JPS6284076A - 新規な二環式ラクトン製造方法 - Google Patents
新規な二環式ラクトン製造方法Info
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- JPS6284076A JPS6284076A JP61193868A JP19386886A JPS6284076A JP S6284076 A JPS6284076 A JP S6284076A JP 61193868 A JP61193868 A JP 61193868A JP 19386886 A JP19386886 A JP 19386886A JP S6284076 A JPS6284076 A JP S6284076A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D311/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D311/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
- C07D311/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D311/76—Benzo[c]pyrans
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- C07D311/94—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems condensed with rings other than six-membered or with ring systems containing such rings
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の背景
本発明は新規な二環式ラクトン製造方法に関する。
先行技術
1959年に1数人の研死者〔すなわち、西ドイツ、ボ
ン大学、化学部のエフ・コルテ(F。
ン大学、化学部のエフ・コルテ(F。
Korta)、ジエイ・ファルベ(J、Falha)と
エイ・ツチョーク(A、 l1aahoka)〕は、D
、L−イルドミルメシンの合成法を含めた、゛種々の二
環式r−。
エイ・ツチョーク(A、 l1aahoka)〕は、D
、L−イルドミルメシンの合成法を含めた、゛種々の二
環式r−。
δ−ラクトンの多くの合成法を述べているのテトラヘド
ロンの文献は数種類または数タイプの二環式ラクトン合
成の種々の逐次反応機構を開示している。
ロンの文献は数種類または数タイプの二環式ラクトン合
成の種々の逐次反応機構を開示している。
最近(1982年になって)、特定の二環式ラクトンが
有する特に意外な物理的性質を研究した結果として、上
述のテトラヘドロン文献に報告された方法よりも迅速で
、経済的である比較的簡単な二環式ラクトン合成法が必
要であることが明らかKなった。さらに、この他の発表
され九二環式ラクトン合成法の多くは全体的または部分
的に上記テトラヘドロン文献に基づくものであり、二環
式ラクトンを得るまでに多くの連続反応管必要とMmr
ek Index) 10版、1983年刊行、73
4頁、エントリー/に4939参照〕。このように、上
記の研究が進行するにつれて、広範囲な二環式ラクトン
の効果的な迅速合成法が現在必要であることが直ちに明
らかになった。このような方法の重要な考慮すべき点は
もちろん、高収率であること、反応原糸(すなわち、出
発物質)が比較的入手可能であり、取扱いやすく、低コ
ストであること、特定の二環式ラクトンヲ得るために必
要な反応段階数ができるだけ少ないこと、及び反応パラ
メータ(例えば、圧力、温度及び反応時間)が容易に達
成可能で実用的であることである。
有する特に意外な物理的性質を研究した結果として、上
述のテトラヘドロン文献に報告された方法よりも迅速で
、経済的である比較的簡単な二環式ラクトン合成法が必
要であることが明らかKなった。さらに、この他の発表
され九二環式ラクトン合成法の多くは全体的または部分
的に上記テトラヘドロン文献に基づくものであり、二環
式ラクトンを得るまでに多くの連続反応管必要とMmr
ek Index) 10版、1983年刊行、73
4頁、エントリー/に4939参照〕。このように、上
記の研究が進行するにつれて、広範囲な二環式ラクトン
の効果的な迅速合成法が現在必要であることが直ちに明
らかになった。このような方法の重要な考慮すべき点は
もちろん、高収率であること、反応原糸(すなわち、出
発物質)が比較的入手可能であり、取扱いやすく、低コ
ストであること、特定の二環式ラクトンヲ得るために必
要な反応段階数ができるだけ少ないこと、及び反応パラ
メータ(例えば、圧力、温度及び反応時間)が容易に達
成可能で実用的であることである。
従って、本発明の全般的な目的は新規な二環式ラクトン
製造方法全提供することである。
製造方法全提供することである。
これに関連する本発明の目的は、広範囲な二環式ラクト
ンの比較的少ない段階での迅速な合成を可能にするよう
な方法t−提供することである。
ンの比較的少ない段階での迅速な合成を可能にするよう
な方法t−提供することである。
本発明の特別な目的は、反応原糸として市販の比較的安
価な原料を用いる、このよ5な二環式ラクトンの合成方
法を開示することである。
価な原料を用いる、このよ5な二環式ラクトンの合成方
法を開示することである。
前記目的に従って、次の構造式(I6)と(Ib):(
1,) 〔式中、Aは次の基を表す: この基では、環−炭素から付加的な水素原子が除去され
、前記環−炭素とラクトン環の@素原子との間に炭素−
酸素結合が形成される;R,、R,、R4、R* 、R
@とR1の各々は−Bと一〇H,から成る群から独立し
て選択され、R1は−H,−〇H,と−C,H,から成
る群から選択され;Rフは水素である、または構造式(
16)に関しては、R1はR8とともに、もしくはR2
とR島が両方とも水素以外の基である場合には、R’l
はR1とともに炭素−炭素結合を表わす;ならびに愼は
1〜5の整数であり、Oは0.1.2または3であり、
pは0.1tたは2であり、!+ O+ 1の合計は3
〜5の整数である〕 によつて一般的に表されるような、広範臼な二環式ラク
トンを合成する新規な方法が今回発見された。
1,) 〔式中、Aは次の基を表す: この基では、環−炭素から付加的な水素原子が除去され
、前記環−炭素とラクトン環の@素原子との間に炭素−
酸素結合が形成される;R,、R,、R4、R* 、R
@とR1の各々は−Bと一〇H,から成る群から独立し
て選択され、R1は−H,−〇H,と−C,H,から成
る群から選択され;Rフは水素である、または構造式(
16)に関しては、R1はR8とともに、もしくはR2
とR島が両方とも水素以外の基である場合には、R’l
はR1とともに炭素−炭素結合を表わす;ならびに愼は
1〜5の整数であり、Oは0.1.2または3であり、
pは0.1tたは2であり、!+ O+ 1の合計は3
〜5の整数である〕 によつて一般的に表されるような、広範臼な二環式ラク
トンを合成する新規な方法が今回発見された。
目的のラクトンが上記の式(16)によって表される場
合には、本発明の方法は、次式(…):〔式中、R2、
R@ %R4、E hR6、E @ 、m、Oとpは上
記で定義した通りである〕 を有するβ、r−不飽和環式二トリルを水性酸性条件下
で加熱して、目的の二環式ラクトンを形成することから
成る。目的のラクトンが上記の式(1,)によって表さ
れる場合には、次式(■):E、CM (式中、R1は上記で定義した通りである)を有するア
ルデヒドを付加的な反応物質として用いる。
合には、本発明の方法は、次式(…):〔式中、R2、
R@ %R4、E hR6、E @ 、m、Oとpは上
記で定義した通りである〕 を有するβ、r−不飽和環式二トリルを水性酸性条件下
で加熱して、目的の二環式ラクトンを形成することから
成る。目的のラクトンが上記の式(1,)によって表さ
れる場合には、次式(■):E、CM (式中、R1は上記で定義した通りである)を有するア
ルデヒドを付加的な反応物質として用いる。
本発明の方法は容易に、迅速に実施することができ、比
較的高収率である。
較的高収率である。
本発明の前記その他の目的、特徴及び利点は、好ましい
実施態様の下記の詳細な説明を読むと容易に理解される
であろう。
実施態様の下記の詳細な説明を読むと容易に理解される
であろう。
本発明を好ましい実施態様に関連して説明するが、本発
明をこれらの実施態様に限定しようと意図するものでは
ないことは理解されよう。これに反して、特許請求の範
囲に定義する本発明の精神及び範囲に含まれるような、
全ての代替物、変更及び等価物管包括しようと意図する
ものである。
明をこれらの実施態様に限定しようと意図するものでは
ないことは理解されよう。これに反して、特許請求の範
囲に定義する本発明の精神及び範囲に含まれるような、
全ての代替物、変更及び等価物管包括しようと意図する
ものである。
上述したよ5に%特定の環式不飽和ニトリルが本発明の
条件下で比較的高収率の二環式ラクトンを生成し得るこ
とが今回発見された。
条件下で比較的高収率の二環式ラクトンを生成し得るこ
とが今回発見された。
本発明によって用いる不飽和ニトリルは直接得られるか
、または周矧の多様な化学合成法を用いて製造すること
が出来る。例えば、ニトロ基またはカルボン酸基のよう
な活性化基を有する活性化メチレン化合物またはその誘
導体(例えば、エステル、無水物、アミド、ニトリル等
)をケトンもしくはアルデヒドと反応させることによっ
て、不飽和ニトリルまたは加水分解及び/または脱カル
ボキシル化によって不飽和ニトリルに変換し得る化合物
が主要反応生成物として容易に得られる。
、または周矧の多様な化学合成法を用いて製造すること
が出来る。例えば、ニトロ基またはカルボン酸基のよう
な活性化基を有する活性化メチレン化合物またはその誘
導体(例えば、エステル、無水物、アミド、ニトリル等
)をケトンもしくはアルデヒドと反応させることによっ
て、不飽和ニトリルまたは加水分解及び/または脱カル
ボキシル化によって不飽和ニトリルに変換し得る化合物
が主要反応生成物として容易に得られる。
ジ・シーA (Gaorgm Th1atna )出版
、1974]Chamim ) J (スタントガル
トのジョージ・シーム出版、19631にコルテ(Ko
rtm)が述べているように1飽和ニトリル前駆体を用
いて、Hl、H,0%HC1%HOR等の成分を除去し
て目的の不飽和ニトリル金生成する典型的な方法によっ
て、対応する不飽和環式ニトリルを得ることができる。
、1974]Chamim ) J (スタントガル
トのジョージ・シーム出版、19631にコルテ(Ko
rtm)が述べているように1飽和ニトリル前駆体を用
いて、Hl、H,0%HC1%HOR等の成分を除去し
て目的の不飽和ニトリル金生成する典型的な方法によっ
て、対応する不飽和環式ニトリルを得ることができる。
さらに、本発明によって用いることのできる、他の有用
な不飽和ニトリル前駆体には、ニトリルに転化すること
のできる、すなわち上述の有機化に述べられている方法
によってニトリルに転化することのできる、対応するア
ミド、カルボン酸まm1stry) (マグロ−・ヒ
ル・コーカクシャ(MaGraw H41l Koga
ksaha )、1977 )678.707.835
及び931頁に述べられているように、部分的に水素化
することのできる三重結合うに、塩基性または酸性の触
媒によって異性化することのできる二重結合<yaれた
位t)を含む二トリル化合物がある。
な不飽和ニトリル前駆体には、ニトリルに転化すること
のできる、すなわち上述の有機化に述べられている方法
によってニトリルに転化することのできる、対応するア
ミド、カルボン酸まm1stry) (マグロ−・ヒ
ル・コーカクシャ(MaGraw H41l Koga
ksaha )、1977 )678.707.835
及び931頁に述べられているように、部分的に水素化
することのできる三重結合うに、塩基性または酸性の触
媒によって異性化することのできる二重結合<yaれた
位t)を含む二トリル化合物がある。
さらに、本発明による不飽和ニトリルの他の製造方法に
は、置換アリル・ノ・ロゲンとシアン化物の反応がある
。
は、置換アリル・ノ・ロゲンとシアン化物の反応がある
。
このように、不飽和ニトリルで開始する代りの手段とし
て、次式の環式ケトンを を次式のα−シアノば: 〔式中、R,、R4、R,、R,、偽、0とpは上記で
定義した通りである〕 と、適切な触媒を含む適当な溶媒中で反応させて、上記
弐冨の目的環式不飽和ニトリルを得ることから成る、本
発明による反応系列を用いることができる。この反応全
体は次式1によって表すことができる: 式lによって示す全過程は実際には、例えば酢酸とベン
ゼンの混合物のような適当な溶媒中、例えば酢酸アンモ
ニウムのような適切な触媒の存在下及び実質的に無水条
件下において、環式ケトンとα−シアノ酸を先ず最初に
加熱することによって典型的に行われる。水は一般に反
応混合物から還流によって及び還流冷却管と水分離器を
用いて分離する。充分な反応期間後に、反応混合物音冷
却し、次式: を有する対応シクロアルケニル・シアノ酸である目的の
中間生成物を反応混合物から分離する。
て、次式の環式ケトンを を次式のα−シアノば: 〔式中、R,、R4、R,、R,、偽、0とpは上記で
定義した通りである〕 と、適切な触媒を含む適当な溶媒中で反応させて、上記
弐冨の目的環式不飽和ニトリルを得ることから成る、本
発明による反応系列を用いることができる。この反応全
体は次式1によって表すことができる: 式lによって示す全過程は実際には、例えば酢酸とベン
ゼンの混合物のような適当な溶媒中、例えば酢酸アンモ
ニウムのような適切な触媒の存在下及び実質的に無水条
件下において、環式ケトンとα−シアノ酸を先ず最初に
加熱することによって典型的に行われる。水は一般に反
応混合物から還流によって及び還流冷却管と水分離器を
用いて分離する。充分な反応期間後に、反応混合物音冷
却し、次式: を有する対応シクロアルケニル・シアノ酸である目的の
中間生成物を反応混合物から分離する。
次ニジクロアルケニル・シアノ酸に対して、式lの目的
不飽和ニトリルが得られるような熱条件及び真空条件を
用いる脱カルボキシル化を行う。
不飽和ニトリルが得られるような熱条件及び真空条件を
用いる脱カルボキシル化を行う。
このようにして、真空蒸留によってまたは蒸留せずに単
にシクロアルケニル・シアノ酸を熱条件及び真空条件に
さらすことによって、ニトリルが得られる。
にシクロアルケニル・シアノ酸を熱条件及び真空条件に
さらすことによって、ニトリルが得られる。
大ていの場合に1上記式([1のβ、r−不飽和二1J
A4次+7)構造式(u a )、(Ilb)または(
116)のいずれかを有すると考えられる: R@ Rt 〔式中、R2、R,、RいRI 、RIとR,は上記で
定義した通りである〕 不飽和環式ニトリルを得るまたは合成し友後に、次の段
階は目的の特定二環式ラクトンによって定まる。目的生
成物が上記の構造式(1g)によって示されるものであ
る場合には、この過程は上記構造式(IllKよって示
され、前記反応(IIKよって得られる不飽和ニトリル
を、適切な触媒の存在下の適当な溶媒中で、上記構造式
[相]のアルデヒドと反応させることから成る。このよ
うな場合には、下記の弐■に示すように、ニトリル、ア
ルデヒド及び生成物を典型的に表すことができる: 式lによって示す反応では、適当な溶媒と触媒を用いる
ことができ、酢酸エチルと塩化水素が典型的である。こ
の反応は酸/溶媒の他の種々な組合せを用いても実施す
ることができる。例えば、Ht80.、 (町は3また
は4である)、またはCX、H,−舊、C0OH(Xl
はCtまたはFであり、ガはθ〜3である)、またはバ
ラ・トルエン・スルホン酸、またはnxl (XtはB
TまたはIである)、ま九はHctor、(ガは3また
は4である)、またはHErO%、(%4は3または4
である)、またはHIO%l(町は3または4である)
のような醗、あるいは例えばAtC1z、1lncL1
またはBF3のようなルイス酸を、これらの組合せを含
めて用いることができる。
A4次+7)構造式(u a )、(Ilb)または(
116)のいずれかを有すると考えられる: R@ Rt 〔式中、R2、R,、RいRI 、RIとR,は上記で
定義した通りである〕 不飽和環式ニトリルを得るまたは合成し友後に、次の段
階は目的の特定二環式ラクトンによって定まる。目的生
成物が上記の構造式(1g)によって示されるものであ
る場合には、この過程は上記構造式(IllKよって示
され、前記反応(IIKよって得られる不飽和ニトリル
を、適切な触媒の存在下の適当な溶媒中で、上記構造式
[相]のアルデヒドと反応させることから成る。このよ
うな場合には、下記の弐■に示すように、ニトリル、ア
ルデヒド及び生成物を典型的に表すことができる: 式lによって示す反応では、適当な溶媒と触媒を用いる
ことができ、酢酸エチルと塩化水素が典型的である。こ
の反応は酸/溶媒の他の種々な組合せを用いても実施す
ることができる。例えば、Ht80.、 (町は3また
は4である)、またはCX、H,−舊、C0OH(Xl
はCtまたはFであり、ガはθ〜3である)、またはバ
ラ・トルエン・スルホン酸、またはnxl (XtはB
TまたはIである)、ま九はHctor、(ガは3また
は4である)、またはHErO%、(%4は3または4
である)、またはHIO%l(町は3または4である)
のような醗、あるいは例えばAtC1z、1lncL1
またはBF3のようなルイス酸を、これらの組合せを含
めて用いることができる。
さらに、酢酸エチルの極性よりもやや低い、酢酸エチル
の極性に等しいまたは酢酸エチルの極性よりも大きい極
性を有する有用な溶媒、例えばエーテル(例えばジオキ
サン、テトラヒドロフラン、クリコールモノエーテル、
グリコールジエーテル、ジグリコールエーテルまたはト
リグリコールエーテル、またはポリグリコールエーテル
)またはアルコールC例、tばメタノール、エタノール
、九−プロパツール、1so−プロパツール、界−ブタ
ノール、1ao−ブタノールまたはt−ブタノール、及
び多様な他の高沸点アルコール)または酸〔例えば、ギ
酸、酢酸、モノハロゲン化(例えばフルオロ−またはク
ロロ−)酢酸またはH3PO4〕または例えば上記の要
件を満たすような、他の周矧の溶媒(例えばジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド)も本発明の実施に
有用であることがわかっている。
の極性に等しいまたは酢酸エチルの極性よりも大きい極
性を有する有用な溶媒、例えばエーテル(例えばジオキ
サン、テトラヒドロフラン、クリコールモノエーテル、
グリコールジエーテル、ジグリコールエーテルまたはト
リグリコールエーテル、またはポリグリコールエーテル
)またはアルコールC例、tばメタノール、エタノール
、九−プロパツール、1so−プロパツール、界−ブタ
ノール、1ao−ブタノールまたはt−ブタノール、及
び多様な他の高沸点アルコール)または酸〔例えば、ギ
酸、酢酸、モノハロゲン化(例えばフルオロ−またはク
ロロ−)酢酸またはH3PO4〕または例えば上記の要
件を満たすような、他の周矧の溶媒(例えばジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド)も本発明の実施に
有用であることがわかっている。
溶媒または醗の濃度は0.1〜99%の範囲であり、圧
力は1〜106気圧の範囲である。
力は1〜106気圧の範囲である。
弐Hによって示す生成物は不飽和であるので、このよう
な化合物を水素化してこれらの水素化対応物を形成する
ことは容易に可能である。このような反応は下記の弐1
1[Kよって示される:目的の二環式ラクトンが上記構
造式(16)によって示すものである場合には、本発明
の方法は上記構造式(II)によって示すような(前記
反応段階lによって得られるよりな)不飽和ニトリルを
適当な触媒と溶媒の存在下の酸性条件下で加熱すること
から成る。このような場合に、ニトリルと生成物は下記
の式■によって示すように典型的に表される: 式■に示す二環式ラクトンの構造が構造異性化によって
変化し得ることは、当然理解すべきである゛。従って、
ニトリル含有側鎖が付着している環−炭素原子である第
一環炭素と、水素原子を失って利用可能な位置を生じる
他の環−炭素との間にラクトン環自体が形成される。
な化合物を水素化してこれらの水素化対応物を形成する
ことは容易に可能である。このような反応は下記の弐1
1[Kよって示される:目的の二環式ラクトンが上記構
造式(16)によって示すものである場合には、本発明
の方法は上記構造式(II)によって示すような(前記
反応段階lによって得られるよりな)不飽和ニトリルを
適当な触媒と溶媒の存在下の酸性条件下で加熱すること
から成る。このような場合に、ニトリルと生成物は下記
の式■によって示すように典型的に表される: 式■に示す二環式ラクトンの構造が構造異性化によって
変化し得ることは、当然理解すべきである゛。従って、
ニトリル含有側鎖が付着している環−炭素原子である第
一環炭素と、水素原子を失って利用可能な位置を生じる
他の環−炭素との間にラクトン環自体が形成される。
従って、上記構造式においてAは次の環:を表す。この
環から環−炭素の水素原子が除去されて、この炭素原子
とラクトン環の酸素原子との間に結合が形成される。ラ
クトンはγ−ラクトンである必要がなく、例えばδ−ラ
クトンも可能であるので、生成するラクトンは反応条件
等に依存して種々な構造をとり得る。下記の実施例の構
造式(Ib)k有する生成物を表す場合に用いたように
、環の炭素−酸素結合を示すために、前記結合を有する
環炭素原子の番号を示すことにする。従って、ラクトン
環の1部をも形成する、Raが付着した環炭素原子を番
号lと呼ぶことにし、元のニトリル環の残りの炭素原子
を時計回りに逐次番号をつけることにする。
環から環−炭素の水素原子が除去されて、この炭素原子
とラクトン環の酸素原子との間に結合が形成される。ラ
クトンはγ−ラクトンである必要がなく、例えばδ−ラ
クトンも可能であるので、生成するラクトンは反応条件
等に依存して種々な構造をとり得る。下記の実施例の構
造式(Ib)k有する生成物を表す場合に用いたように
、環の炭素−酸素結合を示すために、前記結合を有する
環炭素原子の番号を示すことにする。従って、ラクトン
環の1部をも形成する、Raが付着した環炭素原子を番
号lと呼ぶことにし、元のニトリル環の残りの炭素原子
を時計回りに逐次番号をつけることにする。
上記のことを説明するために、本発明の特定の1実施例
では、下記で考察する化合物CIC24を次に示すよう
な反応によって製造する:この式では、ラクトン環の酸
素原子が付着する環炭素原子を確認のために番号5を割
当てる。従って、前記反応においてR4=H%tn=
1、E@=CM、−1o=1、R,=H,p=2及びR
1=Hである。
では、下記で考察する化合物CIC24を次に示すよう
な反応によって製造する:この式では、ラクトン環の酸
素原子が付着する環炭素原子を確認のために番号5を割
当てる。従って、前記反応においてR4=H%tn=
1、E@=CM、−1o=1、R,=H,p=2及びR
1=Hである。
本発明に関するかぎり、β、r−不飽和二トリル化合物
を出発゛物質として用いることが好ましい。
を出発゛物質として用いることが好ましい。
本発明にこれらを用いるためには異性化が必要ないから
である。
である。
本発明の方法に用いるアルデヒドはホルムアルデヒドか
またはアセトアルデヒドであり、これらのアルデヒドを
そのもの自体として用いることができるが、これらの代
りKこのようなアルデヒドの典型的なソースを用いるこ
ともできる。従って、本発明ではパラホルムアルデヒド
またはトリオキサンをホルムアルデヒドの典型的なソー
スとして、またメタアルデヒドをアセトアルデヒドのソ
ースとして用いることができる。
またはアセトアルデヒドであり、これらのアルデヒドを
そのもの自体として用いることができるが、これらの代
りKこのようなアルデヒドの典型的なソースを用いるこ
ともできる。従って、本発明ではパラホルムアルデヒド
またはトリオキサンをホルムアルデヒドの典型的なソー
スとして、またメタアルデヒドをアセトアルデヒドのソ
ースとして用いることができる。
本田at通して、本発明の方法によって合成した二環式
ラクトン@ 「crc」化合物と呼び、これを次のよう
に定義す机ClC2は2−ヒドロキシメチル−3−メチ
ルシクロペンチル−α−プロピオン酸ラクトンである。
ラクトン@ 「crc」化合物と呼び、これを次のよう
に定義す机ClC2は2−ヒドロキシメチル−3−メチ
ルシクロペンチル−α−プロピオン酸ラクトンである。
ClC5は2−ヒドロキシメチルシクロヘキシル−α−
プロピオン酸ラクトンである。ClC4は2−ヒドロキ
シメチルシクロヘキシル酢酸ラクトンである。ClC5
は2−ヒドロキシメチルシクロヘキシリデン−α−プロ
ピオン酸ラクトンである。ClC6は2−ヒ゛ドロキシ
メチルシクロペンチル酢酸ラクトンである。ClC7は
2−ヒドロキシメチルシクロヘキシリデン酢酸ラクトン
である。CICBは2−ヒドロキシメチルシクロペンチ
、ルーα−プロピオン酸酢酸ラクトンである。ClC9
は2−ヒドロキシメチルシクロペンチリデン酢酸ラクト
ンである。
プロピオン酸ラクトンである。ClC4は2−ヒドロキ
シメチルシクロヘキシル酢酸ラクトンである。ClC5
は2−ヒドロキシメチルシクロヘキシリデン−α−プロ
ピオン酸ラクトンである。ClC6は2−ヒ゛ドロキシ
メチルシクロペンチル酢酸ラクトンである。ClC7は
2−ヒドロキシメチルシクロヘキシリデン酢酸ラクトン
である。CICBは2−ヒドロキシメチルシクロペンチ
、ルーα−プロピオン酸酢酸ラクトンである。ClC9
は2−ヒドロキシメチルシクロペンチリデン酢酸ラクト
ンである。
ClC10は2−ヒドロキシメチルシクロペンチリデン
−α−プロピオン酸ラクトンである。CICIN’!、
2−ヒドロキシメチル−3−メチルシクロペンチリデン
−α−プロピオン酸ラクトンである。
−α−プロピオン酸ラクトンである。CICIN’!、
2−ヒドロキシメチル−3−メチルシクロペンチリデン
−α−プロピオン酸ラクトンである。
ClC12は2−ヒドロキシメチルシクロヘキシリデン
−α−酪酸ラクトンである。CICl3は2−ヒドロキ
シメチルシクロペンチリチン−α−酪酸ラクトンである
。ClC14は2−(l−ヒドロキシエチル)シクロヘ
キシリデン酢酸ラクトンである。CICl3は2−(1
−ヒドロキシエチル)シクロヘキシリデン−α−酪酸ラ
クトンでアル。ClCl 6は2−(1−ヒドロキシエ
チル)シクロヘキシリデン−α−プロピオン酸ラクトン
である。CIC17は2−(1−ヒドロキシエチル)シ
クロヘプチリデンーα−プロピオン酸ラクトンである。
−α−酪酸ラクトンである。CICl3は2−ヒドロキ
シメチルシクロペンチリチン−α−酪酸ラクトンである
。ClC14は2−(l−ヒドロキシエチル)シクロヘ
キシリデン酢酸ラクトンである。CICl3は2−(1
−ヒドロキシエチル)シクロヘキシリデン−α−酪酸ラ
クトンでアル。ClCl 6は2−(1−ヒドロキシエ
チル)シクロヘキシリデン−α−プロピオン酸ラクトン
である。CIC17は2−(1−ヒドロキシエチル)シ
クロヘプチリデンーα−プロピオン酸ラクトンである。
Cl018は2−(l−ヒドロキシエチル)シクロペン
チリデン酢酸ラクトンである。
チリデン酢酸ラクトンである。
CIC19は2−(1−ヒドロキシエチル)シクロヘキ
シリデン酢酸ラクトンである。ClC20は2−ヒドロ
キシ・シクロヘキシル−α−プロピオン酸ラクトンであ
る。ClC21は2−ヒドロキシ−4−メチルシクロヘ
キシル−α−プロピオン酸ラクトンである。ClC22
は2−ヒドロキシ−3−メチルシクロヘキシル−α−プ
ロピオン酸ラクトンと2−ヒドロキシ−5−メチルシク
ロヘキシル−α−プロピオン酸ラクトンとの混合物であ
る。CIC23は3−ヒドロキシシクロヘキシル−α−
プロピオン酸ラクトンである。Cl024番ま3−ヒド
ロキシ−4−メチルシクロヘキシル−α−プロピオン酸
ラクトンである。CIC25は3−ヒドロキシ−3−メ
チルシクロヘキシル−α−プロピオン酸ラクトンと3−
ヒドロキシ−5−メチルシクロヘキシル−α−プロピオ
ン酸ラクトンの混合物である。CIC26は2−ヒドロ
キシメチルシクロヘプチル−α、α−ジメチル酢識ラク
トンである。CIC27は2−ヒドロキシシクロヘキシ
ル酢酸ラクトンである。Cl028は2−ヒドロキシメ
チルシクロヘプチリテンーα−酪酸ラクトンである。C
IC29は2−(1−ヒドロキシエチル)シクロヘプチ
リデン酢酸ラクトンである。ClC50は2−ヒドロキ
シエチルシクロヘプチル酢酸ラクトンである。CIC3
1は2−ヒドロキシシクロペンチル酢酸ラクトンである
。CIC32は2−ヒドロキシメチルシクロヘキセニル
酢酸ラクトンである。CIC33は2−ヒドロキシメチ
ルシクロヘプチルーα。
シリデン酢酸ラクトンである。ClC20は2−ヒドロ
キシ・シクロヘキシル−α−プロピオン酸ラクトンであ
る。ClC21は2−ヒドロキシ−4−メチルシクロヘ
キシル−α−プロピオン酸ラクトンである。ClC22
は2−ヒドロキシ−3−メチルシクロヘキシル−α−プ
ロピオン酸ラクトンと2−ヒドロキシ−5−メチルシク
ロヘキシル−α−プロピオン酸ラクトンとの混合物であ
る。CIC23は3−ヒドロキシシクロヘキシル−α−
プロピオン酸ラクトンである。Cl024番ま3−ヒド
ロキシ−4−メチルシクロヘキシル−α−プロピオン酸
ラクトンである。CIC25は3−ヒドロキシ−3−メ
チルシクロヘキシル−α−プロピオン酸ラクトンと3−
ヒドロキシ−5−メチルシクロヘキシル−α−プロピオ
ン酸ラクトンの混合物である。CIC26は2−ヒドロ
キシメチルシクロヘプチル−α、α−ジメチル酢識ラク
トンである。CIC27は2−ヒドロキシシクロヘキシ
ル酢酸ラクトンである。Cl028は2−ヒドロキシメ
チルシクロヘプチリテンーα−酪酸ラクトンである。C
IC29は2−(1−ヒドロキシエチル)シクロヘプチ
リデン酢酸ラクトンである。ClC50は2−ヒドロキ
シエチルシクロヘプチル酢酸ラクトンである。CIC3
1は2−ヒドロキシシクロペンチル酢酸ラクトンである
。CIC32は2−ヒドロキシメチルシクロヘキセニル
酢酸ラクトンである。CIC33は2−ヒドロキシメチ
ルシクロヘプチルーα。
α−ジメチル酢酸ラクトンである。CIC34は2−ヒ
ドロキシメチル−4−メチルシクロヘキシリデン酢酸ラ
クトンである。CIC35は2−ヒドロキシメチル−4
−メチルシクロヘキシリデン−α−酪酸ラクトンである
。CIC36は2−(1−ヒドロキシメチル)−6−メ
チルシクロヘキシリデン酢酸ラクトンと2−(1−ヒド
ロキシエチル)−2−メチルシクロヘキシリデン酢酸ラ
クトンとの混合物である。CIC37は5,6−シメチ
ルー2−ヒドロキシメチルシクロヘキシリデン酢酸ラク
トンと2,3−ジメチル−2−ヒドロキシメチルシクロ
ヘキシリデン酢酸ラクトンとの混合物である。CIC3
8は3,5−ジメチル−2−ヒドロキシメチルシクロペ
ンチリデン酢酸ラクトンと2,4−ジメチル−2−ヒド
ロキシメチルシクロペンチリデン酢酸ラクトンとの混合
物である。
ドロキシメチル−4−メチルシクロヘキシリデン酢酸ラ
クトンである。CIC35は2−ヒドロキシメチル−4
−メチルシクロヘキシリデン−α−酪酸ラクトンである
。CIC36は2−(1−ヒドロキシメチル)−6−メ
チルシクロヘキシリデン酢酸ラクトンと2−(1−ヒド
ロキシエチル)−2−メチルシクロヘキシリデン酢酸ラ
クトンとの混合物である。CIC37は5,6−シメチ
ルー2−ヒドロキシメチルシクロヘキシリデン酢酸ラク
トンと2,3−ジメチル−2−ヒドロキシメチルシクロ
ヘキシリデン酢酸ラクトンとの混合物である。CIC3
8は3,5−ジメチル−2−ヒドロキシメチルシクロペ
ンチリデン酢酸ラクトンと2,4−ジメチル−2−ヒド
ロキシメチルシクロペンチリデン酢酸ラクトンとの混合
物である。
表1(下記)に記載しないが、他の「CIC」化合物も
本出願に関連しており、次のように定義される。CIC
39は2−ヒドロキシメチルシクロヘキシリデン酢酸で
ある。CIC40は2−メチルシクロへキシリデン酢酸
である。CIC41は2−ヒドロキシメチルシクロヘキ
シル酢酸である。
本出願に関連しており、次のように定義される。CIC
39は2−ヒドロキシメチルシクロヘキシリデン酢酸で
ある。CIC40は2−メチルシクロへキシリデン酢酸
である。CIC41は2−ヒドロキシメチルシクロヘキ
シル酢酸である。
CIC42は2−ヒドロキシシクロヘキシル酢酸である
。CIC43はシクロヘキシル酢酸である。
。CIC43はシクロヘキシル酢酸である。
CIC44は2−アミノシクロヘキシル酢酸ラクタムで
ある。
ある。
本発明によって合成した二環式ラクトン化合物を下記の
表1に記載する。さらに、これらの「CIC」化合物の
物理的性質(すなわち、沸点の圧力と温度)ならびに本
発明を用いた場合の収率を表1にリストする。
表1に記載する。さらに、これらの「CIC」化合物の
物理的性質(すなわち、沸点の圧力と温度)ならびに本
発明を用いた場合の収率を表1にリストする。
次の実施例において、本発明の方法の特別な反応の詳細
を述べる。
を述べる。
実施例
還流冷却器と水分離器金偏えた、2を丸底フラスコ中で
、シアノ酢酸170r(2惰o1g)、シクロヘキサノ
ン196 t (2mole)、酢酸アンモニウム10
F (0,13惰o1m ) s酢酸24 f (0
,4moJs)とベンゼン380−i−緒にし、この混
合物を6時間(還流)加熱した。冷却し、揮発性化合物
を真空除去し、残渣を水で洗浄して、シクロヘキシリデ
ンシアノ酢酸360 f (1,8雇0l−290%収
率)を得た。シアン酢酸を50トリチエリ(toデr、
)の真空下で蒸留し、50 Torr、において沸点1
15〜120℃を有するシアノヘキセニル酢酸ニトリル
196り(1,6tnolg、シクロヘキサノンに基づ
いて81%収率、またはシクロヘキシリデンシアノ酢酸
に基づいて90%収率)全書た。←最後に挙げた段階で
シアノ酢酸を真空蒸留することの代替手段として、シア
ノヘキシリデンシアン酢酸の他の部分を50〜70 T
orr−の真空下で140〜150℃に2.5時間加熱
すると、不純なシクロヘキセニル酢酸ニトリルに容易に
転化し得ることが判明した) 還流冷却器を備えた、1を一丸底フラスコ中で、シクロ
ヘキセニル酢酸ニトリル100 F (0,83moJ
*)、トリオキサン44 t (0,49mole)、
濃塩酸300+/(3,12mole)及び酢酸エチル
3oO1を一緒KL、200分間還流させた。冷却して
、過剰なHClを真空除去し、H,o500ydk加え
た。
、シアノ酢酸170r(2惰o1g)、シクロヘキサノ
ン196 t (2mole)、酢酸アンモニウム10
F (0,13惰o1m ) s酢酸24 f (0
,4moJs)とベンゼン380−i−緒にし、この混
合物を6時間(還流)加熱した。冷却し、揮発性化合物
を真空除去し、残渣を水で洗浄して、シクロヘキシリデ
ンシアノ酢酸360 f (1,8雇0l−290%収
率)を得た。シアン酢酸を50トリチエリ(toデr、
)の真空下で蒸留し、50 Torr、において沸点1
15〜120℃を有するシアノヘキセニル酢酸ニトリル
196り(1,6tnolg、シクロヘキサノンに基づ
いて81%収率、またはシクロヘキシリデンシアノ酢酸
に基づいて90%収率)全書た。←最後に挙げた段階で
シアノ酢酸を真空蒸留することの代替手段として、シア
ノヘキシリデンシアン酢酸の他の部分を50〜70 T
orr−の真空下で140〜150℃に2.5時間加熱
すると、不純なシクロヘキセニル酢酸ニトリルに容易に
転化し得ることが判明した) 還流冷却器を備えた、1を一丸底フラスコ中で、シクロ
ヘキセニル酢酸ニトリル100 F (0,83moJ
*)、トリオキサン44 t (0,49mole)、
濃塩酸300+/(3,12mole)及び酢酸エチル
3oO1を一緒KL、200分間還流させた。冷却して
、過剰なHClを真空除去し、H,o500ydk加え
た。
水層を各回、酢酸エチル200−ずつで3回抽出した。
有機層を一緒にし、Na2SO4上で乾燥させ、上記の
溶媒を真空除去した。残渣を真空蒸留したところ、0−
I Torr、において沸点110℃を有する2−ヒド
ロキシメチルシクロヘキシリデン酢酸ラクトン(ここで
は「ClC7」と呼ぶ)(1967年以後のケミカル・
アブストラフ) (Charn、 Ab−8t、)命名
法では、1,5,6,7,8.87!−ヘキサヒトcr
−3H−2−ベンゾビラン−3−オン) 76.9 ?
(0,50majs 、すなわち61%収率)が得ら
れた。シクロヘキセニル酢酸ニトリル21t (0,1
7mole、すなわち21%収率)も得られた。
溶媒を真空除去した。残渣を真空蒸留したところ、0−
I Torr、において沸点110℃を有する2−ヒド
ロキシメチルシクロヘキシリデン酢酸ラクトン(ここで
は「ClC7」と呼ぶ)(1967年以後のケミカル・
アブストラフ) (Charn、 Ab−8t、)命名
法では、1,5,6,7,8.87!−ヘキサヒトcr
−3H−2−ベンゾビラン−3−オン) 76.9 ?
(0,50majs 、すなわち61%収率)が得ら
れた。シクロヘキセニル酢酸ニトリル21t (0,1
7mole、すなわち21%収率)も得られた。
蒸留受器内で結晶化した生成物ClC7は融点45℃を
有することが判明し、さらにヘキサン中で再結晶融点5
8・〜59℃會有す全方とが判明した。
有することが判明し、さらにヘキサン中で再結晶融点5
8・〜59℃會有す全方とが判明した。
アルカリ性加水分解を含む、代替精製方法も本発明の実
施に有用であることが判明した。特に、反応混合物を水
で洗浄した後に、NaOHまたはKOH水溶液で処理す
ると、水層中に対応ナトリウム塩またはカリウム塩とし
て存在するラクトンが得られる。水層を100%過剰量
のI N B、SO2によって40℃において40分間
酸性化すると、70%収率までのClC7が得られる。
施に有用であることが判明した。特に、反応混合物を水
で洗浄した後に、NaOHまたはKOH水溶液で処理す
ると、水層中に対応ナトリウム塩またはカリウム塩とし
て存在するラクトンが得られる。水層を100%過剰量
のI N B、SO2によって40℃において40分間
酸性化すると、70%収率までのClC7が得られる。
同じ方法を用いて、ClC5、ClC9〜CIC19、
CIC2B、CIC29及びCIC33〜CIC3B’
ff対応する置換シクロペンテニル、シクロヘキセニル
及ヒシクロヘプテニル・ニトリルを表1に示すように、
対応アルデヒド成分とともに用いて製造した。
CIC2B、CIC29及びCIC33〜CIC3B’
ff対応する置換シクロペンテニル、シクロヘキセニル
及ヒシクロヘプテニル・ニトリルを表1に示すように、
対応アルデヒド成分とともに用いて製造した。
合成
飽和化合物を対応するラクトンの水素化によって製造し
た。典型的な水素化実験では、オートクレーブ中でCl
C755f(0,36mole)、ラネーニッケル5t
とエタノール200ff−緒にし、80℃及び水素圧1
00気圧において、オートクレーブ内で一定圧力に達す
るまで、すなわち約3時間水素化した。その後、ラネー
ニッケルを濾過によって除去し、揮発性化合物を真空除
去した。蒸留によって、0.01 Toデデ、において
78℃の沸点を有するClC445f(CIC7に基づ
いて81%収率)が得られた。再び同じ方法を用いて、
ClC2〜ClC4、ClC6、ClC8及びCIC2
6をここではCIC11、ClC5、ClC7、ClC
9、ClC10及びCIC33と呼ぶ、対応ラクトンか
らそれぞれ製造した。
た。典型的な水素化実験では、オートクレーブ中でCl
C755f(0,36mole)、ラネーニッケル5t
とエタノール200ff−緒にし、80℃及び水素圧1
00気圧において、オートクレーブ内で一定圧力に達す
るまで、すなわち約3時間水素化した。その後、ラネー
ニッケルを濾過によって除去し、揮発性化合物を真空除
去した。蒸留によって、0.01 Toデデ、において
78℃の沸点を有するClC445f(CIC7に基づ
いて81%収率)が得られた。再び同じ方法を用いて、
ClC2〜ClC4、ClC6、ClC8及びCIC2
6をここではCIC11、ClC5、ClC7、ClC
9、ClC10及びCIC33と呼ぶ、対応ラクトンか
らそれぞれ製造した。
アルデヒド成分を用いないで、ラクトンClC20〜C
IC25、CIC27、ClC50とClC51を製造
した。
IC25、CIC27、ClC50とClC51を製造
した。
本発明の方法を用いる他の典型的な実験では、シクロヘ
キセニル酢酸ニトリル5 t (41mtnolm )
、硫酸5−と氷酢酸20mの混合物を2時間、還流加熱
し、冷却時に水10〇−中に注入した。エーテルを用い
て(すなわち、エーテル全30−ずつ4回添加して)完
全に抽出した後に、エーテル層f N at S O,
上で乾燥させ、エーテルを真空除去し、残渣を真空蒸留
したところ、0.1TOrデ、において110℃の沸点
を有するCl027 3.55?(25,4mmole
、 62%収率)が得られた。蒸留残渣は王としてC
IC44から成ることがわかり、エーテルによる処理に
よってCIC44が得られた( o、s r生成、13
%収率)。
キセニル酢酸ニトリル5 t (41mtnolm )
、硫酸5−と氷酢酸20mの混合物を2時間、還流加熱
し、冷却時に水10〇−中に注入した。エーテルを用い
て(すなわち、エーテル全30−ずつ4回添加して)完
全に抽出した後に、エーテル層f N at S O,
上で乾燥させ、エーテルを真空除去し、残渣を真空蒸留
したところ、0.1TOrデ、において110℃の沸点
を有するCl027 3.55?(25,4mmole
、 62%収率)が得られた。蒸留残渣は王としてC
IC44から成ることがわかり、エーテルによる処理に
よってCIC44が得られた( o、s r生成、13
%収率)。
上記製造法において濃塩酸全硫酸の代りに用いると、γ
−及びδ−ラクトンが形成された。γ−ラクトンとδ−
ラクトンは調製用シリカゲルクロマトグラフィを用い、
次に分離要素としてヘキサン/酢酸エチル音用いること
によって分離することができる。
−及びδ−ラクトンが形成された。γ−ラクトンとδ−
ラクトンは調製用シリカゲルクロマトグラフィを用い、
次に分離要素としてヘキサン/酢酸エチル音用いること
によって分離することができる。
対応する出発物質を用いて、表1に記載したシクロアル
キル酢酸−1α−プロピオン酸−及びα−酪酪酸プラク
トン比較的容易に得られることが判明した。
キル酢酸−1α−プロピオン酸−及びα−酪酪酸プラク
トン比較的容易に得られることが判明した。
誘導体の合成
この新規方法の用途の広さは、ラクトン型化合物の誘導
体化の範囲によって示される。すなわち、ClC7の異
性体であるCIC32のようなβ−γ、γ−δまたはδ
−ε不飽和ラクトンを生ずる二重結合の異性化によって
示される。
体化の範囲によって示される。すなわち、ClC7の異
性体であるCIC32のようなβ−γ、γ−δまたはδ
−ε不飽和ラクトンを生ずる二重結合の異性化によって
示される。
例えば、ClC7に関するこのような異性化機構の1つ
を次に示す。ClC740?(0,26mole)、水
酸化カリウム50り及び水80rnI!ff1−緒にし
、密閉ガラス管中で130℃において18時間加熱した
。冷却し、希釈した反応混合物を四塩化炭素で抽出した
後に、水層を酸性化し、クロロホルムによって完全に抽
出した。有機層をNa2SO4上で乾燥させ、真空濃縮
した。残渣を蒸留すると、CIC32359(0,23
yaoJg 。
を次に示す。ClC740?(0,26mole)、水
酸化カリウム50り及び水80rnI!ff1−緒にし
、密閉ガラス管中で130℃において18時間加熱した
。冷却し、希釈した反応混合物を四塩化炭素で抽出した
後に、水層を酸性化し、クロロホルムによって完全に抽
出した。有機層をNa2SO4上で乾燥させ、真空濃縮
した。残渣を蒸留すると、CIC32359(0,23
yaoJg 。
88%収率)が得られた。
r−ヒドロキシ−またはδ−ヒドロキシ−カルボン酸(
CIC39のような)への加水分解は次のように実施す
る。ClC71(1(82,6惟tno1g)とIN水
酸化カリウム溶液100−を約50℃において10分間
加熱し、次に氷−水浴にさらした。次に水冷溶液をIN
硫酸溶液10〇−によって処理し、エーテルで完全に抽
出した。エーテル溶解性反応生成物の結晶化によって、
融点109℃を有するCIC394,’l(29mtn
o1m 、 35%収率)が得られた。
CIC39のような)への加水分解は次のように実施す
る。ClC71(1(82,6惟tno1g)とIN水
酸化カリウム溶液100−を約50℃において10分間
加熱し、次に氷−水浴にさらした。次に水冷溶液をIN
硫酸溶液10〇−によって処理し、エーテルで完全に抽
出した。エーテル溶解性反応生成物の結晶化によって、
融点109℃を有するCIC394,’l(29mtn
o1m 、 35%収率)が得られた。
このようなカルボン酸を水素化して、CIC40を得る
ことができる。水素化段階はClC4ヲ裂造するための
上述の方法を用いて、または周囲温度(すなわち、21
〜27℃)において触媒として10%Pd/Ct−用い
て実施した。このようなカルボン酸を水素化してCIC
40またはCIC41を得ることもできる。従って、C
IC27を加水分解してCIC42”IC形成し、これ
から例えばCIC43のような他の誘導体を形成するこ
とができる。
ことができる。水素化段階はClC4ヲ裂造するための
上述の方法を用いて、または周囲温度(すなわち、21
〜27℃)において触媒として10%Pd/Ct−用い
て実施した。このようなカルボン酸を水素化してCIC
40またはCIC41を得ることもできる。従って、C
IC27を加水分解してCIC42”IC形成し、これ
から例えばCIC43のような他の誘導体を形成するこ
とができる。
同様に、ラクトンをアンモニアまたは第一アミンとの反
応によって、CIC44のような、対応δ−アミノ酸の
ラクタムに転化することができる、または第二アミンと
の反応によって、ヒドロキシアミドに転化することがで
きる。
応によって、CIC44のような、対応δ−アミノ酸の
ラクタムに転化することができる、または第二アミンと
の反応によって、ヒドロキシアミドに転化することがで
きる。
さらに、チオ化合物との同じような反応によって対応す
るチオラクトンとその誘導体が得られる。
るチオラクトンとその誘導体が得られる。
さらにまた、カルボニル基は周知の方法によってイミノ
基またはチオノ基に転化することができる。
基またはチオノ基に転化することができる。
不飽和ニトリルの反応に基づく、新規なラクトン製造方
法を好ましい実施態様に関連して述べてきたが、本発明
の範囲がこのような実施態様に限定されないこ七に注意
すべきである。逆に、前述の説明を読むと尚業者には、
本発明の代替手段、変化または変更が容易に理解される
と思われる。
法を好ましい実施態様に関連して述べてきたが、本発明
の範囲がこのような実施態様に限定されないこ七に注意
すべきである。逆に、前述の説明を読むと尚業者には、
本発明の代替手段、変化または変更が容易に理解される
と思われる。
従って、このような代替手段、変化及び変更は、本発明
の精神及び特許請求の範囲に入るものであるかぎり、本
発明の1部をなすと考えるべきである。
の精神及び特許請求の範囲に入るものであるかぎり、本
発明の1部をなすと考えるべきである。
代 理 人 弁理士 湯 浅 恭 三(外5名)
Claims (4)
- (1)次式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_3、R_4、R_5とR_6は各々独立し
て−H、−CH_3から成る群から選択され、R_2は
−H、−CH_3及び−C_2H_5から成る群から選
択され、R_3は−Hまたは−CH_3であり、mは1
〜5の整数であり、oは0、1、2または3であり、p
は0、1または2であり、m+o+pの合計は3〜5の
整数である〕 を有するβ,γ−不飽和環式ニトリルと次式:▲数式、
化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1は−Hと−CH_3から成る群から選択
される〕 を有するアルデヒドとを 水性酸性条件下で 少なくとも反応物の1部が 次式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1、R_2、R_4、R_5、R_6、m
、oとpは上記で定義した通りであり、R_3は−CH
_3であるか、またはR_■が水素である場合には、R
_3はR_7とともに炭素−炭素結合を表わし、R_7
はR_3またはR_■とともに炭素−炭素結合を表わし
、R_■は−Hであるか、またはR_3が−CH_3で
ある場合には、R_3はR_7とともに炭素−炭素結合
を表わす〕を有する二環式ラクトンに転化するに充分な
時間、加熱することから成る二環式ラクトンの製造方法
。 - (2)次式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_3、R_4、R_5とR_6は各々独立し
て−H、−CH_3から成る群から選択され、R_2は
−H、−CH_3及び−C_2H_5から成る群から選
択され、R_5は−Hまたは−CH_3であり、mは1
〜5の整数であり、oは0、1、2または3であり、p
は0、1または2であり、m+o+pの合計は3〜5の
整数である〕 を有するβ,γ−不飽和環式ニトリルと次式:▲数式、
化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1は−Hと−CH_3から成る群から選択
される〕 を有するアルデヒドとを 水性酸性条件下で 少なくとも反応物の1部が 次式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1、R_2、R_4、R_5、R_6、m
、oとpは上記で定義した通りであり、R_3は−CH
_3であるか、またはR_■が水素である場合には、R
_3はR_7とともに炭素−炭素結合を表わし、R_7
はR_3またはR_8とともに炭素−炭素結合を表わし
、R_■は−Hであるか、またはR_3が−CH_3で
ある場合には、R_■はR_7とともに炭素−炭素結合
を表わす〕を有する二環式ラクトンに転化するに充分な
時間、加熱し、このラクトンを水素化して、 次式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1、R_2、R_3、R_4、R_5、R
_6、R_8、m、oとpは上記定義を有する〕 を有する飽和二環式ラクトンを形成する方法。 - (3)次式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Aは次の基を表わす: ▲数式、化学式、表等があります▼ この基では環−炭素から付加的な水素原子が除去され、
前記環−炭素とラクトン環の酸素原子との間に炭素−酸
素結合が形成され; R_3、R_4、R_5、R_6とR_8の各々は−H
_と−CH_3から成る群から独立して選択され; R_7は水素であり;ならびに mは1〜5の整数であり、 oは0、1、2または3であり、及び pは0、1または2であり、 m+o+pの合計は3〜5の整数である〕 を有する二環式ラクトンの製造方法において、次式: ▲数式、化学式、表等があります▼ を有するβ,γ−不飽和環式ニトリルを水性酸性条件下
で、 ニトリルの少なくとも1部が目的のラクトンに転化する
に充分な時間加熱することから成る方法。 - (4)次式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_4、R_5、R_6、R_8、m、oとp
は特許請求の範囲第1項で定義した意味を有する〕 を有する環式ケトンを、 次式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_2は特許請求の範囲第1項で定義した通り
である〕 を有するα−シアノ酸と 適当な溶媒中、適切な触媒の存在下及び実質的に無水の
条件下で反応させて、 次式: ▲数式、化学式、表等があります▼ を有するシクロアルケニルシアノ酸を形成し、前記シク
ロアルケニルシアノ酸を脱カルボキシル化させて、目的
の不飽和環式ニトリルを形成することによつて、不飽和
環式ニトリルが最初に得られる特許請求の範囲第1項ま
たは第2項記載の方法。
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