JPS58194241A - イオン注入装置のタ−ゲツト冷却装置 - Google Patents

イオン注入装置のタ−ゲツト冷却装置

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JPS58194241A
JPS58194241A JP7871582A JP7871582A JPS58194241A JP S58194241 A JPS58194241 A JP S58194241A JP 7871582 A JP7871582 A JP 7871582A JP 7871582 A JP7871582 A JP 7871582A JP S58194241 A JPS58194241 A JP S58194241A
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rotary joint
cooling
disk
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shaft
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Koji Matsuda
松田 耕自
Tsukasa Nogami
野上 司
Susumu Yamada
進 山田
Masahiko Aoki
青木 正彦
Katsuo Naito
勝男 内藤
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NISSHIN HAIBORUTEEJI KK
Nissin High Voltage Co Ltd
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NISSHIN HAIBORUTEEJI KK
Nissin High Voltage Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3435Target holders (includes backing plates and endblocks)

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、イオン注入装置のターゲット冷却装置に関
し、回転および移動自在のディスクの冷却路に冷却媒体
を容易に供給できるようにし、ディスクに装着さflた
ターゲットを効果的に冷却でさるようにしたものである
一般に、大電流イオン注入装置では、大電流イオンビー
ムをスポット状で入射させるとともに、複数のイオン注
入用ターゲットが装着されたディスクを回転および直線
移動してイオン注入するメカニカルスキャンカ式が採用
されている。これによると、大電流イオンビームそのも
のを走査させる必習がないため、磁場を与えるための多
くの電磁石が全く工費となり、装置を小形かつ軽量にで
きるものである。ところで、この種イオン注入装置ft
では、各ターゲットがイオン注入により太さな勲エネル
ギーを受けるため、各ターゲットを効果的に冷却する必
要があるが、メカニカルスキャンするディスク上のター
ゲットの冷却は容易ではな()。
そこで、従来のイオン注入装置のターゲット冷却装置で
は、第1図および第2図に示すように、回転駆動軸(υ
により回転されるとともに図示しない移動機構により直
線移動される軸(2〕に円板状のディスク(3)が支持
され、ディスク(3)土の外周部に複数個の銅ブロック
からなるヒートシンク(4)が等間隔に設けられるとと
もに、各ヒート7/り(4)上にそれぞれターゲットと
なるウエノ〜−(5)が載置され、これら各ウエノ\−
(5)が各ヒートシンク(4)に取り付けられた板ばね
(6)により、 ヒートシンク(4)に圧接され、保持
されている。そして、イオン注入によシ各ウニノー、−
t5)が受けた熱エネルギーは、それぞれ当該のヒート
シンク(4)に逃がされ、各ウェハー(5)は慣性冷却
力式により冷却される。
しかし、前記従来のターゲット冷却装置によると、ディ
スク(3)上のヒートシンク(4)ではその容積に応じ
た冷却しか行なえず、冷却能力が極めて低いものであり
、大電流高エネルギービームによる高濃度イオン注入で
は、ウニ・・−(5)の効果的な冷却が行なえず、良質
のデバイスが得られない欠点があり、この様イオン注入
装置では、その注入可能なパワーが制約されてしまう欠
点がある。捷だ、ディスク(3)内に冷却路を形成し、
これに冷却媒体を循環するとともに、ディスク(3)上
にウェハー(5ンを振触させれば、ウェハー(5)を効
果的に冷却できるものであるが、メカニカルスキャンす
るディスクI3)内への冷却媒体の供給は極めて困難で
ある。
この発明は、前記の点に留意してなされたものであり、
回転および移動自在のターゲット装着用ディスクに冷却
路を形成し、軸体と該軸体の外周に気密かつ回転自在に
設けられた筒体との間に環状通路を形成して固定点、移
動点および中間点の各ロータリジヨイントを構成し、前
記ディスクの中心軸に前記移動点ロータリジヨイントの
軸体を一体に設けるとともに、前記固定点ロータリジヨ
イントと前記中間点ロータリジヨイントのそれぞれの軸
体間および前記中間点ロータリジヨイントと前記移動点
ロータリジヨイントのそれぞれの筒体間をそれぞれ冷却
管で連結し、冷却媒体を前記各ロータリジヨイントを介
して前記ディスクの前記冷却路に供給することを特徴と
するイオン注入装置のターゲット冷却装置である。
したがって、冷却媒体を、固定点ロータ1ノジヨイント
の環状通パ路・冷却管・中間点ロータ、1ノジヨイント
の環状通路・冷却管・移動点ロータ1ノジヨイントの環
状通路を通してディスクの冷却路に供給できるため、デ
ィスク上に装着されたターゲットを効果的に冷却できる
ものであり、シめ・も、各ロータリジヨイントにおいて
軸体と筒体と75:気密に回転されるため、ディスクの
回転および移動に際しても、それぞれの軸体と筒体上の
間で回転75:行なわれ、中間点ロータリジヨイントの
;移動、ヘロータリジョイントの移動に応じて回転移動
するのみであり、前記と同様にして冷却媒体を供給でき
るものであり、理想的な冷却系を構成でき、このため、
ターゲットを低温下でイオン注入でき、良質のデバイス
を得ることができるものである。
つぎにこの発明を、そのl実施例を示した第3図以下の
図面とともに詳細に説明する。
これらの図面において、(7)は大電流イオン注入装置
の筐体状の装置本体であり、内筒ニに高圧用へ。
真空ポンプ等が備えられている。(8)は装置本体(7
)の前側に設けられたエンドステーション、(9)はエ
ンドステーション(8)上の装置本体(7)の前面に一
体に設けられたターゲットチャンバー、Oqはターゲッ
トチャンバー(9)の右側内部に形成され常時高真苧 空に保持されるイオン注入室であり、高圧部からのイオ
ンビームのビームラインにイオン入射口(11(を介し
て接続されている。uzはターゲットチャ/バー(9)
の左側に前面に開口しほぼ円筒状に形成されたチャンバ
一本体であり、後面に真空ポンプに連通ずる真空排気口
a3が透設□されている。G4Iはチャンバ一本体a2
の前面にヒンジ(15)を介して前後に開閉自在に設け
られた円形のチャ/バー蓋であり5エンドステーシヨン
(8)上に設けられたエアシリンダー、油圧シリンダー
等のシリンダー叫により開閉操作され、チャンバー蓋q
41の開時には保持具面によりほぼ水平に保持される。
(181はチャンノ(一本体(121とチャ/バー蓋u
41とにより形成されたチャンバー室、a印はイオン注
入室ローとチャンノ(−室L181 (!−を連通ずる
断面が細長い通路、t20+は該通路(19)を回転移
動により開閉する断面はぼ半円形のノζルプである。
21+および@はチャンバー蓋u41の外側面に支持さ
れそれぞれの回転軸がチャンバー蓋u4Iの内側に導入
された回転用モータおよび移動用ステッピングモータで
あり、後述のディスクの駆動機構さなる。
131および(至)はチャンバー蓋u4Iの内1111
に左右力向に設けられそれぞれ回転用モータQυおよび
ステンピングモータ嗟により回転される回転駆動軸およ
び移動用駆動軸、傷)はチャンバー蓋u41の内側に左
右力向に設けられた対のガイドレール、Gl!61rd
該nのガイドレール、(25)に左右力向に移動自在に
支持された移動体であり、この移動体(至)には、第6
図に示すように、前記移動用駆動軸■が噛合するめねじ
咥が形成されており、モータ(2)の駆動による駆動軸
(至)の回転により移動体(2ii)が左右に直線移動
される。□□□は移動体(至)に回転自在に内装され回
転駆動軸回)が挿通するとともに該駆動軸123+によ
り回転されるねじ車、凶は移動体□□□に回転自在に支
持され後述のディスクの中心軸となる軸であり、その中
腹部外周に前記ねじ車(ハ)に噛合する歯車■が一体に
設けられ1回転駆動軸回)の回転により軸(29)が回
転される。(3I)および国は軸(ハ)の内部に軸力向
に形成された冷却媒体の往路および還路である。
(331は軸2fllの上端部に支持された円板状のテ
゛イスクであり、回転用モータ(21)およびステッピ
ングモータ4により回転および直線移動される。(34
)はディスク(淵の外周部に等間隔に形成された複数個
のイオン注入用ターゲットの装着部であり、それぞれ外
力に切り欠いた1対の溝例を有しており、これが後述の
ハンドリング装置のベルト挿入孔となゐ。1鏝はディス
外33)の各装着部(34)土に装着されたイオン注入
用ターゲットとなる円形のウェハー、肋は各装着部(財
)の内部にそれぞれ対の満開の内側に浴う蛇行状に形成
された冷却路、(38)および(39)はディスク瞥の
内部に放射状に形成されそれぞれ冷却路(3力の一端お
よび他端に連通する冷却用往通路および冷却用還通路で
あり、冷却用往通路381が軸    ”因)の往路イ
1)に、冷却用還通路(391が゛還路134にそれぞ
れ連通されており、軸内の往路i31に供給された水等
の冷却媒体が各冷却用往通路(38)を通って各冷却路
(3ηにそれぞれ流入され、装着s例上のウェハー(3
6)を冷却したのち、各冷却用還通路09)を通って軸
ン9)の還路(32に戻される。(40)は各装着部(
341上のウニ・・−f3ff、を当該装着部(補に圧
接する馬蹄形のホルダであり、ホルダ(40)の基部に
はディスク(33)を貫通するビン(41)が設けられ
るとともに、該ビン(41)の端部とディスク(33)
の下面との間にスプリング(44が介装されており、こ
のスプリング(4りのばね力によりウェハー(36)が
保持される。
(43)は軸内の下端部に一体の軸体(偵とその外周に
気密かつ回転自在に設けられた筒体(4四七により構成
された移動点ロータリジヨイントであり、軸体(44)
の外周面および筒体(伺の内周面にはそれぞれ互いに合
致する断面半円形の3条の環状溝が形成され、これによ
り8条の環状通路(46a)、(46b)、(460)
 カ形成されており、両環状通路(46b)、(460
)がそれぞれ往路(31i、還路I34に連通されてい
る。(4ηは軸体(州吉該軸体(州の外側に気密かつ回
転自在に設けられた筒体(49)とにより構成された中
間点ロータリジヨイントであり、軸体(481と筒体(
49)との間に前記と同様K L48 +o環状通路(
50a)、(50b)、(500) カ形ff サれ、
軸体(4119内に形成された3つの通路(51a)、
(51b)。
(5tc) i:ソhソh 環状m M (50a)、
(50b)、(50G) K 連通すれている。(52
)は軸体(58)と該軸体(53)の外周に気密かつ回
転自在に設けられた筒体(54)とにより構成され支持
体(55)を介してチャンバー蓋(14Iの内面に支持
された固定点ロータリジヨイントであり、軸体(53)
と筒体(54)との間に3条の環状通路(56a)。
(56b)、(560)が形成され、軸体(53)内の
3つの通路(57a)、(57b)、(57c) i:
それぞれ環状通路(56a)、(56b)、(56c)
VC連通さhている。(58a)、(58b)、(58
c) u 移m 点o −タリジョイント(へ)と中間
点ロータリジヨイント(471のそれぞれの筒体+45
) 、 (49)間を連結し環状通路(46a)。
(461υ、(468)と環状m M (50a)、(
50b)、(50C)とヲソレソれ連通する真空排気管
、往側冷却管、遠側冷却管、(59a)、(59b)、
(590) u中間点CI −p +) ジヨイントf
47] ト固定点ロータリジヨイント(52)の軸体(
4〜、  (53)間を連結し通路(51a)、(51
b)、(510)と通路(57a)、(57b)、(5
7c)とをそれぞれ連通する真空排気管、往側冷却管。
遠側冷却管、  (6oa)、(sob)、(6oc)
は固定点ロークリジヨイント(52)の筒体(54)に
接続されるとさもにそれぞれ環状通路(56a)、(5
6b)、(560)に連通された真空排気主管、冷却媒
体供給管1回収管であり、それぞれチャンバーfiu4
1より導出され、真空排気主管(60B)が真空ポンプ
に接続されるとともに、供給管(60b) 、回収管(
600)が熱交換器および循環ポンプに接続されている
。(6■)は各ロータリジヨイント(43) 。
(4η、  (52)等の一可動部の0リングシールで
あり、可動部における水もれを防止する。
(62)はエンドステーション(8)上に設けられたウ
ェハー+3119の・・ンドリング装置であり、その操
作台(63)が前後および上下に移動自在に支持され、
操作台(63)の先端にディスク瞥の装着部製の満空に
挿入自在の対のベル) (64)が設けられる古ともに
操作台(6B)にウエノ・−キャリヤ(65)が設置さ
れており、この種ノ・ンドリング装置(62)が回収用
と装着用との2台備えられている。そして、ウエノ・−
(36)の回収あるいは装着を行なう場合は、操作台(
63)によりディスク133)の装着部(34Iのホル
タ+401 カ’cのスプリング(4匂のばね力に抗し
て浮上され、ウニ・・−・萬の移動を容易にしている。
つぎに、前記実施例の動作について説明する。
まず、ディスク1331の各装着部但(1)にそれぞれ
未注入ウェハー(隔を装着し、第3図に示すように2チ
ヤンバー蓋u41を閉じてディスク(33)をチャンバ
ー室t181内に収納する。そして、チャンバー室(瑚
をその真空排気口(131を介して真空排気し、イオン
注入室+I(lと同程度の高真空に排気したのち、パル
プ(20)を回転移動してチャンバー室(181とイオ
ン注入室fIOとを通路11g1を介して連通ずる。つ
ぎに、回転用モータt2]1が駆動し1回転駆動軸シ3
)、ねじ事例、歯車(30)および軸(5)を介してデ
ィスク(33)が回転されるとともに、図下しない冷却
媒体の循環ポンプが駆動し、ディスク(33)の各冷却
路(3力に冷却媒体が循環される。
すなわち、冷却媒体供給管(6011)からの冷却媒体
は。
固定点ロータリジヨイント(52)の環状通路(561
1)・軸体(53)の通路(57b)・往側冷却管(5
9b)・中間点ロータリジヨイント(4ηの軸体(48
)の通路(51b)・環状通路(50b)・往1111
冷却管(58b)・移動点ロータリジヨイント(431
の環状通路(46b)・軸内の往路(3I)をノrIJ
す、各冷却用往通路關を介して各装着部:圓の冷却路(
37)に流入され、装着部134)土のウェハー(嘉を
冷却したのち、各冷却用還通路(39)を介して軸内の
還路°(34に戻される。さらに、還路132の冷却媒
体は、環状通路(46C)・遠側冷却管(58C)・環
状通路(50e)・通路(510)・遠側冷却管(59
0)・通路(57G)・環状通路(56C)を通り、冷
却媒体回収管(600)より熱交換器に戻される。ここ
で、各ロータリジョインH43)、 +471.  (
52)においては、その可動部で水もれが生じないよう
0リングシール(61)によりシールされているが、万
一0リングシール(61)で水もれが起きても、真空排
気主管(60a)より真空引されることにより、各環状
通路(4sa)、(5oa)、(56a)よりもれ水が
吸引され、真空中のチャンバー室σ印内への水もれが確
実に防1トされる。
つぎに、移動用ステンピングモータ12zが駆動し。
移動用駆動軸(至)およびφねじ(4)を介して移動体
鑓がガイド防)に沿って右方へ移動され、回転中のディ
スク(33)が右方へ直線移動される。このとき、移動
点ロータリジヨイント(鈎は軸IJIの移動とともに移
動するが、各ロータリジヨイント[43j、 +471
.  (52)において、軸体t44)、を祷、  (
53)と筒体+45i)、 to)、  (54)とが
それぞれ気密に回転されるため、各ロータリジョイン)
(431,甑、 (52)のそれぞれの間を一定に保持
しながら、中間点ロータリジヨイント(471が固定点
ロータリジヨイント(52)に対して回転移動し、冷却
媒体の循環に支障はない。さらに、ディスク・判が右方
へ移動すると、ディスク(33)は通路09)を通って
イオン注入室+1(lに導入し、第4図および第5図に
示すように、ディスク(33)の約半分がイオン注入室
ill内に導入されると、今度は、両七−タt21+ 
のによりディスク關が高速回転しながら左右に細かく移
動され、スポット状でイオン注入口(Illからイオン
注入室acj内に入射されたイオンビームにより、ディ
スク瞥上の各ウエノ・−136がイオン注入される。こ
のとき、イオン注入により各ウエノ・−136)が受け
る熱エネルギーは、前記した冷却媒体のディスク33)
内への循環により回収され、各ウエノ・−146、は低
温処理される。
つぎに、前述のイオン注入が完了すると、ステッピング
モータ(社)によシディスク133)はチャンバー室(
18)内に移動され、バルブ翰が閉じ、チャンバー室(
181が大気圧に戻される。そして、チャンバー蓋(1
41が前方に回動してディスク關が水平に保持さ7″1
.2当該デイスク(署が回転用モータ(211で節動回
転され、前述のハンドリング装置(62)により、注入
光rウェハー13(iの回収および未注入ウェハー13
6;の装着が行なわれる。
したがって、前記実施例によると、メカニカルスキャン
を行なうディスク(33)の軸(支)に一体に移動点ロ
ータリジヨイント(431を設けるとともに、チャンバ
ー1a41の内側に一体に固定点ロータリジヨイント(
52)を設け、両ロータリジヨイント+431.  (
52)間に中間点ロータリジヨイント(4カを設け、移
動点と中間点の両ロータリジヨイント(43)、 (4
ηのぞれぞれの筒体(伺、 +49)間および中間点と
固定点の両ロータリジヨイントI4力、  (52)の
それぞれの軸体(4B、 (53)間をそれぞれ、往側
冷却管(58b)、(59b) 、遠側冷却管(58c
)、(590)で連結するため、冷却媒体を外部から各
ロータリジヨイント(52) 、 +47] 、 [4
31を介してディスク關の各装着部−の冷却路(3′7
)に供給することができ、各ウェハー(361を効果的
に冷却し、イオン注入により受ける熱を除去してウェハ
ー13句を低温ドでイオン注入でき、良質のデバイスを
得ることができるものである。ここで、ディスク133
)は回転および直線移動を行なうが、各ロータリジヨイ
ントtie 、 +471 、  (52)において、
それぞれの軸体(44)、を個。
(53)と筒体(僧、+49)、  (54)とが気密
かつ回転自在であるため、冷却媒体の循環経路がディス
ク(鏝のメカニカルスキャンによって変化することはな
く。
常に安定した冷却媒体の供給が実現できるものである。
さらに、前記実施例では、各ロータリジヨイントt4L
t4η、  (52)にそれぞれ真空排気主管(6Qa
)より真空排気される環状通路(46a)、(50a)
、(56a)を設けるため、冷却媒体が各ロータリジヨ
イント143) 。
(初、  (52)の可動部よりもれるこ七がなく、安
全である。
なお、前記実施例では、ディスク133)の各装着部(
341の冷却路9ηを並列接続としたが、これを直列あ
るいは直並列に接続してもよい。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は従来のイオン注入装置のターゲッ
ト冷却装置を示し、第1図は正面図、第2図は一部の平
面図、第3図以下の図面はこの発明のイオン注入装置の
ターゲット冷却装置の1実施例を示し、第3図は全体側
面図、第4図および第5図はターゲットチャンバ一部分
の正面図および切断平面図、第6図は要部のディスク冷
却系の展開断面図、第7図はディスクの一部の平面図で
ある。 四・・・軸、133)・・・ディスク、131・・・ウ
ェー・−、+37)・・・冷却路、(伺・・・移動点ロ
ータリジヨイント、(471・・・中間点ロータリジヨ
イント、  (52)・・・固定点ロータリジヨイント
、(個、 +4119.  (5B)・・・軸体、+4
51.149)、  (54)・・・筒体、(46b)
、(460)、(50b)、(50c)、(56b)、
(56C)・・・環状通路、(58b)、(59b)・
・・往側冷却管、(580)、(590)・・・遠側冷
却管。 代理人 弁理士  藤田龍太部

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ■ 回転および移動自在のターゲット装着用ディスクに
    冷却路を形成し、軸体と該軸体の外周に気密かつ回転自
    在に設けられた筒体との間に環状通路を形成して固定点
    、移動点および中間点の各ロータリジヨイントを構成し
    、前記ディスクの中・○軸に前記移動点ロータリジヨイ
    ントの軸体を一体に設けるとともに、前記固定点ロータ
    リジヨイント七前記中間点ロータリジヨイントのそれぞ
    れの軸体間および前記中間点ロータリジヨイントと前記
    移動点ロータリジヨイントのそれぞれの局俸間をそれぞ
    れ冷却管で連結し、冷却媒体を前記各ロータリジヨイン
    トを介して前記ディスクの前記冷却路に供給することを
    特徴とするイオン注入装置のターゲット冷却装置。
JP7871582A 1982-05-10 1982-05-10 イオン注入装置のタ−ゲツト冷却装置 Granted JPS58194241A (ja)

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WO2008021340A2 (en) * 2006-08-17 2008-02-21 Axcelis Technologies, Inc. Workpiece handling scan arm for ion implantation system
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