JPS6285459A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPS6285459A JPS6285459A JP22522685A JP22522685A JPS6285459A JP S6285459 A JPS6285459 A JP S6285459A JP 22522685 A JP22522685 A JP 22522685A JP 22522685 A JP22522685 A JP 22522685A JP S6285459 A JPS6285459 A JP S6285459A
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- Japan
- Prior art keywords
- voltage
- vbe
- region
- terminal
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
一導電型の半導体領域内に反対導電型の半導体領域を形
成してこれを抵抗として用いる半導体装置であって、一
導電型の半導体領域の電位を抵抗両端の入力電圧のいず
れか一方に設定することを可能とする。
成してこれを抵抗として用いる半導体装置であって、一
導電型の半導体領域の電位を抵抗両端の入力電圧のいず
れか一方に設定することを可能とする。
本発明は半導体装置に関するものであり、さらに詳しく
言えば抵抗端子に入力する電圧値による抵抗値に変動が
少ない抵抗を有する半導体装置に関する。
言えば抵抗端子に入力する電圧値による抵抗値に変動が
少ない抵抗を有する半導体装置に関する。
第4図は従来例に係る半導体装置であり、lはP型半導
体基板、2はエピタキシャル成長により形成されたN型
領域、3は素子分離用のP型頭域、4は埋め込み層とし
ての高濃度のN型領域である。また5はP型頭域を形成
している。端子1.2は抵抗の端子であり、6は絶縁膜
である。
体基板、2はエピタキシャル成長により形成されたN型
領域、3は素子分離用のP型頭域、4は埋め込み層とし
ての高濃度のN型領域である。また5はP型頭域を形成
している。端子1.2は抵抗の端子であり、6は絶縁膜
である。
なお従来例ではP型領域5を抵抗として使用する場合、
P−N接合が順方向バイアスされて順方向電流が流れな
いように、N型領域2を高電圧電源に接続している。
P−N接合が順方向バイアスされて順方向電流が流れな
いように、N型領域2を高電圧電源に接続している。
ところで従来例にかかる半導体装置によれば、端子1(
又は端子2)の電圧値が変動すればP型領域3の抵抗値
も大幅に変動することになる。これは端子1の電圧値が
高いときと低いときではN型領域2とP型銅域5との間
にかかる逆バイアス電圧が異なるので、空乏層の広がり
に差が生じるからである。すなわちP型銅域5の抵抗値
は端子lに入力する電圧が小さければ小さいほど空乏層
が広がるから、抵抗値は高くなる。
又は端子2)の電圧値が変動すればP型領域3の抵抗値
も大幅に変動することになる。これは端子1の電圧値が
高いときと低いときではN型領域2とP型銅域5との間
にかかる逆バイアス電圧が異なるので、空乏層の広がり
に差が生じるからである。すなわちP型銅域5の抵抗値
は端子lに入力する電圧が小さければ小さいほど空乏層
が広がるから、抵抗値は高くなる。
またリニア回路では一定の抵抗比の抵抗対を入力部に備
えることが多いが、この抵抗比は回路の動作中も一定で
あることが望ましい。しかし従来例によれば入力電圧値
によって抵抗値が変動するものであるから、それぞれの
抵抗に入力する電圧の値が異なるとき抵抗比もそれに従
って変動することになる。このため従来例の抵抗によれ
ば、高精度のリニアIC回路を実現することができない
という問題点がある。
えることが多いが、この抵抗比は回路の動作中も一定で
あることが望ましい。しかし従来例によれば入力電圧値
によって抵抗値が変動するものであるから、それぞれの
抵抗に入力する電圧の値が異なるとき抵抗比もそれに従
って変動することになる。このため従来例の抵抗によれ
ば、高精度のリニアIC回路を実現することができない
という問題点がある。
本発明はかかる従来例の問題点に鑑みて創作されたもの
であり、入力電圧の大きさによって抵抗値が変動するの
を抑制した抵抗を備えた半導体装置の提供を目的とする
。
であり、入力電圧の大きさによって抵抗値が変動するの
を抑制した抵抗を備えた半導体装置の提供を目的とする
。
本発明は一導電型の半導体領域内に反対導電型の半導体
領域を形成し、該反対導電型の半導体領域を抵抗として
用いる半導体装置において、前記一導電型の半導体領域
の電位が前記反対導電型の半導体領域の抵抗両端の入力
電圧いずれか一方に設定されることを特徴とする。
領域を形成し、該反対導電型の半導体領域を抵抗として
用いる半導体装置において、前記一導電型の半導体領域
の電位が前記反対導電型の半導体領域の抵抗両端の入力
電圧いずれか一方に設定されることを特徴とする。
一導電型の半導体領域の電位は反対導電型の半導体領域
の抵抗両端の入力電圧の一方に設定されるので、両生導
体領域間にはほとんど逆/くイアスミ圧が印加しない。
の抵抗両端の入力電圧の一方に設定されるので、両生導
体領域間にはほとんど逆/くイアスミ圧が印加しない。
従って抵抗値は入力端子の大きさに依存することなく一
定に保たれる。
定に保たれる。
次に図を参照しながら本発明の実施例につl、Nて説明
する。第1図は本発明の実施例に係る半導体装置の回路
図であり、第2図、第3図はその断面図である。図にお
いて第4図と同じ符号ものは同じ機能のものを示してい
る。
する。第1図は本発明の実施例に係る半導体装置の回路
図であり、第2図、第3図はその断面図である。図にお
いて第4図と同じ符号ものは同じ機能のものを示してい
る。
R1はP型銅域5によって形成された抵抗であり、Dl
はP型銅域5とN型領域2とによって形成されたダイオ
ードである。Tlは縦型npnトランジスタであり、コ
レクタが電源に、ベースが端子lに接続されている。T
2も縦型npnトランジスタであり、コレクタがVcc
に、ベースが端子2に接続されている。T3は横型Pn
P)ランジスタであり、コレクタがVSSに、エミッタ
が定電流源2を介して電源Vccに接続されて+、Xる
。エミッタはDlのカソード側のN型領域2にも接続さ
れている。またT1のエミッタ、T2のエミッタおよび
T3のベースは共通接続され、定電流源lを介して電源
VSSに接続されている。
はP型銅域5とN型領域2とによって形成されたダイオ
ードである。Tlは縦型npnトランジスタであり、コ
レクタが電源に、ベースが端子lに接続されている。T
2も縦型npnトランジスタであり、コレクタがVcc
に、ベースが端子2に接続されている。T3は横型Pn
P)ランジスタであり、コレクタがVSSに、エミッタ
が定電流源2を介して電源Vccに接続されて+、Xる
。エミッタはDlのカソード側のN型領域2にも接続さ
れている。またT1のエミッタ、T2のエミッタおよび
T3のベースは共通接続され、定電流源lを介して電源
VSSに接続されている。
次に本発明の実施例の動作について説明する。
いま端子lの電圧vlが端子2の電圧v2よりも大きい
とする。このときT1がオンしてT2がオフするから、
T3のベース電圧はVlよりVBE(Tl)だけ低い電
圧V 1−VBF (T I) トなる。一方T3のエ
ミッタ電圧はこれよりVBE(T3)だけ高い電圧とな
るから、DIのN型領域2の電圧は、 V l −’VBE (T 1 ) + VBE (T
2)とナル。一般にVB「(TI)、!=VnE(T
2)はほぼ等しいから、結局D1のN型領域2の電圧は
vlとなる。
とする。このときT1がオンしてT2がオフするから、
T3のベース電圧はVlよりVBE(Tl)だけ低い電
圧V 1−VBF (T I) トなる。一方T3のエ
ミッタ電圧はこれよりVBE(T3)だけ高い電圧とな
るから、DIのN型領域2の電圧は、 V l −’VBE (T 1 ) + VBE (T
2)とナル。一般にVB「(TI)、!=VnE(T
2)はほぼ等しいから、結局D1のN型領域2の電圧は
vlとなる。
また同様にして■2の方がvlよりも大きいときにはN
型領域2の電圧はV2となる。
型領域2の電圧はV2となる。
このようにN型領域2の電圧は、端子l又は端子2のい
ずれか高い方の電圧に設定されることになる。すなわち
抵抗端子の電圧とN型領域2の電圧は、抵抗端子に入力
する電圧の大きさに依存することなく等しく設定される
ので、従来例のように逆バイアス電圧が加わって抵抗値
が変動することはない。
ずれか高い方の電圧に設定されることになる。すなわち
抵抗端子の電圧とN型領域2の電圧は、抵抗端子に入力
する電圧の大きさに依存することなく等しく設定される
ので、従来例のように逆バイアス電圧が加わって抵抗値
が変動することはない。
このようにアナログ信号など入力電圧値が変動してもほ
ぼ一定の抵抗値を得ることができるから、高精度の抵抗
比が要求されるリニア回路等に用いれば特にその効果は
大きい。
ぼ一定の抵抗値を得ることができるから、高精度の抵抗
比が要求されるリニア回路等に用いれば特にその効果は
大きい。
このように本発明によれば、一導電型の半導体領域の電
位を抵抗を形成する反対導電型の半導体領域の抵抗端子
に入力する電圧と等しく設定することができるので、逆
バイアス電圧による抵抗値の変動を防止することができ
る。
位を抵抗を形成する反対導電型の半導体領域の抵抗端子
に入力する電圧と等しく設定することができるので、逆
バイアス電圧による抵抗値の変動を防止することができ
る。
特に高精度の抵抗比が要求されるリニアIC回路に用い
れば、その効果は大きい。
れば、その効果は大きい。
第1図は本発明の実施例に係る回路図であり、第2図、
第3図はその断面図である。第4図は従来例に係る断面
図である。 l・・・P型基板 2・・・N型基板 R1・・・抵抗 DI・・・ダイオード TI、T2・・・npn)ランジスタ T3・・・pnp )ランジスタ 又・rし、:;
第3図はその断面図である。第4図は従来例に係る断面
図である。 l・・・P型基板 2・・・N型基板 R1・・・抵抗 DI・・・ダイオード TI、T2・・・npn)ランジスタ T3・・・pnp )ランジスタ 又・rし、:;
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一導電型の半導体領域内に反対導電型の半導体領域を形
成し、該反対導電型の半導体領域を抵抗として用いる半
導体装置において、 前記一導電型の半導体領域の電位が前記反対導電型の半
導体領域の抵抗両端の入力電圧のいずれか一方に設定さ
れることを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22522685A JPS6285459A (ja) | 1985-10-09 | 1985-10-09 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22522685A JPS6285459A (ja) | 1985-10-09 | 1985-10-09 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6285459A true JPS6285459A (ja) | 1987-04-18 |
Family
ID=16825959
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22522685A Pending JPS6285459A (ja) | 1985-10-09 | 1985-10-09 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6285459A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0459633U (ja) * | 1990-09-28 | 1992-05-21 |
-
1985
- 1985-10-09 JP JP22522685A patent/JPS6285459A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0459633U (ja) * | 1990-09-28 | 1992-05-21 |
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