JPS6259409B2 - - Google Patents

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JPS6259409B2
JPS6259409B2 JP7871582A JP7871582A JPS6259409B2 JP S6259409 B2 JPS6259409 B2 JP S6259409B2 JP 7871582 A JP7871582 A JP 7871582A JP 7871582 A JP7871582 A JP 7871582A JP S6259409 B2 JPS6259409 B2 JP S6259409B2
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JP
Japan
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cooling
disk
rotary joint
shaft
chamber
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JP7871582A
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English (en)
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JPS58194241A (ja
Inventor
Koji Matsuda
Tsukasa Nogami
Susumu Yamada
Masahiko Aoki
Katsuo Naito
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NITSUSHIN HAIBORUTEEJI KK
Original Assignee
NITSUSHIN HAIBORUTEEJI KK
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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3435Target holders (includes backing plates and endblocks)

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、イオン注入装置のターゲツト冷却
装置に関し、回転および移動自在のデイスクの冷
却路に冷却媒体を容易に供給できるようにし、デ
イスクに装着されたターゲツトを効果的に冷却で
きるようにしたものである。
一般に、大電流イオン注入装置では、大電流イ
オンビームをスポツト状で入射させるとともに、
複数のイオン注入用ターゲツトが装着されたデイ
スクを回転および直線移動してイオン注入するメ
カニカルスキヤン方式が採用されている。これに
よると、大電流イオンビームそのものを走査させ
る必要がないため、磁場を与えるための多くの電
磁石が全く不要となり、装置を小形かつ軽量にで
きるものである。ところで、この種イオン注入装
置では、各ターゲツトがイオン注入により大きな
熱エネルギーを受けるため、各ターゲツトを効果
的に冷却する必要があるが、メカニカルスキヤン
するデイスク上のターゲツトの冷却は容易ではな
い。
そこで、従来のイオン注入装置のターゲツト冷
却装置では、第1図および第2図に示すように、
回転駆動軸1により回転されるとともに図示しな
い移動機構により直線移動される軸2に円板状の
デイスク3が支持され、デイスク3上の外周部に
複数個の銅ブロツクからなるヒートシンク4が等
間隔に設けられるとともに、各ヒートシンク4上
にそれぞれターゲツトとなるウエハー5が載置さ
れ、これら各ウエハー5が各ヒートシンク4に取
り付けられた板ばね6により、ヒートシンク4に
圧接され、保持されている。そして、イオン注入
により各ウエハー5が受けた熱エネルギーは、そ
れぞれ当該のヒートシンク4に逃がされ、各ウエ
ハー5は慣性冷却方式により冷却される。
しかし、前記従来のターゲツト冷却装置による
と、デイスク3上のヒートシンク4ではその容積
に応じた冷却しか行なえず、冷却能力が極めて低
いものであり、大電流高エネルギービームによる
高濃度イオン注入では、ウエハー5の効果的な冷
却が行なえず、良質のデバイスが得られない欠点
があり、この種イオン注入装置では、その注入可
能なパワーが制約されてしまう欠点がある。ま
た、デイスク3内に冷却路を形成し、これに冷却
媒体を循環するとともに、デイスク3上にウエハ
ー5を接触させれば、ウエハー5を効果的に冷却
できるものであるが、メカニカルスキヤンするデ
イスク3内への冷却媒体の供給は極めて困難であ
る。
この発明は、前記の点に留意してなされたもの
であり、回転および移動自在のターゲツト装着用
デイスクに冷却路を形成し、軸体と該軸体の外周
に気密かつ回転自在に設けられた筒体との間に環
状通路を形成して固定点、移動点および中間点の
各ロータリジヨイントを構成し、前記デイスクの
中心軸に前記移動点ロータリジヨイントの軸体を
一体に設けるとともに、前記固定点ロータリジヨ
イントと前記中間点ロータリジヨイントのそれぞ
れの軸体間および前記中間点ロータリジヨイント
と前記移動点ロータリジヨイントのそれぞれの筒
体間をそれぞれ冷却管で連結し、冷却媒体を前記
各ロータリジヨイントを介して前記デイスクの前
記冷却路に供給することを特徴とするイオン注入
装置のターゲツト冷却装置である。
したがつて、冷却媒体を、固定点ロータリジヨ
イントの環状通路・冷却管・中間点ロータリジヨ
イントの環状通路・冷却管・移動点ロータリジヨ
イントの環状通路を通してデイスクの冷却路に供
給できるため、デイスク上に装着されたターゲツ
トを効果的に冷却できるものであり、しかも、各
ロータリジヨイントにおいて軸体と筒体とが気密
に回転されるため、デイスクの回転および移動に
際しても、それぞれの軸体と筒体との間で回転が
行なわれ、中間点ロータリジヨイントが移動点ロ
ータリジヨイントの移動に応じて回転移動するの
みであり、前記と同様にして冷却媒体を供給でき
るものであり、理想的な冷却系を構成でき、この
ため、ターゲツトを低温下でイオン注入でき、良
質のデバイスを得ることができるものである。
つぎにこの発明を、その1実施例を示した第3
図以下の図面とともに詳細に説明する。
これらの図面において、7は大電流イオン注入
装置の筐体状の装置本体であり、内部に高圧部、
真空ポンプ等が備えられている。8は装置本体7
の前側に設けられたエンドステーシヨン、9はエ
ンドステーシヨン8上の装置本体7の前面に一体
に設けられたターゲツトチヤンバー、10はター
ゲツトチヤンバー9の右側内部に形成され常時高
真空に保持されるイオン注入室であり、高圧部か
らのイオンビームのビームラインにイオン入射口
11を介して接続されている。12はターゲツト
チヤンバー9の左側に前面に開口しほぼ円筒状に
形成されたチヤンバー本体であり、後面に真空ポ
ンプに連通する真空排気口13が透設されてい
る。14はチヤンバー本体12の前面にヒンジ1
5を介して前後に開閉自在に設けられた円形のチ
ヤンバー蓋であり、エンドステーシヨン8上に設
けられたエアシリンダー、油圧シリンダー等のシ
リンダー16により開閉操作され、チヤンバー蓋
14の開時には保持具17によりほぼ水平に保持
される。18はチヤンバー本体12とチヤンバー
蓋14とにより形成されたチヤンバー室、19は
イオン注入室10とチヤンバー室18とを連通す
る断面が細長い通路、20は該通路19を回転移
動により開閉する断面ほぼ半円形のバルブであ
る。
21および22はチヤンバー蓋14の外側面に
支持されそれぞれの回転軸がチヤンバー蓋14の
内側に導入された回転用モータおよび移動用ステ
ツピングモータであり、後述のデイスクの駆動機
構となる。23および24はチヤンバー蓋14の
内側に左右方向に設けられそれぞれ回転用モータ
21およびステツピングモータ22により回転さ
れる回転駆動軸および移動用駆動軸、25はチヤ
ンバー蓋14の内側に左右方向に設けられた対の
ガイドレール、26は該対のガイドレール25に
左右方向に移動自在に支持された移動体であり、
この移動体26には、第6図に示すように、前記
移動用駆動軸24が噛合するめねじ27が形成さ
れており、モータ22の駆動による駆動軸24の
回転により移動体26が左右に直線移動される。
28は移動体26に回転自在に内装され回転駆動
軸23が挿通するとともに該駆動軸23により回
転されるねじ車、29は移動体26に回転自在に
支持され後述のデイスクの中心軸となる軸であ
り、その中腹部外周に前記ねじ車28に噛合する
歯車30が一体に設けられ、回転駆動軸23の回
転により軸29が回転される。31および32は
軸29の内部に軸方向に形成された冷却媒体の往
路および還路である。
33は軸29の上端部に支持された円板状のデ
イスクであり、回転用モータ21およびステツピ
ングモータ22により回転および直線移動され
る。34はデイスク33の外周部に等間隔に形成
された複数個のイオン注入用ターゲツトの装着部
であり、それぞれ外方に切り欠いた1対の溝35
を有しており、これが後述のハンドリング装置の
ベルト挿入孔となる。36はデイスク33の各装
着部34上に装着されたイオン注入用ターゲツト
となる円形のウエハー、37は各装着部34の内
部にそれぞれの対の溝35の内側に沿う蛇行状に
形成された冷却路、38および39はデイスク3
3の内部に放射状に形成されそれぞれ冷却路37
の一端および他端に連通する冷却用往通路および
冷却用還通路であり、冷却用往通路38が軸29
の往路31に、冷却用還通路39が還路32にそ
れぞれ連通されており、軸29の往路31に供給
された水等の冷却媒体が各冷却用往通路38を通
つて各冷却路37にそれぞれ流入され、装着部3
4上のウエハー36を冷却したのち、各冷却用還
通路39を通つて軸29の還路32に戻される。
40は各装着部34上のウエハー36を当該装着
部34に圧接する馬蹄形のホルダであり、ホルダ
40の基部にはデイスク33を貫通するピン41
が設けられるとともに、該ピン41の端部とデイ
スク33の下面との間にスプリング42が介装さ
れており、このスプリング42のばね力によりウ
エハー36が保持される。
43は軸29の下端部に一体の軸体44とその
外周に気密かつ回転自在に設けられた筒体45と
により構成された移動点ロータリジヨイントであ
り、軸体44の外周面および筒体45の内周面に
はそれぞれ互いに合致する断面半円形の3条の環
状溝が形成され、これにより3条の環状通路46
a,46b,46cが形成されており、両環状通
路46b,46cがそれぞれ往路31、還路32
に連通されている。47は軸体48と該軸体48
の外側に気密かつ回転自在に設けられた筒体49
とにより構成された中間点ロータリジヨイントで
あり、軸体48と筒体49との間に前記と同様に
して3条の環状通路50a,50b,50cが形
成され、軸体48内に形成された3つの通路51
a,51b,51cがそれぞれ環状通路50a,
50b,50cに連通されている。52は軸体5
3と該軸体53の外周に気密かつ回転自在に設け
られた筒体54とにより構成された支持体55を
介してチヤンバー蓋14の内面に支持された固定
点ロータリジヨイントであり、軸体53と筒体5
4との間に3条の環状通路56a,56b,56
cが形成され、軸体53内の3つの通路57a,
57b,57cがそれぞれ環状通路56a,56
b,56cに連通されている。58a,58b,
58cは移動点ロータリジヨイント43と中間点
ロータリジヨイント47のそれぞれの筒体45,
49間を連結し環状通路46a,46b,46c
と環状通路50a,50b,50cとをそれぞれ
連通する真空排気管、往側冷却管、還側冷却管、
59a,59b,59cは中間点ロータリジヨイ
ント47と固定点ロータリジヨイント52の軸体
48,53間を連結し通路51a,51b,51
cと通路57a,57b,57cとをそれぞれ連
通する真空排気管、往側冷却管、還側冷却管、6
0a,60b,60cは固定点ロータリジヨイン
ト52の筒体54に接続されるとともにそれぞれ
環状通路56a,56b,56cに連通された真
空排気主管、冷却媒体供給管、回収管であり、そ
れぞれチヤンバー蓋14より導出され、真空排気
主管60aが真空ポンプに接続されるとともに、
供給管60b、回収管60cが熱交換器および循
環ポンプに接続されている。61は各ロータリジ
ヨイント43,47,52等の可動部のOリング
シールであり、可動部における水もれを防止す
る。
62はエンドステーシヨン8上に設けられたウ
エハー36のハンドリング装置であり、その操作
台63が前後および上下に移動自在に支持され、
操作台63の先端にデイスク33の装着部34の
溝35に挿入自在の対のベルト64が設けられる
とともに、操作台63にウエハーキヤリヤ65が
設置されており、この種ハンドリング装置62が
回収用と装着用との2台備えられている。そし
て、ウエハー36の回収あるいは装着を行なう場
合は、操作台63によりデイスク33の装着部3
4のホルダ40がそのスプリング42のばね力に
抗して浮上され、ウエハー36の移動を容易にし
ている。
つぎに、前記実施例の動作について説明する。
まず、デイスク33の各装着部34にそれぞれ
未注入ウエハー36を装着し、第3図に示すよう
に、チヤンバー蓋14を閉じてデイスク33をチ
ヤンバー室18内に収納する。そして、チヤンバ
ー室18をその真空排気口13を介して真空排気
し、イオン注入室10と同程度の高真空に排気し
たのち、バルブ20を回転移動してチヤンバー室
18とイオン注入室10とを通路19を介して連
通する。つぎに、回転用モータ21が駆動し、回
転駆動軸23、ねじ車28、歯車30および軸2
9を介してデイスク33が回転されるとともに、
図示しない冷却媒体の循環ポンプが駆動し、デイ
スク33の各冷却路37に冷却媒体が循環され
る。すなわち、冷却媒体供給管60bからの冷却
媒体は、固定点ロータリジヨイント52の環状通
路56b・軸体53の通路57b・往側冷却管5
9b・中間点ロータリジヨイント47の軸体48
の通路51b・環状通路50b・往側冷却管58
b・移動点ロータリジヨイント43の環状通路4
6b・軸29の往路31を通り、各冷却用往通路
38を介して各装着部34の冷却路37に流入さ
れ、装着部34上のウエハー36を冷却したの
ち、各冷却用還通路39を介して軸29の還路3
2に戻される。さらに、還路32の冷却媒体は、
環状通路46c・還側冷却管58c・環状通路5
0c・通路51c・還側冷却管59c・通路57
c・環状通路56cを通り、冷却媒体回収管60
cより熱交換器に戻される。ここで、各ロータリ
ジヨイント43,47,52においては、その可
動部で水もれが生じないようOリングシール61
によりシールされているが、万一Oリングシール
61で水もれが起きても、真空排気主管60aよ
りも真空引されることにより、各環状通路46
a,50a,56aよりもれ水が吸引され、真空
中のチヤンバー室18内への水もれが確実に防止
される。
つぎに、移動用ステツピングモータ22が駆動
し、移動用駆動軸24およびめねじ27を介して
移動体26がガイド25に沿つて右方へ移動さ
れ、回転中のデイスク33が右方へ直線移動され
る。このとき、移動点ロータリジヨイント43は
軸29の移動とともに移動するが、各ロータリジ
ヨイント43,47,52において、軸体44,
48,53と筒体45,49,54とがそれぞれ
気密に回転されるため、各ロータリジヨイント4
3,47,52のそれぞれの間を一定に保持しな
がら、中間点ロータリジヨイント47が固定点ロ
ータリジヨイント52に対して回転移動し、冷却
媒体の循環に支障はない。さらに、デイスク33
が右方へ移動すると、デイスク33は通路19を
通つてイオン注入室10に導入し、第4図および
第5図に示すように、デイスク33の約半分がイ
オン注入室10内に導入されると、今度は、両モ
ータ21,22によりデイスク33が高速回転し
ながら左右に細かく移動され、スポツト状でイオ
ン注入口11からイオン注入室10内に入射され
たイオンビームにより、デイスク33上の各ウエ
ハー36がイオン注入される。このとき、イオン
注入により各ウエハー36が受ける熱エネルギー
は、前記した冷却媒体のデイスク33内への循環
により回収され、各ウエハー36は低温処理され
る。
つぎに、前述のイオン注入が完了すると、ステ
ツピングモータ22によりデイスク33はチヤン
バー室18内に移動され、バルブ20が閉じ、チ
ヤンバー室18が大気圧に戻される。そして、チ
ヤンバー蓋14が前方に回動してデイスク33が
水平に保持され、当該デイスク33が回転用モー
タ21で節動回転され、前述のハンドリング装置
62により、注入完了ウエハー36の回収および
未注入ウエハー36の装着が行なわれる。
したがつて、前記実施例によると、メカニカル
スキヤンを行なうデイスク33の軸29に一体に
移動点ロータリジヨイント43を設けるととも
に、チヤンバー蓋14の内側に一体に固定点ロー
タリジヨイント52を設け、両ロータリジヨイン
ト43,52間に中間点ロータリジヨイント47
を設け、移動点と中間点の両ロータリジヨイント
43,47のそれぞれの筒体45,49間および
中間点と固定点の両ロータリジヨイント47,5
2のそれぞれの軸体48,53間をそれぞれ、往
側冷却管58b,59b、還側冷却管58c,5
9cで連結するため、冷却媒体を外部から各ロー
タリジヨイント52,47,43を介してデイス
ク33の各装着部34の冷却路37に供給するこ
とができ、各ウエハー36を効果的に冷却し、イ
オン注入により受ける熱を除去してウエハー36
を低温下でイオン注入でき、良質のデバイスを得
ることができるものである。ここで、デイスク3
3は回転および直線移動を行なうが、各ロータリ
ジヨイント43,47,52において、それぞれ
の軸体44,48,53と筒体45,49,54
とが気密かつ回転自在であるため、冷却媒体の循
環経路がデイスク33のメカニカルスキヤンによ
つて変化することはなく、常に安定した冷却媒体
の供給が実現できるものである。さらに、前記実
施例では、各ロータリジヨイント43,47,5
2にそれぞれ真空排気主管60aより真空排気さ
れる環状通路46a,50a,56aを設けるた
め、冷却媒体が各ロータリジヨイント43,4
7,52の可動部よりもれることがなく、安全で
ある。
なお、前記実施例では、デイスク33の各装着
部34の冷却路37を並列接続としたが、これを
直列あるいは直並列に接続してもよい。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は従来のイオン注入装置の
ターゲツト冷却装置を示し、第1図は正面図、第
2図は一部の平面図、第3図以下の図面はこの発
明のイオン注入装置のターゲツト冷却装置の1実
施例を示し、第3図は全体側面図、第4図および
第5図はターゲツトチヤンバー部分の正面図およ
び切断平面図、第6図は要部のデイスク冷却系の
展開断面図、第7図はデイスクの一部の平面図で
ある。 29……軸、33……デイスク、36……ウエ
ハー、37……冷却路、43……移動点ロータリ
ジヨイント、47……中間点ロータリジヨイン
ト、52……固定点ロータリジヨイント、44,
48,53……軸体、45,49,54……筒
体、46b,46c,50b,50c,56b,
56c……環状通路、58b,59b……往側冷
却管、58c,59c……還側冷却管。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 回転および移動自在のターゲツト装着用デイ
    スクに冷却路を形成し、軸体と該軸体の外周に気
    密かつ回転自在に設けられた筒体との間に環状通
    路を形成して固定点、移動点および中間点の各ロ
    ータリジヨイントを構成し、前記デイスクの中心
    軸に前記移動点ロータリジヨイントの軸体を一体
    に設けるとともに、前記固定点ロータリジヨイン
    トと前記中間点ロータリジヨイントのそれぞれの
    軸体間および前記中間点ロータリジヨイントと前
    記移動点ロータリジヨイントのそれぞれの筒体間
    をそれぞれ冷却管で連結し、冷却媒体を前記各ロ
    ータリジヨイントを介して前記デイスクの前記冷
    却路に供給することを特徴とするイオン注入装置
    のターゲツト冷却装置。
JP7871582A 1982-05-10 1982-05-10 イオン注入装置のタ−ゲツト冷却装置 Granted JPS58194241A (ja)

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WO2018142459A1 (ja) * 2017-01-31 2018-08-09 住友重機械工業株式会社 ターゲット装置
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