮに切換え
る（但し、　ＤＰＩは１インチ当りのドツト数、ＮはＡ
　（ＤＰＩ　）時の回転速度とする）。

（但し、Ｊハ　はＡ　（ＤＰＩ　）時のクロック周波数
とする）。回転多面鏡の駆動モーターは通常、位相同期
制往１う′行ｆ（っているので某帖周ａジ数ｆ、。ｆ６
゜モーターの回転；ｉｌ　ＩＩにに比例を−て、１゛、
。ｆ・×−とする３゜クロック周波数の切換えは、発振
周波数が１１　　と（’）２Ｘ　、ｆｌの二押類の光］
ノー！　ｉｌ　’ａ’内蔵し、書き込み密度に応じて切
換える。書き込み位置の制御は、感光体近傍に光検出器
を設け、ビームｉ１４過時に出力する信号（同Ｍ　ｆ、
８号）からクロック信号を計叙し、所定値計数後、隋報
信けの変調を行なうようにする。

なお、書き込み密度を変えると回転多面鏡の回転速度と
クロック周液数が変わるので、カウンターの設定値も断
層の値に変えろ必要がある。

（効　果）本発明では光源として小型ｊ（半導体レーザーを用いる
とともにビームスプリッタ−を用いて平行な２ビームを
得、半導体レーザー及び光学ユニットが微動位置決め自
白下であるので２ビームのピッチ調節を容易に行なうこ
とかでき、コンパクトな構成の２ビームレーザープリン
タを提供することができ好都合である。

【図面の簡単な説明】

１）１図は本発明に係るレーザープリンタの要部平面図
、〕・２図は同一１−図の正面図、矛３図は矛１図の左
側面図、〕・４図はカムレバーの斜視図、矛５図はベー
スの斜視図、〕・６図は回転座の斜視図、〕・〕７は偏
心軸の斜視図、〕・８図は本発明の他の実施例を説明し
た副走査方向ピッチ可変手段の主要構成部の説明図であ
る。５・・・偏向ビームスグリツタ、６・・・回転座、２０
８・・・上支持腕、２１０・・・下支持腕、２１８・・
・ばね、２２０・・・ねじ

Claims

【特許請求の範囲】

複数のレーザービームを感光面上に同時走査して書込み
を行なうレーザープリンタにおいて、２つの半導体レー
ザーと、これら各半導体レーザーと各々一体的に対をな
していて各半導体レーザーからの出射ビームを整える光
学ユニットと、各光学ユニットからの出射ビームを受光
して互いに平行に進行する２本のレーザービームとして
出射する偏光ビームスプリッタと、これらのレーザービ
ームを感光面に走査する偏向手段を備え、上記各光学ユ
ニットの何れか一方が他の光学ユニットに対して、感光
面上での副走査方向に相当する方向上にて微動位置決め
自在であることを特徴とする２ビームレーザープリンタ
。