JPS6261930A - 芳香族弗素化合物の製造法 - Google Patents
芳香族弗素化合物の製造法Info
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- JPS6261930A JPS6261930A JP60199489A JP19948985A JPS6261930A JP S6261930 A JPS6261930 A JP S6261930A JP 60199489 A JP60199489 A JP 60199489A JP 19948985 A JP19948985 A JP 19948985A JP S6261930 A JPS6261930 A JP S6261930A
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、芳香族弗素化合物の新規な製造法に関する。
さらに詳しくは、１−フルオロシクロヘキセン骨格を有
する化合物を脱水素触媒および分子状酸素の存在下に酸
化的に脱水素することを特徴とする芳香族弗素化合物の
製造法に関する。
する化合物を脱水素触媒および分子状酸素の存在下に酸
化的に脱水素することを特徴とする芳香族弗素化合物の
製造法に関する。
（従来の技術）
芳香族弗素化合物の製造法としては、従来、アニリン類
のジアゾニウム塩を熱分解する方法（シ−マン法）や、
遊子吸引性置換基を有するクロロベンゼン誘導体を弗化
アルカリ土属金用いて弗素置換する方法（ハロゲン交換
法）や、分子状弗素によるベンゼン類の直接弗素化、あ
るいは比較的複雑な構造を有する化合物に対する単純脱
水素法等が知られている。
のジアゾニウム塩を熱分解する方法（シ−マン法）や、
遊子吸引性置換基を有するクロロベンゼン誘導体を弗化
アルカリ土属金用いて弗素置換する方法（ハロゲン交換
法）や、分子状弗素によるベンゼン類の直接弗素化、あ
るいは比較的複雑な構造を有する化合物に対する単純脱
水素法等が知られている。
しかしながら、これらの方法は、高価な原料を用いるこ
とや、目的生成物である芳香族弗素化合物の収率が低い
という欠点がある。また、ジ−マン法では、不安定で分
解しやすい固体のジアゾニウム塩′ｆｃ取り扱わなけれ
ばならないため、工業的に実施するのは困難を伴なう。
とや、目的生成物である芳香族弗素化合物の収率が低い
という欠点がある。また、ジ−マン法では、不安定で分
解しやすい固体のジアゾニウム塩′ｆｃ取り扱わなけれ
ばならないため、工業的に実施するのは困難を伴なう。
直接弗素比法では、きわめて反応性の高い分子状弗素を
使用するという点で危険性が高いばかりでなく、副生成
物も多い。
使用するという点で危険性が高いばかりでなく、副生成
物も多い。
電子吸引性基金置換基として持つ１−フルオロシクロヘ
キセン骨格を有する比較的構造の複雑な化合物に対する
嚇純な脱水素反応は、従来知られている〔例えば、ベト
ロフら、ケミカル・アブストラクト、第５１巻、 ７３
２５ ｒ （１９５７）］。
キセン骨格を有する比較的構造の複雑な化合物に対する
嚇純な脱水素反応は、従来知られている〔例えば、ベト
ロフら、ケミカル・アブストラクト、第５１巻、 ７３
２５ ｒ （１９５７）］。
（発明が解決しようとする問題点）
しかしながら、従来の脱水素反応では、反応の選択性が
低いなどの問題点があった。すなわち、１−フルオロシ
クロヘキセン骨格を有する化合物を、脱水素触媒を用す
て単純脱水素反応を行つ九場合、目的とする芳香族弗素
化合物の他に、炭素−弗素結合が開裂した結果生成する
不飽和炭化水素比合物や、不均化反応の結果生成する種
々の飽和炭化水素比合物等が副成する。ま友、炭素−弗
素結合の開裂のため、弗化水素分子が発生する。
低いなどの問題点があった。すなわち、１−フルオロシ
クロヘキセン骨格を有する化合物を、脱水素触媒を用す
て単純脱水素反応を行つ九場合、目的とする芳香族弗素
化合物の他に、炭素−弗素結合が開裂した結果生成する
不飽和炭化水素比合物や、不均化反応の結果生成する種
々の飽和炭化水素比合物等が副成する。ま友、炭素−弗
素結合の開裂のため、弗化水素分子が発生する。
ＩＬ単純脱水素法では５反応速度を向上させる友めには
高い反応温度全必要とし、そのため、目的とする【ヒ合
物の選択性はさらに低下する。
高い反応温度全必要とし、そのため、目的とする【ヒ合
物の選択性はさらに低下する。
（問題点を解決するための手段）
本発明者らは、上記の欠点を有しない新規な製造法を見
出すため鋭意研究を重ね友結果、無置換の１−フルオロ
シクロヘキセンからフルオロベンゼン１ｃ製造すること
のできる全く新しい方法を見出し、すでに特許出願し友
が、さらに検討を進め几結果、この系に芳香族ニトロ化
合物を共存させることによって、フルオロベンゼンの収
率および選択率が飛躍的に向上することを見出すと共に
、１−フルオロシクロヘキセン以外の置換基を有する１
−フルオロシクロヘキセン誘導体にもこの方法が適用で
き、高収率、高選択率で対応する芳香族弗素化合物を製
造できることも見出し、先に特許出願した。本発明者ら
は、１−フルオロシクロヘキサン骨格を有する化合物か
ら対応する芳香族フッ素ｒヒ合物を製造することのでき
るこの新しい反応について、さらに研究を進め几結果、
先に提案した方法とは別に、高収率、高選択率で目的と
する芳香族フッ素化合物を製造できる方法を見出し１本
発明を完成するに至つ友。
出すため鋭意研究を重ね友結果、無置換の１−フルオロ
シクロヘキセンからフルオロベンゼン１ｃ製造すること
のできる全く新しい方法を見出し、すでに特許出願し友
が、さらに検討を進め几結果、この系に芳香族ニトロ化
合物を共存させることによって、フルオロベンゼンの収
率および選択率が飛躍的に向上することを見出すと共に
、１−フルオロシクロヘキセン以外の置換基を有する１
−フルオロシクロヘキセン誘導体にもこの方法が適用で
き、高収率、高選択率で対応する芳香族弗素化合物を製
造できることも見出し、先に特許出願した。本発明者ら
は、１−フルオロシクロヘキサン骨格を有する化合物か
ら対応する芳香族フッ素ｒヒ合物を製造することのでき
るこの新しい反応について、さらに研究を進め几結果、
先に提案した方法とは別に、高収率、高選択率で目的と
する芳香族フッ素化合物を製造できる方法を見出し１本
発明を完成するに至つ友。
すなわち、本発明は、脱水素触媒および分子状酸素の存
在下に、一般式（１） （式中ｂ ＲＩｅＲ＊ ａＲｓ ＪＲＩ ＪＲＩ ？ｉ
同一でも異なってもよい炭素数１〜５のアルキル基、ア
シル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカル
ボニル基あるいは水素原子を示す。） で表わされる１−フルオロシクロヘキセン骨格を有する
化合物を脱水素することを特徴とする一般弐Ｉ Ｒう ｔ （式中、ＲＩ ｍ Ｒ１＃ ａ、 Ｉ Ｒ４ｍ ｇ、は
前記に同じ。）で表わされる芳香族弗素１ヒ合物の製造
法に関するものである。
在下に、一般式（１） （式中ｂ ＲＩｅＲ＊ ａＲｓ ＪＲＩ ＪＲＩ ？ｉ
同一でも異なってもよい炭素数１〜５のアルキル基、ア
シル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカル
ボニル基あるいは水素原子を示す。） で表わされる１−フルオロシクロヘキセン骨格を有する
化合物を脱水素することを特徴とする一般弐Ｉ Ｒう ｔ （式中、ＲＩ ｍ Ｒ１＃ ａ、 Ｉ Ｒ４ｍ ｇ、は
前記に同じ。）で表わされる芳香族弗素１ヒ合物の製造
法に関するものである。
本発明の特徴は、１−フルオロシクロヘキセン骨格を有
する化合物を分子状酸素で酸化的に脱水素することによ
って、芳香族弗素化合物を製造することにある。このよ
うな方法は、今まで全く知られていなかったものである
が、従来の単純な脱水素法と比較して、きわめて高い選
択率で目的とする化合物が収率よ〈得られることが特徴
である。
する化合物を分子状酸素で酸化的に脱水素することによ
って、芳香族弗素化合物を製造することにある。このよ
うな方法は、今まで全く知られていなかったものである
が、従来の単純な脱水素法と比較して、きわめて高い選
択率で目的とする化合物が収率よ〈得られることが特徴
である。
原料として用いられる１−フルオロシクロヘキセン骨格
を有する化合物としては％前記一般式（１）％式％ ヨｌｎ、例えば、１−フルオロシクロヘキセン、メチル
−１−フルオロシクロヘキセン（各異性体）、エチル−
１−フルオロシクロヘキセン（各５１体）、プロピル−
１−フルオロシクロヘキセン（各異性体） 等（Ｄ モ
ノアルキル−１−フルオロシクロヘキセン（各異性体）
類や、ジアルキル−１−フルオロシクロヘキセン（各異
性体）類、トリアルキル−１−フルオロシクロヘキセン
（各異性体）類等のボＩＪ ’フルキルー１−フルオロ
シクロヘキセン類、アルいは４−アセチル−１−フルオ
ロシクロヘキセン等のアシル−１−フルオロシクロヘキ
セン（各異性体）類、４−メトキシカルボニル−１−フ
ルオロシクロヘキセン等のアルコキシカルボニル−１−
フルオロシクロヘキセン類やアリールオキシカルボニル
−１−フルオロン１０ヘキセン類が好ましく用いられる
。さらに好ましくは、１−フルオロシクロヘキセン、４
−フルオロシクロヘキセン−５−カルボン酸アルキルが
用いられる。
を有する化合物としては％前記一般式（１）％式％ ヨｌｎ、例えば、１−フルオロシクロヘキセン、メチル
−１−フルオロシクロヘキセン（各異性体）、エチル−
１−フルオロシクロヘキセン（各５１体）、プロピル−
１−フルオロシクロヘキセン（各異性体） 等（Ｄ モ
ノアルキル−１−フルオロシクロヘキセン（各異性体）
類や、ジアルキル−１−フルオロシクロヘキセン（各異
性体）類、トリアルキル−１−フルオロシクロヘキセン
（各異性体）類等のボＩＪ ’フルキルー１−フルオロ
シクロヘキセン類、アルいは４−アセチル−１−フルオ
ロシクロヘキセン等のアシル−１−フルオロシクロヘキ
セン（各異性体）類、４−メトキシカルボニル−１−フ
ルオロシクロヘキセン等のアルコキシカルボニル−１−
フルオロシクロヘキセン類やアリールオキシカルボニル
−１−フルオロン１０ヘキセン類が好ましく用いられる
。さらに好ましくは、１−フルオロシクロヘキセン、４
−フルオロシクロヘキセン−５−カルボン酸アルキルが
用いられる。
このような１−フルオロシクロヘキセン骨格ヲ有する化
合物は、どのような方法で製造され友ものであってもよ
い。
合物は、どのような方法で製造され友ものであってもよ
い。
本発明において使用される脱水素触媒としては、本発明
の反応条件において脱水素能を有する触媒であればよく
、特に規定されるものではない。好１しくは、パラジウ
ム、白金、ルテニウム、ニッケル、コバルト、ロジウム
、オスミウム、イリジウム等の白金族金属および白金族
元素を含む化合物の中から選ばれ友少なくとも１種の触
媒が用いられる。さらに好ましくは、パラジウム、白金
、ルテニウム、およびパラジウム、白金、ルテニウム金
倉む化合物の中から選ばれ九少なくとも１種の触媒が用
いられる。ま友、これらの触媒成分は、活性炭、グラフ
ァイト、シリカ、アルミナ、シリカ−アルミナ、シリカ
−チタニア、チタニア、ジルコニア、硫酸バリウム、炭
酸カルシウム、アスベスト、ベントナイト、ケインウ土
、ポリマー１イオン交換樹脂、ゼオライト、モレキュラ
ーシープ、ケイ酸マグネシウム、マグネシアなどの担体
に担持され友ものであってもより０ 金属状態の白金族元素として、例えば、パラジウム、ロ
ジウム、白金、ルテニウム、イリジウムンよびオスミウ
ムなどの金属、これらの金属黒、これらの金属イオンを
含む触媒成分を前記のような担体に担持し友のち、水素
やホルムアルデヒドやヒドラジン等で還元処理したもの
、およびこれらの省属全含む合金あるいは金属間１６合
物などが用いられる。−！友、合金あるいは金属間１６
合物は、これらの白金族金属同士のものであってもよめ
し、他の元素２例えば、セレン、テルル、イオウ、アン
チモン、ビスマス、銅、銀、金、亜鉛、スズ、バナジウ
ム、鉄、コバルト、ニッケル、水銀、鉛、タリウム、ク
ロム、モリブデン、タングステンなどを含むものであっ
てもよい。
の反応条件において脱水素能を有する触媒であればよく
、特に規定されるものではない。好１しくは、パラジウ
ム、白金、ルテニウム、ニッケル、コバルト、ロジウム
、オスミウム、イリジウム等の白金族金属および白金族
元素を含む化合物の中から選ばれ友少なくとも１種の触
媒が用いられる。さらに好ましくは、パラジウム、白金
、ルテニウム、およびパラジウム、白金、ルテニウム金
倉む化合物の中から選ばれ九少なくとも１種の触媒が用
いられる。ま友、これらの触媒成分は、活性炭、グラフ
ァイト、シリカ、アルミナ、シリカ−アルミナ、シリカ
−チタニア、チタニア、ジルコニア、硫酸バリウム、炭
酸カルシウム、アスベスト、ベントナイト、ケインウ土
、ポリマー１イオン交換樹脂、ゼオライト、モレキュラ
ーシープ、ケイ酸マグネシウム、マグネシアなどの担体
に担持され友ものであってもより０ 金属状態の白金族元素として、例えば、パラジウム、ロ
ジウム、白金、ルテニウム、イリジウムンよびオスミウ
ムなどの金属、これらの金属黒、これらの金属イオンを
含む触媒成分を前記のような担体に担持し友のち、水素
やホルムアルデヒドやヒドラジン等で還元処理したもの
、およびこれらの省属全含む合金あるいは金属間１６合
物などが用いられる。−！友、合金あるいは金属間１６
合物は、これらの白金族金属同士のものであってもよめ
し、他の元素２例えば、セレン、テルル、イオウ、アン
チモン、ビスマス、銅、銀、金、亜鉛、スズ、バナジウ
ム、鉄、コバルト、ニッケル、水銀、鉛、タリウム、ク
ロム、モリブデン、タングステンなどを含むものであっ
てもよい。
一方、白金族元素を含む化合物としては、例えば、ハロ
ゲン化物、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩。
ゲン化物、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩。
ホウ酸塩などの無機塩類；酢酸塩、シュウ酸塩、ギ酸塩
などの有機酸塩類；シアン化物類：水ｅ（ヒ物類；ｍｆ
ヒ物類；硫比物類；ニトロ基、シアン基、ハロゲン、シ
ュウ酸イオンなどのアニオン金倉む金属酸塩およびアン
モニア、アミン類、ホスフィ７類、−酸化炭素、キレー
ト配位子などを含む塩ま几は錯体などの金属の錯化合物
類；有機配位子ま友は有機基を有する有機金属比合物類
などがあげられる。
などの有機酸塩類；シアン化物類：水ｅ（ヒ物類；ｍｆ
ヒ物類；硫比物類；ニトロ基、シアン基、ハロゲン、シ
ュウ酸イオンなどのアニオン金倉む金属酸塩およびアン
モニア、アミン類、ホスフィ７類、−酸化炭素、キレー
ト配位子などを含む塩ま几は錯体などの金属の錯化合物
類；有機配位子ま友は有機基を有する有機金属比合物類
などがあげられる。
ま之、本発明において使用される分子状酸素とは、純酸
素ま几は酸素を含むものであって、空気でもよいし、あ
るいは空気′または純酸素に反応全阻害しない他のガス
、例えば、屋素、アルゴン、ヘリウム、炭酸ガスなどの
不活性ガスを加えて希釈したものであってもよめ、また
、場合によっては、水素、−酸化炭素、炭化水素、ハロ
ゲン化炭【ヒ水素などのガスを含んでいてもよい。
素ま几は酸素を含むものであって、空気でもよいし、あ
るいは空気′または純酸素に反応全阻害しない他のガス
、例えば、屋素、アルゴン、ヘリウム、炭酸ガスなどの
不活性ガスを加えて希釈したものであってもよめ、また
、場合によっては、水素、−酸化炭素、炭化水素、ハロ
ゲン化炭【ヒ水素などのガスを含んでいてもよい。
反応の様式としては、流動床式、固定床式、あるいは攪
拌式等、一般に用いられる方法を使用することができる
。また、流通式、回分式込ずれの方法であってもよい。
拌式等、一般に用いられる方法を使用することができる
。また、流通式、回分式込ずれの方法であってもよい。
１娼反旧圧力は特に制限はなく、原料として用いる１−
フルオロシクロヘキセン骨格を有する化合物は、反応系
において液相、気相、あるｂは気液混相のｂずれであっ
てもよ−。液相で反応を行う場合は、反応に不活性な溶
媒の存在下に行ってもよい。特に好ましいのは、気相で
反応を実施する場合である。
フルオロシクロヘキセン骨格を有する化合物は、反応系
において液相、気相、あるｂは気液混相のｂずれであっ
てもよ−。液相で反応を行う場合は、反応に不活性な溶
媒の存在下に行ってもよい。特に好ましいのは、気相で
反応を実施する場合である。
反応温度は脱水素反応の平衡の点から、また、反応速度
を向上させるためには、高ｍが有利であるが、副反応等
の問題から、あまり高い温度は好壕しくなめ。本発明に
おいては、反応温度は使用する触媒の種類および用いる
反応の様式等によって異なるが、気相反応の場合には、
通常は８０〜５ｏａＣ，好ましくは９０〜４００Ｃで行
われ。
を向上させるためには、高ｍが有利であるが、副反応等
の問題から、あまり高い温度は好壕しくなめ。本発明に
おいては、反応温度は使用する触媒の種類および用いる
反応の様式等によって異なるが、気相反応の場合には、
通常は８０〜５ｏａＣ，好ましくは９０〜４００Ｃで行
われ。
液相反応の場合には、通常は室温〜４００Ｃ，好ましく
は５０〜３００Ｃで行われる。
は５０〜３００Ｃで行われる。
また、反応時間は反応温度、触媒の種類、用する原料の
種類等により異なるが、液相反応の場合には、通常は０
．０５〜５０時間、好ましくは０．１〜２０時間が用い
られる。気相流通式反応の場合には、接触時間で表現し
て、通常は０．０１〜６００秒、好ましくは０．１〜２
００秒が用いられる。
種類等により異なるが、液相反応の場合には、通常は０
．０５〜５０時間、好ましくは０．１〜２０時間が用い
られる。気相流通式反応の場合には、接触時間で表現し
て、通常は０．０１〜６００秒、好ましくは０．１〜２
００秒が用いられる。
原料として用いる１−フルオロシクロヘキセン骨格を有
する化合物と触媒との量比は、広範囲にとることができ
る。例えば、液相回分式の場合は、通常は反応原料に対
する触媒の重量比で表現して、０．０００１〜１０の範
囲が用すられ、好ましくは０．００１〜０．５の範囲で
使用される。また、例えば。
する化合物と触媒との量比は、広範囲にとることができ
る。例えば、液相回分式の場合は、通常は反応原料に対
する触媒の重量比で表現して、０．０００１〜１０の範
囲が用すられ、好ましくは０．００１〜０．５の範囲で
使用される。また、例えば。
気相流通式の反応の場合は、上記のような接触時間が満
足されるような触媒量および流速で実施される。
足されるような触媒量および流速で実施される。
本発明の反応は５次のような式で表わされる。
（式中、Ｒ１＃馬＋ Ｒａ ＃ Ｒ４＊ Ｒｓは前記に
同じ、、）したがって５分子状酸素は１−フルオロシク
ロヘキセン骨格を有する化合物と当量以上用いることが
、反応率を上げる定めＫは必要ではあるが、もちろん少
なくてもよい、、ま几５反応系内が爆発限界外となるよ
うに操作すべきである。
同じ、、）したがって５分子状酸素は１−フルオロシク
ロヘキセン骨格を有する化合物と当量以上用いることが
、反応率を上げる定めＫは必要ではあるが、もちろん少
なくてもよい、、ま几５反応系内が爆発限界外となるよ
うに操作すべきである。
ま之、反応原料である１−フルオロシクロヘキセン骨格
を有する化合物と分子状酸素および脱水素触媒の他に、
水蒸気、水素、窒素、ヘリウム、アルゴン等の気体が雰
囲気として反応系に存在していてもよく、脱水素反広に
不活性な有機溶媒ま７’Ｃはその蒸気が反応系に存在し
ていてもよい。
を有する化合物と分子状酸素および脱水素触媒の他に、
水蒸気、水素、窒素、ヘリウム、アルゴン等の気体が雰
囲気として反応系に存在していてもよく、脱水素反広に
不活性な有機溶媒ま７’Ｃはその蒸気が反応系に存在し
ていてもよい。
（実施例）
以下に実施例を示し、本発明を具体的に述べる。
実施例１
内径１．５ｃｒＩＫのガラス表の管状反応器に、１チの
パラジウムｋｍ持し几ベレット状のＰｄ／Ｓｉｎ、 １
０ノを充填し、加熱した。この反応器に、１−フルオロ
シクロヘキセン’ｔ８ｙ′／時のａ！にで導入した。
パラジウムｋｍ持し几ベレット状のＰｄ／Ｓｉｎ、 １
０ノを充填し、加熱した。この反応器に、１−フルオロ
シクロヘキセン’ｔ８ｙ′／時のａ！にで導入した。
同時に空気を９０ゴ／分、窒素を１８０ｆＲｔ／分の流
量で導入した。反応は１４０〜１５０Ｃの温度範囲で行
われた。定常状態になった後、反応生成Ｐ＄ｌＪヲドラ
イアイストラップで補集し、ガスクロマトグラフィーに
よって分析し几結果、１−フルオロシクロヘキセンの反
応率は１００％で、フルオロベンゼンが収率８５チ２選
択率８５％で生成して哨も なお、生成物の同定は、ガスクロマトグラフィーおよび
ＧＣ−ＭＳによって行つ九。
量で導入した。反応は１４０〜１５０Ｃの温度範囲で行
われた。定常状態になった後、反応生成Ｐ＄ｌＪヲドラ
イアイストラップで補集し、ガスクロマトグラフィーに
よって分析し几結果、１−フルオロシクロヘキセンの反
応率は１００％で、フルオロベンゼンが収率８５チ２選
択率８５％で生成して哨も なお、生成物の同定は、ガスクロマトグラフィーおよび
ＧＣ−ＭＳによって行つ九。
実施例２
実施例１と同様な反応器ＶＣ，１％のバ２ジウム？担持
したｐｄ／５ｉ０１５ ｔを充填し加熱した。この反Ｇ
ａに、１−フルオロシクロヘキセンに８Ｆ／時の流量で
、酸素および２素をそれぞれ３１−７分および２００１
Ｒｔ／分のＲ，量で導入した。反応は１５５〜１６０Ｃ
の温度範囲で行われた。反応の結果は、１−フルオロシ
クロヘキセンの反ｃ率ｕ １ｏ ｏ％で、フルオロベン
ゼンが収率８８％、選択率８８チで生成してｌ、ｒｈ
７ｊ 。
したｐｄ／５ｉ０１５ ｔを充填し加熱した。この反Ｇ
ａに、１−フルオロシクロヘキセンに８Ｆ／時の流量で
、酸素および２素をそれぞれ３１−７分および２００１
Ｒｔ／分のＲ，量で導入した。反応は１５５〜１６０Ｃ
の温度範囲で行われた。反応の結果は、１−フルオロシ
クロヘキセンの反ｃ率ｕ １ｏ ｏ％で、フルオロベン
ゼンが収率８８％、選択率８８チで生成してｌ、ｒｈ
７ｊ 。
実施例５
触媒量全２．５１にし、反応温度を１８０〜１９０Ｃに
する以外は、実施例２と同様な方法で反応を行った結果
、１−フルオロシクロヘキセンの反応率は９５％で、フ
ルオロベンゼンが収率８７チ、選択率９２チで生成して
いた。
する以外は、実施例２と同様な方法で反応を行った結果
、１−フルオロシクロヘキセンの反応率は９５％で、フ
ルオロベンゼンが収率８７チ、選択率９２チで生成して
いた。
実施例４
２チの白金を活性炭に担持したＰｔ／Ｃ５ｒを用いる以
外は、実施例２と同様な方法で１−フルオロシクロヘキ
センの脱水素反応を行った結果、１−フルオロシクロヘ
キセンの反応率は４８チで。
外は、実施例２と同様な方法で１−フルオロシクロヘキ
センの脱水素反応を行った結果、１−フルオロシクロヘ
キセンの反応率は４８チで。
フルオロベンゼンが収率４１％、選択率８５チで生成し
てい友。
てい友。
実施例５
２チのルテニウムをアルミナに担持しｆｃＲｕ／Ａ７，
０ｓ１０１を用いる以外は、実施例２と同様な方法で反
応を行った結果％ １−フルオロシクロヘキセンの反応
率は３５チで、フルオロベンゼンが収率２８チ、選択率
８０％で生成していた。
０ｓ１０１を用いる以外は、実施例２と同様な方法で反
応を行った結果％ １−フルオロシクロヘキセンの反応
率は３５チで、フルオロベンゼンが収率２８チ、選択率
８０％で生成していた。
実施例６
４−メトキシカルボニル−１−フルオロシクロヘキセン
２３．７ ｙ、 ハ、Ｆジウム８１ ｒ’ｔ−フラスコ
に入れ１４０〜１５０Ｃに加熱した。この反応器の底部
の液中に酸素５チ全含む窒素と酸素の混合ガスを２ｓｏ
ｙ／分の流量で導入した。６時間後の反応液を分析し次
結果、４−メトキシカルボニル−１−フルオロシクロヘ
キセンの反ｆＥ、率ｔｄ ３５チで、４−フルオロ安息
香酸メチルが収率３１％、選択率９０チで生成してい念
。
２３．７ ｙ、 ハ、Ｆジウム８１ ｒ’ｔ−フラスコ
に入れ１４０〜１５０Ｃに加熱した。この反応器の底部
の液中に酸素５チ全含む窒素と酸素の混合ガスを２ｓｏ
ｙ／分の流量で導入した。６時間後の反応液を分析し次
結果、４−メトキシカルボニル−１−フルオロシクロヘ
キセンの反ｆＥ、率ｔｄ ３５チで、４−フルオロ安息
香酸メチルが収率３１％、選択率９０チで生成してい念
。
（発明の効果）
実施例から明らかなように、本発明によれば、目的とす
る芳香族フッ素１ヒ合物が高収率、高選択率で製造する
ことができる。
る芳香族フッ素１ヒ合物が高収率、高選択率で製造する
ことができる。
Claims (3)
- （１）脱水素触媒および分子状酸素の存在下に、一般式
（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５は同
一でも異なつてもよい炭素数１〜５のアルキル基、アシ
ル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボ
ニル基あるいは水素原子を示す。） で表わされる１−フルオロシクロヘキセン骨格を有する
化合物を脱水素することを特徴とする一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５は前
記に同じ。）で表わされる芳香族弗素化合物の製造法。 - （２）脱水素触媒が白金族金属および白金属元素を含む
化合物の中から選ばれた少なくとも１種である特許請求
の範囲第１項記載の方法。 - （３）脱水素触媒がパラジウム、白金、ルテニウム、お
よびパラジウム、白金、ルテニウムを含む化合物の中か
ら選ばれた少なくとも１種である特許請求の範囲第２項
記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60199489A JPS6261930A (ja) | 1985-09-11 | 1985-09-11 | 芳香族弗素化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60199489A JPS6261930A (ja) | 1985-09-11 | 1985-09-11 | 芳香族弗素化合物の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6261930A true JPS6261930A (ja) | 1987-03-18 |
| JPH0584289B2 JPH0584289B2 (ja) | 1993-12-01 |
Family
ID=16408659
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60199489A Granted JPS6261930A (ja) | 1985-09-11 | 1985-09-11 | 芳香族弗素化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6261930A (ja) |
-
1985
- 1985-09-11 JP JP60199489A patent/JPS6261930A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0584289B2 (ja) | 1993-12-01 |
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