JPH0855814A - イオン注入装置用エンドステーション - Google Patents
イオン注入装置用エンドステーションInfo
- Publication number
- JPH0855814A JPH0855814A JP20612594A JP20612594A JPH0855814A JP H0855814 A JPH0855814 A JP H0855814A JP 20612594 A JP20612594 A JP 20612594A JP 20612594 A JP20612594 A JP 20612594A JP H0855814 A JPH0855814 A JP H0855814A
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- JP
- Japan
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- wafer
- platen
- fork
- transfer robot
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 プラテン及び搬送ロボットを異なる径のウエ
ハに対応できるようにすること。 【構成】 イオン注入時にウエハを支持するプラテン１
には、複数の径の異なるウエハをそれぞれ支持すること
ができるウエハ受け３1，３2，３3が階段状に形成され
ている。これらウエハ受け形成部及びその底部を横断し
て切欠き溝６が形成されており、この溝にウエハ搬送ロ
ボット８のフォーク９が入り込むことができる。フォー
クにもプラテンと同様にウエハ受け１３1，１３2，１３
3が形成されている。これらウエハ受けの周りに傾斜部
を形成することによりウエハをセンタリングしてウエハ
受けに載せることができる。プラテンはプラテン回転軸
７により傾斜可能に構成されており、真上或いは任意の
斜め上方角度からイオンを注入することができる。
ハに対応できるようにすること。 【構成】 イオン注入時にウエハを支持するプラテン１
には、複数の径の異なるウエハをそれぞれ支持すること
ができるウエハ受け３1，３2，３3が階段状に形成され
ている。これらウエハ受け形成部及びその底部を横断し
て切欠き溝６が形成されており、この溝にウエハ搬送ロ
ボット８のフォーク９が入り込むことができる。フォー
クにもプラテンと同様にウエハ受け１３1，１３2，１３
3が形成されている。これらウエハ受けの周りに傾斜部
を形成することによりウエハをセンタリングしてウエハ
受けに載せることができる。プラテンはプラテン回転軸
７により傾斜可能に構成されており、真上或いは任意の
斜め上方角度からイオンを注入することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、複数の異なる径のウエ
ハに対し、高エネルギー、低注入量のイオン注入を行う
イオン注入装置用エンドステーションに関する。
ハに対し、高エネルギー、低注入量のイオン注入を行う
イオン注入装置用エンドステーションに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のイオン注入システムでは、注入
時、被注入半導体ウエハの冷却が制約条件としてある。
これは、レジストでマスクされていないウエハの所定の
領域にイオンが注入されるが、イオンのエネルギー吸収
によりウエハが発熱し、これに伴い、レジストが損傷さ
れるのを防ぐためである。このため、注入時、ウエハは
ウエハディスク或いはプラテンのウエハ載置面に密着さ
せ、ウエハディスク或いはプラテン内に設けた冷却路に
冷却水を通流させることにより、イオン注入時にウエハ
を冷却している。
時、被注入半導体ウエハの冷却が制約条件としてある。
これは、レジストでマスクされていないウエハの所定の
領域にイオンが注入されるが、イオンのエネルギー吸収
によりウエハが発熱し、これに伴い、レジストが損傷さ
れるのを防ぐためである。このため、注入時、ウエハは
ウエハディスク或いはプラテンのウエハ載置面に密着さ
せ、ウエハディスク或いはプラテン内に設けた冷却路に
冷却水を通流させることにより、イオン注入時にウエハ
を冷却している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来のイオン注入、不
純物注入とは異なるウエハ結晶構造の改質等のために水
素のプラスイオン等を注入する技術が注目され始めてい
る。かかる技術では、ウエハ全面にイオンが注入される
が、注入量も少ないものであり、ウエハ面をレジストで
マスクする必要もないから、ウエハの冷却は特に要しな
い。ただ、かかる注入技術が利用される分野のトランジ
スタ或いはサイリスタに係るウエハにあっては、ＤＲＡ
Ｍのウエハのような同一品種の大量生産ではなく、同じ
注入プロセス内を異なるサイズのウエハが常時流れるこ
とになり、その手当が必要となる。
純物注入とは異なるウエハ結晶構造の改質等のために水
素のプラスイオン等を注入する技術が注目され始めてい
る。かかる技術では、ウエハ全面にイオンが注入される
が、注入量も少ないものであり、ウエハ面をレジストで
マスクする必要もないから、ウエハの冷却は特に要しな
い。ただ、かかる注入技術が利用される分野のトランジ
スタ或いはサイリスタに係るウエハにあっては、ＤＲＡ
Ｍのウエハのような同一品種の大量生産ではなく、同じ
注入プロセス内を異なるサイズのウエハが常時流れるこ
とになり、その手当が必要となる。
【０００４】本発明は、かかる異なる径サイズのウエハ
に対し、その構造を組み替えずに対応することができる
イオン注入装置用のエンドステーションの提供を目的と
するものである。
に対し、その構造を組み替えずに対応することができる
イオン注入装置用のエンドステーションの提供を目的と
するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、イオン注入装
置用エンドステーションであって、複数のウエハ受けが
階段状に形成されていると共に、このウエハ受け形成部
及び同形成部の底部を横断して切欠き溝が形成されてい
るプラテンと、階段状に形成されたウエハ受けを有し、
前記プラテンに形成された切欠き溝内に入り込むことが
できるフォークを有するウエハ搬送ロボットとを備えて
なることを主たる特徴とする。
置用エンドステーションであって、複数のウエハ受けが
階段状に形成されていると共に、このウエハ受け形成部
及び同形成部の底部を横断して切欠き溝が形成されてい
るプラテンと、階段状に形成されたウエハ受けを有し、
前記プラテンに形成された切欠き溝内に入り込むことが
できるフォークを有するウエハ搬送ロボットとを備えて
なることを主たる特徴とする。
【０００６】また本発明は、イオン注入装置用エンドス
テーションであって、周りに傾斜部をもつ複数のウエハ
受けが階段状に形成されていると共に、このウエハ受け
形成部及び同形成部の底部を横断して切欠き溝が形成さ
れているプラテンと、周りに傾斜部をもつ複数のウエハ
受けが階段状に形成されており、前記プラテンに形成さ
れた切欠き溝内に入り込むことができるフォークを有す
るウエハ搬送ロボットとを備えてなることを特徴とする
ものである。
テーションであって、周りに傾斜部をもつ複数のウエハ
受けが階段状に形成されていると共に、このウエハ受け
形成部及び同形成部の底部を横断して切欠き溝が形成さ
れているプラテンと、周りに傾斜部をもつ複数のウエハ
受けが階段状に形成されており、前記プラテンに形成さ
れた切欠き溝内に入り込むことができるフォークを有す
るウエハ搬送ロボットとを備えてなることを特徴とする
ものである。
【０００７】さらに本発明は、かかるイオン注入装置用
エンドステーションにおけるプラテンが傾斜可能に構成
されていることを特徴とするものである。
エンドステーションにおけるプラテンが傾斜可能に構成
されていることを特徴とするものである。
【０００８】
【作用】プラテン及び搬送ロボットのフォークに複数の
ウエハ受けが階段状に形成されており、プラテンのウエ
ハ受け形成部及び同形成部の底部を横断して形成された
切欠き溝内にフォークが入り込むことができるから、径
サイズの異なるウエハに対し、プラテン及び搬送ロボッ
トのフォークは各径に対応するウエハ受け部分でウエハ
を支持することができ、搬送ロボットはプラテンにおけ
る任意段のウエハ受けに対してウエハを搬出入すること
ができる。
ウエハ受けが階段状に形成されており、プラテンのウエ
ハ受け形成部及び同形成部の底部を横断して形成された
切欠き溝内にフォークが入り込むことができるから、径
サイズの異なるウエハに対し、プラテン及び搬送ロボッ
トのフォークは各径に対応するウエハ受け部分でウエハ
を支持することができ、搬送ロボットはプラテンにおけ
る任意段のウエハ受けに対してウエハを搬出入すること
ができる。
【０００９】プラテン及び搬送ロボットのフォークのウ
エハ受けの周りの傾斜部により、ウエハをウエハ受けに
載せるとき、ウエハに対しセンタリング作用が生ずる。
エハ受けの周りの傾斜部により、ウエハをウエハ受けに
載せるとき、ウエハに対しセンタリング作用が生ずる。
【００１０】プラテンが傾斜可能に構成されていること
により、プラテンで支持されているウエハに真上或いは
任意の斜め上方角度からイオンビームを注入することが
できる。
により、プラテンで支持されているウエハに真上或いは
任意の斜め上方角度からイオンビームを注入することが
できる。
【００１１】
【実施例】本発明の実施例について、図面を参照して説
明する。図１はイオン注入時にウエハを支持するプラテ
ン及びウエハ搬送ロボットの斜視図、図２は図１のＡ−
Ａ線でのプラテンの断面図、図３はプラテン及び搬送ロ
ボットを有するエンドステーションの構成図である。イ
オン注入室を備えるエンドステーションは、基本的に
は、中電流型イオン注入装置のエンドステーションに採
用されている枚葉型エンドステーションと同様の、プラ
テンを有する構成のものである。
明する。図１はイオン注入時にウエハを支持するプラテ
ン及びウエハ搬送ロボットの斜視図、図２は図１のＡ−
Ａ線でのプラテンの断面図、図３はプラテン及び搬送ロ
ボットを有するエンドステーションの構成図である。イ
オン注入室を備えるエンドステーションは、基本的に
は、中電流型イオン注入装置のエンドステーションに採
用されている枚葉型エンドステーションと同様の、プラ
テンを有する構成のものである。
【００１２】図１及び図２に示すように、プラテン１は
円柱体の上部に、複数の径の異なるウエハ２を支持する
ウエハ受け３1，３2，３3…が階段状に形成されてい
る。これらウエハ受けは、上から順に径の大きいものか
ら小さいものがそれぞれウエハ２のセンタリングのため
の傾斜部４、そして垂直部５を有して階段状に形成され
ており、これらウエハ受け形成部及び同形成部の底部を
横断して後述するウエハ搬送ロボットのフォークが入り
込むことができる切欠き溝６が形成されている。そし
て、プラテン１の側面下方の１８０度異なる位置に、プ
ラテンを傾斜回転させるためのプラテン回転軸７が取り
付けられている。イオン注入時におけるプラテン１の垂
直軸からの回転角は最大６０〜７０度程度であり、真上
或いは斜め上方からイオンを打ち込む。プラテン１にお
けるウエハ受け３1，３2，３3の周りの垂直部５によ
り、プラテン回転時にウエハ受けからウエハが脱落する
のを防ぐことができる。
円柱体の上部に、複数の径の異なるウエハ２を支持する
ウエハ受け３1，３2，３3…が階段状に形成されてい
る。これらウエハ受けは、上から順に径の大きいものか
ら小さいものがそれぞれウエハ２のセンタリングのため
の傾斜部４、そして垂直部５を有して階段状に形成され
ており、これらウエハ受け形成部及び同形成部の底部を
横断して後述するウエハ搬送ロボットのフォークが入り
込むことができる切欠き溝６が形成されている。そし
て、プラテン１の側面下方の１８０度異なる位置に、プ
ラテンを傾斜回転させるためのプラテン回転軸７が取り
付けられている。イオン注入時におけるプラテン１の垂
直軸からの回転角は最大６０〜７０度程度であり、真上
或いは斜め上方からイオンを打ち込む。プラテン１にお
けるウエハ受け３1，３2，３3の周りの垂直部５によ
り、プラテン回転時にウエハ受けからウエハが脱落する
のを防ぐことができる。
【００１３】プラテン１に対しウエハを搬入、搬出する
ウエハ搬送ロボット８は多関節ロボットであり、ウエハ
が載置されるフォーク９、アーム１０、昇降機構部１１
及びロボット駆動機構部１２を有し、フォークを所要の
旋回位置、高さ位置で矢印ａの直線方向に移動させるこ
とができる。フォーク９は厚い円板の両側面を切り落し
た全体として細長い形状のものであり、その上面に、径
の異なるウエハを支持する複数のウエハ受け１３1，１
３2，１３3…がプラテン１と同様にセンタリングのため
の傾斜部及び垂直部を有して階段状に形成されている。
ウエハ搬送ロボット８は多関節ロボットであり、ウエハ
が載置されるフォーク９、アーム１０、昇降機構部１１
及びロボット駆動機構部１２を有し、フォークを所要の
旋回位置、高さ位置で矢印ａの直線方向に移動させるこ
とができる。フォーク９は厚い円板の両側面を切り落し
た全体として細長い形状のものであり、その上面に、径
の異なるウエハを支持する複数のウエハ受け１３1，１
３2，１３3…がプラテン１と同様にセンタリングのため
の傾斜部及び垂直部を有して階段状に形成されている。
【００１４】ウエハは径サイズに関係なく常にフォーク
９、プラテン１の中心にウエハの中心が位置するように
搬送される。プラテン１にウエハを搬入するとき、プラ
テンの上方にウエハ搬送ロボット８のウエハを載せたフ
ォーク９が伸び、フォーク中心とプラテン中心が一致し
た位置でフォークがプラテンの切欠き溝に入り込んで下
降し、ウエハの径サイズに対応するプラテンのウエハ受
け３1ないし３3の何れかにウエハを降ろし、フォークは
さらに最低位置まで下降し、それからフォークを切欠き
溝から離脱させ、所定の停止位置まで戻す。プラテン１
からウエハを搬出するときは、これとは逆に、フォーク
９をプラテン１の切欠き溝６内に入れ、上昇してウエハ
を受取る。
９、プラテン１の中心にウエハの中心が位置するように
搬送される。プラテン１にウエハを搬入するとき、プラ
テンの上方にウエハ搬送ロボット８のウエハを載せたフ
ォーク９が伸び、フォーク中心とプラテン中心が一致し
た位置でフォークがプラテンの切欠き溝に入り込んで下
降し、ウエハの径サイズに対応するプラテンのウエハ受
け３1ないし３3の何れかにウエハを降ろし、フォークは
さらに最低位置まで下降し、それからフォークを切欠き
溝から離脱させ、所定の停止位置まで戻す。プラテン１
からウエハを搬出するときは、これとは逆に、フォーク
９をプラテン１の切欠き溝６内に入れ、上昇してウエハ
を受取る。
【００１５】図３は、かかるプラテン１及びウエハ搬送
ロボット８を有するエンドステーションの構成図であ
る。注入室１４の中央部にプラテン１が配置されてお
り、プラテンの両側に未注入ウエハを搬入するウエハ搬
送ロボット８ａ及び注入済みウエハをプラテンから搬出
するウエハ搬送ロボット８ｂを配置する。注入室１４の
両側にエアロック室１５ａ，１５ｂが設けられており、
注入室と大気部とはそれぞれゲートバルブ１６ａ，１６
ｂ、１７ａ，１７ｂで仕切られている。これらエアロッ
ク室内に未注入ウエハ及び注入済みウエハを一時収納す
るウエハ受け装置１８ａ，１８ｂが設けられている。こ
れらウエハ受け装置は、プラテン１と同様の、階段状に
形成された複数のウエハ受けを有すると共に、ウエハ受
け形成部及び同形成部の底部を横断してウエハ搬送ロボ
ットのフォークが入り込むことができる切欠き溝が形成
されているものである。エアロック室１５ａ，１５ｂの
外の大気部にウエハ受け装置１７ａ，１７ｂに対するウ
エハ搬送ロボット８ｃ，８ｄが設けられている。
ロボット８を有するエンドステーションの構成図であ
る。注入室１４の中央部にプラテン１が配置されてお
り、プラテンの両側に未注入ウエハを搬入するウエハ搬
送ロボット８ａ及び注入済みウエハをプラテンから搬出
するウエハ搬送ロボット８ｂを配置する。注入室１４の
両側にエアロック室１５ａ，１５ｂが設けられており、
注入室と大気部とはそれぞれゲートバルブ１６ａ，１６
ｂ、１７ａ，１７ｂで仕切られている。これらエアロッ
ク室内に未注入ウエハ及び注入済みウエハを一時収納す
るウエハ受け装置１８ａ，１８ｂが設けられている。こ
れらウエハ受け装置は、プラテン１と同様の、階段状に
形成された複数のウエハ受けを有すると共に、ウエハ受
け形成部及び同形成部の底部を横断してウエハ搬送ロボ
ットのフォークが入り込むことができる切欠き溝が形成
されているものである。エアロック室１５ａ，１５ｂの
外の大気部にウエハ受け装置１７ａ，１７ｂに対するウ
エハ搬送ロボット８ｃ，８ｄが設けられている。
【００１６】イオン未注入ウエハの搬送時、エアロック
室１５ａのゲートバルブ１７ａを開き、ウエハ搬送ロボ
ット８ｃによってウエハをウエハ受け装置１８ａに納め
る。同ゲートバルブを閉じ、同エアロック室を真空に引
く。ゲートバルブ１６ａを開き、ウエハ搬送ロボット８
ａでウエハを注入室１４内に取り出し、同ゲートバルブ
を閉じ、ウエハをプラテン１に渡す。プラテン１の回転
軸７によりプラテンを回転させ、イオンビーム方向にウ
エハ面を合わせ、イオンを注入する。この間、次の未注
入ウエハをウエハ受け装置１８ａに収納しておく。注入
が終わると、ウエハ搬送ロボット８ｂでプラテン１から
ウエハを取り出し、ゲ−トバルブ１６ｂを開いてウエハ
をウエハ受け装置１８ｂに納める。ロボット８ｂを復帰
させて同ゲ−トバルブを閉じる。ゲートバルブ１７ｂを
開いて注入済みウエハをロボット８ｄによってエアロッ
ク室１５ｂから取り出す。この間、未注入ウエハをプラ
テンにセットする。
室１５ａのゲートバルブ１７ａを開き、ウエハ搬送ロボ
ット８ｃによってウエハをウエハ受け装置１８ａに納め
る。同ゲートバルブを閉じ、同エアロック室を真空に引
く。ゲートバルブ１６ａを開き、ウエハ搬送ロボット８
ａでウエハを注入室１４内に取り出し、同ゲートバルブ
を閉じ、ウエハをプラテン１に渡す。プラテン１の回転
軸７によりプラテンを回転させ、イオンビーム方向にウ
エハ面を合わせ、イオンを注入する。この間、次の未注
入ウエハをウエハ受け装置１８ａに収納しておく。注入
が終わると、ウエハ搬送ロボット８ｂでプラテン１から
ウエハを取り出し、ゲ−トバルブ１６ｂを開いてウエハ
をウエハ受け装置１８ｂに納める。ロボット８ｂを復帰
させて同ゲ−トバルブを閉じる。ゲートバルブ１７ｂを
開いて注入済みウエハをロボット８ｄによってエアロッ
ク室１５ｂから取り出す。この間、未注入ウエハをプラ
テンにセットする。
【００１７】本発明によればイオン注入時、プラテン１
で支持されるウエハは、プラテンのウエハ受けにウエハ
の周辺部が載っており、ウエハはイオン注入時に冷却さ
れない。この点、イオン注入時におけるウエハの発熱に
ついて、以下検討する。 シリコンウエハ径Ｄ＝１５ｃｍ（６インチ） ウエハ面積 Ｓ＝１７７ｃｍ2 比熱 ｃ＝０．１６cal/ｇ・℃ 密度 ρ＝２．３ｇ／ｃｍ3 厚さ ｔ＝０．６ｍｍとすると、 重量 Ｗ＝２４ｇ 注入量Ｄ＝１×１０13ｎ／ｃｍ2 イオンビームのエネルギー４ＭｅＶ ビーム電流Ｉ＝２５μＡ＝２５×１０-6Ｃ／secで注入
すると（ビーム電力Ｑ＝１００Ｗ）、 注入時間Ｔ＝（ＤＳ／Ｉ）／ｅ ＝（（１×１０13×１７７）／２５×１０-6）／１．６×１０-19 ＝１１．３sec ただし、ｅ：イオンの電荷量 単位時間当りの発熱量 Ｑ＝１００Ｗ＝２３．９cal／sec 全発熱量 ΣＱ＝２３．９×１１．３＝２７１cal ウエハの温度上昇 ｔ＝ΣＱ／（ｃＷ）＝２７１／（０．１６×２４） ＝７１deg したがって、ウエハ温度はウエハ損傷をもたらすまでに
は上昇しないことが判る。
で支持されるウエハは、プラテンのウエハ受けにウエハ
の周辺部が載っており、ウエハはイオン注入時に冷却さ
れない。この点、イオン注入時におけるウエハの発熱に
ついて、以下検討する。 シリコンウエハ径Ｄ＝１５ｃｍ（６インチ） ウエハ面積 Ｓ＝１７７ｃｍ2 比熱 ｃ＝０．１６cal/ｇ・℃ 密度 ρ＝２．３ｇ／ｃｍ3 厚さ ｔ＝０．６ｍｍとすると、 重量 Ｗ＝２４ｇ 注入量Ｄ＝１×１０13ｎ／ｃｍ2 イオンビームのエネルギー４ＭｅＶ ビーム電流Ｉ＝２５μＡ＝２５×１０-6Ｃ／secで注入
すると（ビーム電力Ｑ＝１００Ｗ）、 注入時間Ｔ＝（ＤＳ／Ｉ）／ｅ ＝（（１×１０13×１７７）／２５×１０-6）／１．６×１０-19 ＝１１．３sec ただし、ｅ：イオンの電荷量 単位時間当りの発熱量 Ｑ＝１００Ｗ＝２３．９cal／sec 全発熱量 ΣＱ＝２３．９×１１．３＝２７１cal ウエハの温度上昇 ｔ＝ΣＱ／（ｃＷ）＝２７１／（０．１６×２４） ＝７１deg したがって、ウエハ温度はウエハ損傷をもたらすまでに
は上昇しないことが判る。
【００１８】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように、プラテ
ン及び搬送ロボットのフォークに複数のウエハ受けが階
段状に形成されており、プラテンのウエハ受け形成部及
び同形成部の底部を横断して形成された切欠き溝内にフ
ォークが入り込むことができるから、径サイズの異なる
ウエハに対し、プラテン及び搬送ロボットのフォークは
各径に対応するウエハ受け部分でウエハを支持すること
ができ、そして、搬送ロボットはプラテンにおける任意
段のウエハ受けに対してウエハを搬出入することができ
る。
ン及び搬送ロボットのフォークに複数のウエハ受けが階
段状に形成されており、プラテンのウエハ受け形成部及
び同形成部の底部を横断して形成された切欠き溝内にフ
ォークが入り込むことができるから、径サイズの異なる
ウエハに対し、プラテン及び搬送ロボットのフォークは
各径に対応するウエハ受け部分でウエハを支持すること
ができ、そして、搬送ロボットはプラテンにおける任意
段のウエハ受けに対してウエハを搬出入することができ
る。
【００１９】また、プラテン及び搬送ロボットのフォー
クのウエハ受けの周りの傾斜部により、ウエハをウエハ
受けに載せるとき、ウエハに対しセンタリング作用が生
じ、ウエハをウエハ受けに円滑に載せることができる。
クのウエハ受けの周りの傾斜部により、ウエハをウエハ
受けに載せるとき、ウエハに対しセンタリング作用が生
じ、ウエハをウエハ受けに円滑に載せることができる。
【００２０】さらに、プラテンが傾斜可能に構成されて
いることにより、プラテンで支持されているウエハに、
真上、或いは任意の斜め上方角度からイオンビームを注
入することができる。
いることにより、プラテンで支持されているウエハに、
真上、或いは任意の斜め上方角度からイオンビームを注
入することができる。
【図１】実施例の要部であるウエハを支持するプラテン
及びウエハ搬送ロボットの斜視図である。
及びウエハ搬送ロボットの斜視図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線でのプラテンの断面図である。
【図３】プラテン及び搬送ロボットを有するエンドステ
ーションの構成図である。
ーションの構成図である。
１ プラテン ２ ウエハ ３1，３2，３3、１３1，１３2，１３3 ウエハ受け ６ 切欠き溝 ７ プラテン回転軸 ８，８ａ〜８ｄ ウエハ搬送ロボット ９ フォーク １４ 注入室 １５ａ，１５ｂ エアロック室 １８ａ，１８ｂ ウエハ受け装置
Claims (3)
- 【請求項１】 複数のウエハ受けが階段状に形成されて
いると共に、このウエハ受け形成部及び同形成部の底部
を横断して切欠き溝が形成されているプラテンと、階段
状に形成されたウエハ受けを有し、前記プラテンに形成
された切欠き溝内に入り込むことができるフォークを有
するウエハ搬送ロボットとを備えてなることを特徴とす
るイオン注入装置用エンドステーション。 - 【請求項２】 周りに傾斜部をもつ複数のウエハ受けが
階段状に形成されていると共に、このウエハ受け形成部
及び同形成部の底部を横断して切欠き溝が形成されてい
るプラテンと、周りに傾斜部をもつ複数のウエハ受けが
階段状に形成されており、前記プラテンに形成された切
欠き溝内に入り込むことができるフォークを有するウエ
ハ搬送ロボットとを備えてなることを特徴とするイオン
注入装置用エンドステーション。 - 【請求項３】 プラテンが傾斜可能に構成されているこ
とを特徴とする請求項１又は２記載のイオン注入装置用
エンドステーション。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20612594A JPH0855814A (ja) | 1994-08-09 | 1994-08-09 | イオン注入装置用エンドステーション |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20612594A JPH0855814A (ja) | 1994-08-09 | 1994-08-09 | イオン注入装置用エンドステーション |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0855814A true JPH0855814A (ja) | 1996-02-27 |
Family
ID=16518210
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20612594A Pending JPH0855814A (ja) | 1994-08-09 | 1994-08-09 | イオン注入装置用エンドステーション |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0855814A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1217647A1 (en) * | 2000-12-21 | 2002-06-26 | Oxford Instruments Plasma Technology Limited | Substrate loading apparatus |
| EP1498934A3 (en) * | 1996-02-28 | 2005-12-21 | Ebara Corporation | Robotic wafer transport apparatus |
| EP1883096A1 (en) | 2006-07-26 | 2008-01-30 | FEI Company | Transfer mechanism for transferring a specimen |
| EP1883095A1 (en) * | 2006-07-26 | 2008-01-30 | FEI Company | Transfer mechanism for transferring a specimen |
| WO2009099107A1 (ja) * | 2008-02-06 | 2009-08-13 | Ulvac, Inc. | 基板搬送用のロボットハンド |
| CN112204707A (zh) * | 2018-05-31 | 2021-01-08 | 应用材料公司 | 数字光刻系统的多基板处理 |
-
1994
- 1994-08-09 JP JP20612594A patent/JPH0855814A/ja active Pending
Cited By (10)
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