JPS6271090A - 半導体メモリ - Google Patents

半導体メモリ

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JPS6271090A
JPS6271090A JP60211534A JP21153485A JPS6271090A JP S6271090 A JPS6271090 A JP S6271090A JP 60211534 A JP60211534 A JP 60211534A JP 21153485 A JP21153485 A JP 21153485A JP S6271090 A JPS6271090 A JP S6271090A
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JP
Japan
Prior art keywords
bit line
line
bit
level
semiconductor memory
Prior art date
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Pending
Application number
JP60211534A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshio Takeshima
竹島 俊夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Publication of JPS6271090A publication Critical patent/JPS6271090A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (座業上の利用分野) 本発明は半導体メモリに関し、特にリファレンスレベル
を発生するためのダミー回路を有する半導体メモリに関
する。
(従来の技術) 従来の半導体メモリのなかで、特にビット線のプリチャ
ージンペルを供給電源電圧の半分程度に設定して、メ、
i、 +7セルから二値情報をビット線上に読出り1、
と往と同時に、そのビットaと対をなす他方のビット線
上に、ダミー回路によりリファレンスレベルを発午させ
、これらの対をなすビット線間に生じた微1.;1差信
号を接地レベルまたは供給電源電圧レベル((増幅する
ダイナミック型の半導体メモリとし、ては斉藤他がアイ
・ニス・ニス・シー−シー−ダイジzスト(I S S
 CCdigest)。
1985年、252〜253頁に発表したものがある。
従来の、との種半導体メモリの一例の回路図を第3図に
示し、さらに、これの動作波形図を第4図に示す。
第3図において、センス増幅器8Aはビット線EO、E
lのレベルを比較して、この時のレベルがより低い方の
ビット線のレベルを接地レベルまで引き下り、一方、よ
り高い方のピッ[線のレベルを供給電源電圧VCレベル
まで引き上げる機能を持っているものとし、加えて、M
ISFETはNチャネル形MO8FETを用いた場合を
仮定して、以下の説明を行う。
チップが選択されると、まずリセット信号POを低レベ
ルとして、ピッ)ililBO,Blを分離させる。こ
のときのビット線BO、BlのプリチャージレベルvO
は供給電源電圧VCのほぼ半分近くにバランスしている
次に、ワードflWo、wlの一本、例えば、クー  
         −ワード線 W1が選択されてピッ)@B l上にメモリセルから二
値情報が読出される。このとき、ビ、 ト)[B1と対
をなす他方のビット緑no上に1、クロック信号POO
,POJ、によりセンス増幅器8Aへのリファレンスレ
ベルを発生させでいる。すなわち、クロック信号poo
 、polのレベルをチ。
プ選択前にはビット線BOのプリチャージレベルVOと
等しくしておき、リファレンスレベル発生時には供給電
源電圧VCレベルおよび接地レベルに変化させ、リファ
レンス容量CRC=C8/2 )を介した容量結合によ
シ最適なリファレンスレベルを発生させている。   
 ゛ もう−組のクロ、り信号P10.P!1はピッ)線B1
上知リファレンスレベルを発生させるた袷の本ので、ビ
ット@B 1につくメモリセルが選択されるときは、ピ
ッ)#B 1のプリチャージレベルvOと等しいレベル
をずっと保持している。
ただし、ビット、1lBoにつくメモリセルが選択され
たときは、りpツク信号poo 、POIと同様ナレヘ
ル変化により、リファレンスレベルをビットMBl上に
発生させる。ただし、このときのクロック信号POO、
PCIのレベルはVOで変化させな°ハ〇 その後、センス信号BEによりセンス増幅器SAを活性
化してビット線BO、Bl上に読出された徴φ差信号を
増幅し、ビット線レベルを接地レベルおよび供給電源電
圧VCレベルとする。
チップが非選択になると、ワード線W1とクロック信号
POO,POIを初期のレベル、すなわチ接地レベルと
vOレベルにし、センス増幅器SAを非活性化する。次
に、りでット信号POを高しレベルにしてビット+MB
o、Btt−短絡し、ビ。
ト線BO、Blのレー°ルをバランスさせる。このレベ
ルがビットflBQ、BlのプリチャージレベルvOと
なり、そしてバランス直前のビット線BO,Blのレベ
ルは接地レベルと供給電源電圧VCレベルであるのでV
o=V(4zとなることがわかる。
(発明が解決しようとする問題点) 上述した従来の半導体メモリでは、被選択メモリセルの
トランスファゲートを介して選択ワード線からビット線
対0片側にのみカップリングノイズが発缶し1.メモリ
セルからの読出し信号に正のオフセットとして加わるた
めに見掛は上メモリセルの低レベル情報読出し時のセン
ス増幅器動作マージンが劣化して狭くなるという欠点が
ある。さらに、センス増幅器活性時にビット線対につく
容量がセル容量C8の分だけアンバランスとなりセンス
増幅器の動作マージンが狭くなるという欠点4Sある。
本発明の目的は、メモリセルから読出された信号をセン
ス増幅器で増幅する時にビット線対で容量のアンバラン
スが発生ぜず、さらにこのど、ト紗上に生じるカップリ
ング7ノイズを打ち消丁ためのダミーぼ路を有する半導
体メモリを提供することにある。
(町題点を解決するための手段) 本発明は、行をなすビット線と、列をなすワード線と、
該ワード線により選択されて前記ビット線との間で情報
の出し入れを行う行および列状に配置されたメモリセル
と、前記ピッこ線のうちの一対が入出力信号線となるセ
ンス増幅器と、前記と、1・線にそれぞれ一回路づつ設
けられチップアクセスの待機中は前記ビット線のプリチ
ャージレベルと同電位を保ちチップアクセス時に接地レ
ベルおよび供給電源電圧レベルにそれぞれ変化する第1
の信号線および第2の信号線と、該第1の信号線および
第2の信号線の間に直列接続される第1および第2の容
量とからなるダミー回路とを備える半導体メモリにおい
て、前記ダミー回路が前記第1および第2の容量の共通
接続点にソース電極を接続しドレイン電極を前記ビット
線に接続するM工5FETと、該M I S F F、
 Tのゲート電極に接続され前記M I S P E 
Tの導通状態を制御するダば−ワード線とを有する。
(作用) 本発明の半導体メモリは、2個のリファレンス容量C几
(=cs/z)とビット線との接続を制御する為のMl
 8FETを新たに設け、メモリセルが選択されたとき
、この被選択メモリセルと同一のビット線に属するダミ
ー回路のビット線との接続を断つことによって、選択ワ
ード線からビットの容量のアンバランスをなくすことで
、センス増幅器の動作マージンの劣化を防止している。
(実施例) 以下に1本発明の実施例について図面を参照して説明す
る。
第1図は本発明の一実施例の回路図、第2図は第1図に
示す半導体メモリの動作波形面である。
第1図に示す半導体−メモリと第3図に示す従来の半導
体メモリとC′a或上の相異点は、Nチャネル型+7)
MOSFET ’rC,’riをヒツト線BO。
B1とリファレンス容量CBとの間に挿入し5M08F
ET  To、Tlの導通状態を制御するためのダミー
ワード線DWO,DWIを設けた点でちる。
第1図および第2図にかいて、リセット信号P0とダミ
ーワード線DWO,DWIとを高レベルに保ち、ダミー
回路を構成するすべてのリファレンス容量CBをビット
線BO、Blと同じレベルvOにプリチャージする。リ
セット信号POを低レベルにしてビット線BO,Blを
分離した後で、ダミーワードMDWIを低レベルにして
MOSFET T1を非導通とし、被選択メモリの属す
るビット線B1から二個のリファレンス容量CRを切り
放す。
被選択ワードljw1を高レベルにしてビット線りl上
にメモリセルから二値ff報を読出すと同時に、クロッ
ク信号poo 、PCIをそれぞれ低レベルと高レベル
にして、ビット線BO上にダミー回路のリファレンス容
量CRを介し、リファレンスレベルを発生させる。
次に、センス増幅器8Aを活性化して、ビット線BO,
Bl上の微少差信号を増幅した彼に、先に低レベルとし
たり゛ミーワード線D W i fz高レベルにしてλ
10sFET Tlを導通状態とし、ヒツト線B1にダ
ば一回路内のリファし・ンス容fC几を接続する。以後
の動作は、前述した従来例と同様に行われる。
このように、本実施例においては、被選択メモリセルと
同一のと、ト線B1に属するダミー回路をそのビットJ
IB 1から分離することで、ワード線%+ 1が選択
されるときに発生するカップリングノイズと逆相のノイ
ズをそのビット線りl上に前もって発生させておく。
ここで、メモリセルとダミー回路とを構成するMOSF
ETの大きさを等しくシ、さらにワード線Wlとダミー
ワード線DWIのレベル振幅を等しくすれば、ビット線
りl上に発生する力、プリングノイズは互いに打ち消し
合うように働き、結果として:センス増幅器5AIC加
わるビット線80181間の差信号に鑞、従来例のよう
な力、プリングノイズによるオフセットは含まれなく4
ることかわかる。
さらに、従来例と同じくダミー回路内のリファレンス容
量Cf(、の大きさをセル容量C8の半分にすると、2
CR=C5となり、1つのダミー回路内の全容量C2C
几)がメモリセル内のセル容量C8と等しどなるためK
、ビット線BO、PI間の容量のアンバランスがなくな
る。従って、センス増幅器S Aの動作マージ二ノが大
きくなると共に、従来のセンス増幅器に比べ1、より小
官なメモリセルからの読出信号でも正確に増幅すること
が可能である。
Aお、以上の説明は便宜上すべてNチャネルM08FE
、Tを使用した例により行ったが、本発明はPチャネル
MO8FETでも、また他のどのような絶縁ゲート型ト
ランジスタでも本質的に同様に適用し得るものである。
(発明の効果) 以上詳述したように本発明の半導体メモリは。
ワード線からビット線へのカップリングノイズの影響に
よるセンス増幅器動作マ・−ジンの劣化金なりシ、シか
も対をなすビット線の容量アンバランス7バまったくな
くなるので、センス増幅器の動作マージンが大きくなる
という効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の−・実施例を示す回路図、第2図は第
1図に示す半導体メモリの動作波形図、第3図は従来の
半導体メモリの一例の回路図、第4図は第3層に示す半
導体メモリの動作波形図である。 BO、Bl・・・・・・ビット線、C几・・・・・・1
;7アレンス容量、C8・・・・・・セル容量、DWO
、DWI・・・・・・ダミーワード線、PO・・・・・
・リセット信号、POO。 Pol、PIO,pH・・・・・・クロック信号、8A
−・・・・・センス増幅器、vO・・・・・・プリチャ
ージレベル、WQ 、Wl・・・・・・ワード線。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 行をなすビット線と、列をなすワード線と、該ワード線
    により選択されて前記ビット線との間で情報の出し入れ
    を行う行および列状に配置されたメモリセルと、前記ビ
    ット線のうちの一対が入出力信号線となるセンス増幅器
    と、前記ビット線にそれぞれ一回路づつ設けられチップ
    アクセスの待機中は前記ビット線のプリチャージレベル
    と同電位を保ちチップアクセス時に接地レベルおよび供
    給電源電圧レベルにそれぞれ変化する第1の信号線およ
    び第2の信号線と、該第1の信号線および第2の信号線
    の間に直列接続される第1および第2の容量とからなる
    ダミー回路とを備える半導体メモリにおいて、前記ダミ
    ー回路が前記第1および第2の容量の共通接続点にソー
    ス電極を接続しドレイン電極を前記ビット線に接続する
    MISFETと、該MISFETのゲート電極に接続さ
    れ前記MISFETの導通状態を制御するダミーワード
    線とを有することを特徴とする半導体メモリ。
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