JPS6276622A - 縮小投影式アライメント方法及びその装置 - Google Patents

縮小投影式アライメント方法及びその装置

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02170515A (ja) * 1988-12-23 1990-07-02 Canon Inc 半導体製造装置及び方法
WO2005083756A1 (ja) * 2004-03-01 2005-09-09 Nikon Corporation 事前計測処理方法、露光システム及び基板処理装置
US7728953B2 (en) 2004-03-01 2010-06-01 Nikon Corporation Exposure method, exposure system, and substrate processing apparatus

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02170515A (ja) * 1988-12-23 1990-07-02 Canon Inc 半導体製造装置及び方法
WO2005083756A1 (ja) * 2004-03-01 2005-09-09 Nikon Corporation 事前計測処理方法、露光システム及び基板処理装置
JPWO2005083756A1 (ja) * 2004-03-01 2007-11-29 株式会社ニコン 事前計測処理方法、露光システム及び基板処理装置
US7728953B2 (en) 2004-03-01 2010-06-01 Nikon Corporation Exposure method, exposure system, and substrate processing apparatus
JP4760705B2 (ja) * 2004-03-01 2011-08-31 株式会社ニコン 事前計測処理方法、露光システム及び基板処理装置
TWI395075B (zh) * 2004-03-01 2013-05-01 尼康股份有限公司 Prior measurement processing method, exposure system and substrate processing device

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