JPS6256948A - 被覆材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、基材上に光架橋性で熱安定性の接着剤、およ
びその上に光架橋性ポリイミドフィルムから成る被覆材
料に関するものであり、該被覆材料によりレリーフ画像
を形成する方法に関するものであシ、そのようＫして得
られたレリーフ画像に関するものであり、そして保護層
および不動態層として、電子部品または電子回路の製造
における誘電体として、ノ・ンダ付はマスクとしてまタ
ハガルバルジストとして該画像を使用する方法に関する
ものである。

（従来の技術） ポリイミドは、非常に熱安定な及び化学的に不活性な化
合物であることは公知である。電子部品製造のある工程
を高温で行なう必要があるから、これらポリイミドは電
子部品製造のために非常に重要である。

最近、極性有機溶媒に溶けそして熱架橋性であるポリイ
ミドが開発された。これらポリイミドは、平版写真にお
いてポリイミドの可能な使用を著しく増加させることを
可能にした。例えば、基材表面を完全にイミド化された
ポリイミドで処理すること、およびこれら被覆材料を通
常の平版写真工程によシ、レリーフ画像に変換すること
が今では可能である。

（発明が解決しようとする問題点） しかしながら、この被覆工程は今でもまだ要望されるあ
るものを残している。例えば、厚いポリマ一層の製造の
際には比較的大量の溶媒が、工業の衛生問題上望ましく
ない蒸気として放出される。さらに、例えば回転塗装ま
六は流し塗装において、層の厚きは使用する溶液の粘度
によりおよび機械のパラメータ例えば回転速度および処
理量によシ影響され、その結果これらのパラメータを被
覆工程において考慮に入れる必要がある。

さらに、被覆される基材の大きさと形によって、溶液を
適用することにエフ被覆を行なう場合、該被覆を満足す
べき形状″または満足すべき均一さに適用することが、
常に可能でろるとはいえない。

それ故に、被覆の前に例えば適当なポリイミドフィルム
を供給することにより、有効保護層の調製を施すことが
望まれる。該フィルムは基材に簡単な方法で、例えばロ
ールから、適用される。

これらの光架橋性ポリイミド（これらは感光性ではある
が）は、高強度及び寸法安定度を有する自立フィルム全
形成することが今見い出された。ある種のポリイミドで
は、光架橋反応が層の厚さ全体にわ７３ｊ）起こること
もさらに見いだされた。従ってこれらのポリイミドを画
像形成または保護層の調製においてフィルムとして使用
することが、原則として可能である。しかしながら、化
学的及び機械的高強度の大めに、光工程を害しない基材
に対する明確な結合が存在しない。

使用される接着は、これらの保護層に考えられる熱応力
に抵抗することがてらに必要であり、このことが可能な
接着剤の選択を強く制限する。

溶液からのポリイミド層の調製において、この様に調製
てれた届は、時に層の厚さが１０μｍよシ大である場合
、乾燥工程のために接着に逆の効果を有することができ
る固有の張力の下にあることかきらに見い出てれに０さ
らに、特に平滑なそして化学的に不活性な表面の場合に
は、これらポリイミドの接着において一層の改良の一般
的な要求がある。しかしながら、基材及び接着剤層に溶
液からのポリイミドを加える一連の被覆過程は可溶なポ
リイミドに使用されるべき溶媒が一般的に非常に強力で
、下にある接着剤の層を溶かすかまたは少なくとも強く
害するｋめに、一般には可能ではない。

自立光架橋性ポリイミドフィルムを基材に対応する熱安
定性で光架橋性の接着剤により結合することによって、
前記の問題点が解決され、そして、述べられた要求が満
たされることが今見い出された。

“熱安定゛に、本発明の目的のために：単独でそしてさ
らにおおいなし疋使用される場谷、２３０℃での通常の
ハンダ浴に耐え得る光構造性接着剤に特に適用する。

この層システムを利用して、高分解能及び優れた接着性
のレリーフ構造が得られること並びにおおよそ同時にこ
れらのレリーフ構造は、フィルムの原材料と同様な良好
な化学的、熱的及び機械的特性？有することをさらに見
い出した。

光構造性接着剤がフィルムの原材料よりある程度低い熱
安定性を有する場合、接着剤の層が、例えば高温での酸
素との直接の接触から保ｎてれ、または例えばハンダ浴
との直接の接触から保護されておジ、付加的に有利であ
る。可能な化学の領域内で、ポリイミドフィルム・の良
好な熱特性と理想的な方法で接着剤の良好な接着特性を
結びつけることがこの様に可能である。

驚くべきととて、可溶な光架橋性ポリイミドからなるフ
ィルムの光架橋は、広い層の厚での範囲にわたり均一に
そして高分解能で起こることをざらに児い出し７ｆｆ１
．結果として、下に立いている感光性接着剤の特定の光
構造を得ることが可能である。結果はこの様に層の厚さ
全体にわたシレリー７溝造の正確で均一な鮮明度である
。

これは強い光吸収が層の上部で起こるので居のよシ下部
は、不完全な範囲までしか露光されない多くの他の光構
造性システムとは対照的である。

本発明は１例えば短波長の可視域を含む近紫外域での放
射が３６５，４０５及び４３６ｎｒｎで主線を構成する
通常の水銀ランプ全使用した場合には、フィルムが例え
ば吸収しない、他の波長で活性になるように光構造性接
着剤を感受性にし、それによってフィルムに向き合った
接着剤の付加的な及び非常に特異的な硬化を得ることも
可能となる。

′　広い厚さの範囲にわたりポリイミドフィルムの高い
感光性は、フィルムが強く散乱する表面例えば極性セラ
ミック基材に適用てれた場合には、不利である。表面で
のこの強い光散乱の結果として、架橋はポリイミドフィ
ルムの影の部分で起こシ、分解能は低下する。フィルム
の感受性は、受は入れられない程に弱められるからこの
問題は、ポリイミドフィルムだ強い吸収剤中 例えばアンチハ染料を加えることだよっては一般に解決
されない。その様な場合には１画像を普通に溶液から適
用きれたフィルムを使用して調製することはできない。

この問題に対する明確でない解決法は、光構造性接着剤
で固定されたポリイミドフィルムである。接着剤の注意
深い選択全通して、表面によシ散乱でれる光が接着剤の
薄層内に吸収され、そして、それにもか■ かわらず接着剤物質の表面の十彷感光性が保証されてい
る様に系を設計することができる。ポリイミドフィルム
は、あらゆる散乱光によっても侵されず、接着剤の層の
幾何学的な影の部分も露光されない。

光構造性フィルム特に乾燥塗膜レジストに積層すること
によるレリーフ画像の製造は、種々の特許に開示されて
いて１例えば米国特許第４５２４５０４号である。乾燥
塗膜レジストは一般に支持フィルム（例えばポリエステ
ル）、光構造性の暦及び上層（例えばポリエチレン）か
らなる。基材への適用は、適当な場合には支持フィルム
をも使用する上層フィルムを引き離すことによシ達成さ
れ、そして加圧することによシまたは減圧を使用するこ
とによシ、所望によシ高温で積層する。

対応する工程は例えば米国特許第４１２ス４５６号から
公知である。

ポリイミドを基礎とした乾燥塗膜レジストはこれまで開
示されていない、セしてさらに詳細には光構造の前に、
自立するために十分に厚い感光性ポリイミドフィルムは
開示されていない。

これまで開示された乾燥塗膜レジスト系よシ十分に高い
温度にさらす仁とができる乾燥塗膜レジスト系の供給は
、非常に望ましい。

重ねられた層を適所に保ち、そしてレリーフ画像の調製
疋使える光構造性接着剤のような一つの光構造性の層よ
シ多くからなる光構造系は公知である。

例えば、米国特許第４，５０６，００４号、酉ドイツ国
出願公開第２．６５＆４２２号及び日本国出願公開昭５
８−６ａ７４０号は、二種の異なる光構造性の層からな
る系を記載し、そのよ〕下の層は、その構造及び／また
は化学的添加剤のために改良された接着力に使える。日
本国出願公開昭５６−２３１１５０号は、基材、光構造
性の接着剤及びその上にシリコンゴム層からなる平版印
刷板を記載する。

しかし女から、これら全ての場合において、接着剤の結
合したフィルムは、ポリイミド［ｔ。

較して、いわゆる非熱安定であるべき基材からなシ、そ
の加工特性においては、ポリイミドと比較することはで
きない。これは、例えば適用されるべき層が露光の前に
ポリイミドフィルムの良好な機械的特性を有しないため
に、全ての場合において支持フィルムを必要とする事実
によって明らかである。

これまでの通例の乾燥塗膜レジストは、露光の前に、比
較的柔らかいまたは熱可塑性の被覆材料から作られ、基
材ま霞は接着層への接着結合をより容易に十分に得るこ
とができる。

ポリイミドフィルムは、これに反して、いくつかの場合
［ｊ：非常に高いガラス転移温度を有し、ある場合には
４００℃以上までであり、そしてそれらポリイミドフィ
ルムは露光の前にさえ極端に抵抗性のある化学的に不活
性なフィルムを形成する。

これらのフィルムは粘着性ではない、このため例えばそ
れらはロール上で直接及び分離するフィルムの使用なし
に巻きつけることができる。

一方、光架橋性ポリイミドはある種の溶媒には依然とし
て可溶である。

言及した出版物からでは、積層及び乾燥は、フィルムの
泡形成または破壊を伴わないで行なわれる様に、また良
好な相互の接着結合が高温（２００−４００℃）でさえ
も保証されること、及び被覆物の全ての非露光部分は現
像により完全に自由、ばりばりにそして残留なしに除去
できることを確実にする様に、光構造性ポリイミドフィ
ルムが実際に接着剤で接着されるかどうか及びどの様な
接着剤で接着されるかに関して結論を引き出すことはで
きない。

本発明は。

ａ）表面にレリーフ画像を形成することができ、及び／
ま７’（は孔あけをすることのできる基材ｂ）光構造性
ネガ作用熱安定性接着剤　（ａ　ｐｈ−ｏｔｏｓｔｒｕ
ｃｔｕｒａｂｌｅ　ｎｅｇａｔｉｖｅ−ｗｏｒｋｉｎｇ
　ｔｈｅｒｍｏｓｔａｂ−１ｅ　ａｄｈｅｓｉｖｅ　） 及び Ｃ）自立光架橋性ポリイミドフィルム（ａ　ｓｅｌｆ−
ｓｕｐｐｏｒｔｉｎｇ　ｐｈｏｔｏｃｒｏｓｓｌｉｎｋ
ａｂｌｅ　ｐｏｌｙｉｍｉｄｅｆｉｌｍ　） を連続した順序で含む被覆材料に関する。

“自立ポリイミドフィルム“の用語は、通常のアクリレ
ートベースの乾燥フィルムレジストとは異なり、支持材
料を添加しなくても製造及び加工しうるフィルムを意味
するものと理解されたい。そのようなフィルムの厚さの
最小限度は１通常フィルム材料の特性及び求められる加
工方法に位存している。これは熟練技術者の通常の経験
により決定されうる。一般に、厚さが３μｍより厚いポ
リイミドフィルムが、本発明による材料中のフィルムと
しての、兼びに該材料の製造方法での使用のため（Ｃ充
分である。

好ましい自立光架橋性ポリイミドフィルＡ　（ｃ）は、
厚さ３−３００μｍ、好ましく＃″［５−５０μｍ。

特に好ましくは１０−５０μｍであり、本質的だ、総分
子に対して５ないし１００モル襲の次式ｌａ：（式中、
カルボニル基は各々の場合に互いにオルト位になるよう
に対になっており、しかしながら、好ましくはベンゾフ
ェノン系の５，５’、４゜４′−位にあり、Ｘは芳香族
ジアミンの２価の基を表わす）で表わされる少なくとも
１種の栴造要素及び９５−０モルチの次式Ｉｂ： （式中、 ２′は４価のベンゾフェノン基または他の未置換もしく
は置換でれた４価の芳香族基を表わし、各場合において
、２個のカルボニル基は互いにオルト位もしくはべり位
となるように該基に結合しておシ、 ｋはＸと同様に定義されるか、またはＸとは異なる有機
ジアミンの２価の基を表わし、ここにおいて、芳香族基
Ｘか少なくとも１個の窒素原子の両側のオルト位で、ま
たは両方の窒素原子の少なくとも１方のオルト位で、ア
ルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基または
アルアル基によシ置換嘔れているか、または芳香族基Ｘ
の隣り合った２つの炭素原子がアルキレン基によジ置換
されてお＃）、２が４価の゛ベンゾフェノン基であると
きＸとＸ′とは異なる基を表わす）で表わされる少なく
とも１Ｎの構造要素を有するホモポリイミドまたはコポ
リイミドからなシ、個々の構造要素１ａ及びｌｂは所定
のポリマー分子内で異なっていることができる。

構造要素１ａ及びｌｂを有するポリイミドはヨーロッパ
特許願第１３２，２１１号に開示されている。

特に好ましい光架橋性ポリイミドフィルムＣ）は、本質
的に、総分子に対して少なくとも５０モルチのポリマー
が上記式１ａの構造要素からなシ、上記弐１ｂ中、２′
が次式： 〔式中、Ｒは直接の結合を表わすか、または次式： ％式％ （式中、Ｒ＆　、　Ｒｂ及びＲｃは炭素原子数１ないし
６のアルキル基、フヱニル基もしくはベンジル基を表わ
し、セしてＲｂ及びｎｃはさらに炭素原子数１ないし６
のアルコキシ基、フヱニルオキシ基もしくはベンジルオ
キシ基を表わしてもよい）で表わされる橋かけ基を表わ
す〕で表わされる基からなる群よシ選択でれ、２は与え
られた分子内で異なる基を表わしてもよく、上記式ｌａ
中、Ｘは与えられた分子内で異なる基を表わしてもよく
、次式： 〔式１ｃ中、遊離価は互いにメタ位またはパラ位にあり
、 式ｌｄ中、遊離価は好ましくはＲＪ基に対してメタ位も
しくはパラ位にあり、セしてＲｄ及びＨｅは遊離価に対
して２つのオルト位に結合する） 式Ｉｅ中、遊離価は２−１３−１６−及び７位に結合し
　ｎｄ及びＲｅは遊離価に対して２つのオルト位にあり
、 式ｌｄ中　Ｒｊは直接の結合、−ｏ−、−ｓ−。

−５ｓ−、−５ｏ−、−ｓｏ雪−、−ｃｏ−、−ｃｏｏ
−。

−ＮＨ−、アルキル基に１ないし６個の炭素原子を有す
る一ＮＮ−アルキル、−１！Ｊ−７・−一基、−寿一ペ
ンジル基、−ＣＯＮＨ−、アルキル基に１ないし６個の
炭素原子を有する一ＣＯＮ−アルキル基、−ＣＯＮ−フ
ェニル基、−ＣＯＮ−ベンジル基、または次式： （式中、Ｙは次式： （式中、ｕｋは水素原子、炭素原子数１ないし６のアル
キル基もしくはフェニル基を表わす）で表わされる基を
表わす）で表わされる基、またはＲｊは直鎖もしくは枝
分かれ鎖の炭素原子数１ないし３のアルキレン基、Ｃ１
もしくａＦで置換されていてもよい炭素原子数２ないし
１２のアルキリデン基、５ないし６個の環の炭素原子を
有するシクロアルキリデン基、フェニレン基、フェニレ
ンジオキシ基または次式：（式中、Ｒ１及びＲｒｎは炭
素原子数１ないし６のアルキル基もしく扛アルコキシ基
、フェニル基、ベンジル基、フェニルオキシ基またはベ
ンジルオキシ基を表わし、ｒは１ないし１０の数を表わ
し、ｔは０または１を表わし、セして８は０または１を
表わし、セしてＲｙは一〇−もしくは−Ｓ−を表わし、
そしてＱｘは炭素原子数１ないし６のアルキレン基を表
わし、そしてｑは１ないし１００の数を表わす）で表わ
される基を表わし。

式１ｃ、Ｉｄ及びＩｅ中、ｎｄ及びＲ’　ｉｆ、炭素原
子数１ないし１２のアルキル基もしくはアルコキシ基、
炭素原子数２ないし１２のアルコキシアルキル基、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基またはベンジル基を表
わすか、または上記式ｌｅｔたはｌｄ中、Ｒｄ及びＲｆ
が隣シ合った位置にあり、−緒になってトリメチレン基
もしくはテトラメチレン基全表わし、セしてＲｏが水素
原子を表わしていてもよ＜、Ｒｆ及びＲｇは水素原子を
表わすかまたは各々独立にＲｄ及びＲｏと同様に定義さ
れ、そしてＲｈ及びＲｆは水素原子を表わすか、または
各々独立にＲｄ及びＲｅと同様に定義されるか、まだは
式Ｉｄ中では１とＲｈか一緒になってトリメチレン基ま
たはテトラメチレン基を表わす〕で表わされる基を表わ
し、そして 構造要素１ｂの父がＸと同様に定義てれるか。

または炭素原子数２ないし６０のアルキレン基、炭素原
子数５ないし８のシクロアルキレン基。

炭素原子数７ないし３０のアルアルキレン基、炭素原子
数６ないし２２のアリーレン基゛またはポリシロキサン
からなる群より選ばれる）で表わされる基を表わす上記
のホモポリイミドまたはコポリイミドからなる。

特に好ましい自立架橋性ポリイミドフィルム（Ｃ）は、
厚さ５〜５００μ集であり、本質的に、総分子に対して
少なくとも５０モル％の弐１ａの構造要素を含み、２′
が次式： （式中、ａｎは直接の結合、−〇−９〜Ｓ　Ｏｚ−。

−ｃＨ鵞−、−Ｃ（ＣＦり鵞及び特に−ｃｏ−を表わす
）で表わされる基を表わし、Ｘが次式： （式中、遊離価は互いｌこメタもしくはバラ位にある）
で表わされる基からなる群より選ばれるか、または次式
： （式中、Ｒｏ及びＲＰは各々独立にメチル基、エチル基
、ｎ−プロピル基もしくはイソプロピル基を表わし、そ
してＲ（１及びｎｒは水素原子を表わすか、またはＲｏ
として定義したものと同様の意味を表わすか、またはＲ
ｏとＲｑが一緒になってトリメチレン基またはテトラメ
チレン基を表わし、モしてＲＰ及びＲｒは水素原子を表
わし、そしてＲ３は直接の結合、−ＣＨｔ−、Ｃ（ＣＦ
ａ）−。

２．２−　プロピリデン基または一〇〇−を表わす）で
表わされる基を表わし、これらの基は与えられた分子内
で異なった意味をとってもよく、そして基ＸがＸと同様
に定義されるか、または次式： （式中、ｎｕは直接の結合、−Ｏ−、−ＣＯ−。

−Ｃ（ＣＦｘ）ｚ−または−Ｃ）ｉ２−８表１つし、モ
してＩｔはメチル基、エチル基、イソプロピル基、メト
キシ基、エトキシ基または水素原子を表わす）で表わさ
れる暴力）らなる群から選ばれ、これらの基は与えられ
た分子内で異なった意味をとってもよい上き己のホモポ
リイミドまたはコポリイミドからなる。

さらに好才しいフィルム材料は、自立光架橋性ポリイミ
ドフィルム（Ｃ）が５−３００μ慣、好ましくは５−５
０μｍ、そして特に好ましくは１０−５０μｍの厚さで
あり、本質的に平均分子量が少なくとも２０００であり
、且つ少なくとも１種の次式■またはＸ： （［） （式中、 Ｒ３はハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数１ないし６
のアルキル基、炭素原子数１ないし６のアルコキシ基、
炭素原子ｅｔ１ないし６のアルキルチオ基を表わし、こ
れらの基はフェニル基で置換されていてもよく、または
フェニル基、Ｒ５は水素原子またはアロイル基を表わし
、またはＲ３と同様に定義され。

ａは０．１．２もしくは３を表わし、 ｂは０．１．２．５　　もしくは４を表わし、Ｃ及びｄ
は０．１．２．５．４もしくは５を表わし、 ｆは０もしくは１を表わし、そして ａ、ｂ及びｄが２を表わすとき、２つのＲ３は一緒にな
ってオルト位に結合した一ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝　ＣＨ−
−２表わすことができ、そしてＲ２及びｎ２１は未置換
もしくは置換された脂環式基もしくは芳香脂肪族基、２
つの芳香環が脂肪族基で結合されている芳香族基または
少なくとも１個のアルキル基、シクロアルキル基、アル
コキシ基、アルコキシアルキル基、アルキルチオ基。

アルキルチオアルキル基、アルアルキル基で置換された
、または芳香族基の２つの隣接した炭素原子がアルキレ
ン基で置換された芳香族基を表わし、ｆが０を表わす場
合Ｒ２は少なくとも１個の窒素原子に対して２つのオル
ト位が置換された芳香族基を表わす）で表わされる構造
要素をポリマーに対して少なくとも５モル％の量で含む
ホモポリイミドまたはコポリイミドからなる。

さらに興味深いフィルム材料は、自立光果槁性ポリイミ
ドフィルム（Ｃ）が厚さＳ−１００μ惟、特に５−５０
μ惰、非常に好ましくは１０−５０μ鴬であり、本質的
に、Ｎ−メチルピロリドン中のポリイミドα５重ｔ％の
溶液として２５℃で少な（ともα１　ｄｉ／ｆの固有粘
度を有し、次式ＸＩ： （式中、 Ｒ７及びＨｓはハロゲン原子、ニトロ基、アリール基、
アリールオキシ基、アルキル基またはアルコキシ基を表
わし、 ｍが０または１ないし４の数を表わし、ｎが０または１
ないし３の数を表わし、ｐがα１または２を表わし、 遊離カルボニル基は互いにオルト位となるように結合し
、そしてＲ６は少なくとも１個のアルキル基またはアル
アルキル基により置換された２価の芳香族基を表わす）
で表わされる反復構造要素を有する芳香族アミノジカル
ボン酸の構造要素を有するホモポリイミドまたはコポリ
イミドからなる。

このタイプのポリイミドはヨーロッパ特許願ｘ１ａ２，
７４ｓ号に記載されている。

熱安定性光架橋性接着剤ｂ）の組成及び厚さの選択は接
着して結合すべきポリイミドフィルムの性質に依存する
が、塗膜に対する特定の要求にも依存する。要求される
形材のパラメーターは、例えば表面の性質及び構成（例
えば材料、粗さ、トポロジー）、接着剤の塗布方法（例
えば基材へ塗布するのか、接着して結合すべきフィルム
に塗布するのかということ）、及び供される熱的、化学
的、及び機械的ストレス（例えば求められる温度、長期
または短期の暴露、酸化（空気）または非酸化条件での
熱的ストレス、高温時または加熱処理後の機械的ストレ
ス、攻撃的な薬品に同時に暴露しながらの熱的ストレス
）にも依存する。

熱安定性光架橋性接着剤層は完全に硬化された状態で有
利には２５μ情未満、好ましくはα０１ないし２５μ情
である。

接着剤層の厚さは通常、施用されるポリイミドフィルム
の厚さより明らかに薄く、完全に硬化した状態では好ま
しくは全層厚の１／２以下である。この条件は、特に、
熱安定性接着剤が重ねられるポリイミドフィルムよりも
安定性の低い物質を含む場合に適用される。

熱安定性接着剤が、重ねられるポリイミドフィルムと同
等またはより高い安定性を有する物質からなる場合は、
接着剤層の厚さをポリイミドフィルムの厚さと同程度に
することができる。

所望により、接着剤は塗布工程の後、蒸発させる溶媒を
含む。これは高温で行なわれる。

さらに、本発明のポリイミドは、特に適当なジアミンま
たはジアミン混合物を選択することにより、成分、例え
ば接着剤のための特別な溶媒を、ポリイミドフィルムの
表面が初期にのみ溶解するが、積層段階でフィルム自体
が破壊されることはないように提供できるというような
溶解特性を有するように濃厚にできることが見出された
。その結果、特ｌこ、フィルムと接着剤との迅速な結合
が可能になる。

また、溶解特性を接渚剤層の連発性成分、例えば溶媒が
適当な乾燥条件下で、塗膜全体の品質を低下させること
なく重ねられたポリイミド層全体ｌこ拡散できるように
調整することができ・　　　る。

７０℃未満の−ＧＡ度でも重ねられたフィルムと暴露部
分において確実に結合する光構造性ネガ作用熱安定性接
着剤がさらに好ましい。好ましい接着剤ｂ）を下記に示
す。

ｂｌ）有機溶媒に溶解性であり、所望により有機発色ポ
リアジドと配合されて存在する光架橋性ポリイミド及び
／または ｂ２）光架橋性ポリアミド酸またはそのエステル；及び
／または ｂ３）光架橋性有機ポリシルセスキオキサン；及び／ま
たは ｂ４）光架橋性ポリアミド−イミド；及び／または ｂｓ）光架橋性エポキシ系；及び／またはｂ６）フリー
ラジカル重合を受けることができるエチレン系不飽和基
を有する化合物を含む光架橋性系 特に好ましいのは、ｂｌ　）　、　ｂ５）　、　ｂ５）
及びｂ６）の接着剤である。

適合性及び光反応の様々な機構を考慮することにより、
上記の接着剤の異なるものの混合物を使用することもで
きる。

特に好ましいのは、自立光架橋性フィルムの製造のため
の材料として既に上記に示したポリイミドまたはポリイ
ミドの混合物の溶液を接着剤ｂｉ）として使用すること
である。

上記で既に示した化合物の他に、光吸収性が強く、光架
橋性のポリイミドを使用することもできる。フィルム材
料としてのこれらの化合物の使用は、フィルムの厚さに
よっては、フィルムの上方の部分の強い光吸収のために
下方の部分の光架橋に問題が生じやすくなることからあ
まり好ましくはない。なお、これらの化合物は比較的薄
い層に好ましく塗布される接着剤材料としての使用には
非常に適している。

このタイプは、本質的に、少なくとも１種の芳香族テト
ラカルボン酸と少なくとも１ａＩのジアミンと乃）ら誘
導され、本質的に少なくとも１種の次式１１＝ で表わされる構造要素α１ないし１００モル％及び少な
くても１徨の次式鳳及び／または■：で表わされる構造
要素９９９ないし０％〔式■、■、■中、ｚｌは少なく
とも１種の次式■、■、■または■： （式中、遊離価は互いにオルト位となるように結合し、
Ｙ′は直接の結合、−ＣＨ２−、（ＣＨ２）２　。

−０＋、　−ｓ　＋、　−ｓｏ　＋、　−３Ｃｈ　、　
−ＧＯ、−ＮＲｖ−または−〇ｆＲｗ−（式中、Ｒｖは
水素原子、炭素原子数１ないし１０のアルキル基、フェ
ニル基、ナフチル基またはフェニル（ＣｅＨ！ｅ）−基
（基中。

ｅは１ないし４を表わす）を表わし、ＲＷはＲＶと同様
に定義され、ただし水素原子は表わさない）で表わされ
る基を表わし、ＲＸは炭素原子ａ１ないし１０のアルキ
ル基、ハロゲン原子、−ＣＮ。

−ＮＯ，、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基、フ
ェノキシ基、ナフトキシ基またはフェニル−（ＣｅＨｚ
ｅ）−（基中、ｅは１ないし４を表わす）で表わされる
基を表わし、ｎ′は０．１または２８表わす）で表わさ
れる４価の基を表わし、ＸＩは未置換もしくは直換され
た複素環式基、脂環式基または芳香脂肪＃Ｊ３つの芳香
環が脂肪族基で結合された芳香族基、または少なくとも
１個のアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、
アルコキシアルキル基、アルキルチオ基、アルキルチオ
アルキル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシアルコ
キシ基、ヒドロキシアルキルチオ基、アルアルキル基で
置換された芳香族基、または芳香環の隣接した２つの炭
素原子がアルキレン基で置換された芳香族基を表わし、 Ｑｌが３価の芳香族基を表わし、 ２；がＺｌと同様に定義されるか、Ｚｌとは異なる４価
の有機の基を表わし、そして Ｘｌ′がＸｌとは異なる有機ジアミンの２価の基を表わ
し、 式■の構造要素が存在する場合には式ｌ中のＺｌは４価
のベンゾフェノン基を表わすこともできる〕を有するホ
モポリマーまたはコポリマーからなる光架橋性ポリイミ
ドを含む。

そのような化合物はヨーロッパ特許願第１８１８３７号
に記載されている。

好ましい使用しうる光架橋性熱安定性接酒剤ｂ１）は、
所望により存在しうる慣用の岳加剤と共に、 ａ）有機溶媒に溶解性であり、少なくとも１個の脂肪族
基が、直接または橋かけ基を介して少なくとも１部分の
テトラカルボン酸基、芳香族ジアミン基もしくはそれら
の両方、及び／または少なくとも１部分の脂肪族の橋か
け基としてアルキレン、アルキリデン、シクロアルキリ
デン基またはＳｉ（アルキル）！を含む上記の基に結合
している芳香族テトラカルボン酸と芳香族ジアミン、ま
たは芳香族及び脂肪族ジアミンとのホモポリイミドもし
くはコポリイミド、及び ｂ）ポリイミド成分に対して少なくとも０．１重ｔ％の
、アジド基が直接もしくはＳ　Ｏｚ基を介して芳香族炭
化水素基に結合している少なくとも１種の有機発色ポリ
アジドを含む混合物を含む混合物である。

その様な混合物はヨーロッパ特許ｉ第９２５２４号に記
載されている。

特に好ましい光架橋性熱安定注接漕剤ｂｌ）は、所望に
より存在しつる慣用の添加剤と共にａ）有機溶媒に溶解
性であり、本質的に５０−１００モル％の次式Ｘ■及び
／またはｘｓｉ：で表わされる反復構造要素及び５ｏな
いし０モル％の次式Ｘ夏Ｘ： で表わされろ反復構造要素〔式Ｘ■、Ｘ■、ＸＩＵ中４
つのカルボニル基は異なる炭素原子に結合し、２つのカ
ルボニル基は互いにオルト位またはべり位となるように
結合し、 Ｚ、は少なくとも１個の芳香環を有する４価の残基を表
わし、 ＺＩは次式： で表わされ、芳香族、アルキル芳香族、脂肪族、脂環式
、及び複素環式基、その組合わせ並びに酸素−、イオウ
−１窒素−、シリコンもしくはリン含有橋かけ基を有す
る基から選択され、異なってもよい有機の二価の基を表
わし、 Ｒｌｒ及びＲ”は各々独立に炭素原子数１ないし４のア
ルキル基を表わし、 Ｒ１９１Ｒ２０ｔ　Ｒ２１ｔ　Ｒ”ｔＲ”　及ヒＲ”　
ハ各々独立に水素原子または炭素原子数１ないし４のア
ルキル基を表わし、そして Ｒ２５は直接の結合、−ｏ−、−ｓ　−、−ｓｏ、−。

−Ｃｏ　−、−ＣＨｚ−１−Ｃ（ＣＦｚ）ｚ−，５ない
し６個の環構成炭素原子を有するシクロアルキリデン基
、フェニレン基、次式： で表わされる基、次式：　Ｒｚｓ　−８１−Ｒｘフ（式
中、Ｒ２６及びＲ２Ｙは各々炭素原子数１ないし６のア
ルキル基またはアルコキシ基、フェニル基、ベンジル基
、フェニルオキシ基またはベンジルオキシ基を表わす）
で表わされる基を表わす〕からなるホモポリイミドまた
はコポリイミ　ド、及び ｂ）ポリイミド成分に対して少なくともｃＬ１重量％の
、アジド基が直接または８０２基を介して芳香族炭化水
素基に結合している少なくとも１種の有機発色ポリアジ
ドを含む混合物である。

そのような混合物はヨーロッパ特許願第１４１７８１号
に記載されている。

接着剤ｂ１）として使用しつるさらに有用な光構造性ポ
リイミドは日本国特許第１０８０３１号及び日本国特開
昭５７−１４５５２９号に記載されている。

化学線の作用により架橋反応が起こり、接着剤ｂ２）と
して好ましく使用される化合物と配合して使用されつる
、脂肪族もしくは好ましくは脂環式テトラカルボン酸ま
たはその無水物とジアミン化合物をベースとするポリア
ミド酸が、日本国特開昭５９−１００１５５号に記載さ
れている。

接着剤ｂ３）として好ましく使用される有機ポリシルセ
スキオキサンは、次式ＸＸＸＩ　：（式中、ｎｓｏ及び
ｎａは各々独立に１価の炭化水素基を表わし、Ｕは正の
整数、好ましくは３０より大きい整数を表わす）で表わ
される反復構造要素を有するラダーポリマーである。

式ＸＸＸ　Ｉ中、Ｒｓｏ及びＢｉｔが低級アルキル基を
表わし、これらの基の少なくともいくつかがエチレン性
不飽和基である有機ポリシルセスキオキサンはヨーロッ
パ特許願第７６６５６号に記載されている。該特許出願
には、さらに上記化合物と架橋剤、例えばアジド化合物
との混合物、並びにレリーフ蝋画像を製造するための熱
安定性の高い光架橋性表面被覆剤としての使用法も記載
されている。

ｂ３）型の接着剤層の厚さは通常５μ汎より厚いＯ 日本国特許第１３５−９６６５４号には、有機ポリシル
セスキオキサンと芳香族アジドまたはスルホニルアジド
との光架橋性混合物が記載されている。これらのシロキ
サン中の有機基は不飽和基を有する必要はない。

有機ポリシルセスキオキサンの製造法は例えばヨーロッ
パ特許願４６６９５号に記載されている。

本発明の目的のために熱安定性光架橋性接着剤ｂ３）は
好ましくは ａ）上記式ｘｘｘｉ中、Ｒ１）及びＲ”が各々独立に１
価の炭化水素基、好ましくはアルキル基、特に好ましく
は炭素原子数１ないし４のアルキル基、または炭素原子
数１ないし４のアルキル基で置換されていてもよい芳香
族基を表わし、そしてＵが３０より大きい整数を表わす
有機ポリシルセスキオキサン及び ｂ）芳香族アジドまたはスルホニルアジドの混合物から
なる。

接着剤ｂ４）として好ましく使用しうるさらに好ましい
化合物の群は、少なくとも１種の次式： で表わされる反復構造要素を有するベンゾフェノントリ
カルポン酸残基を有するポリアミド−イミド基からなる
直鎖飽和ホモポリ縮合物またはコポリ縮合物であり、コ
ポリ縮合物の場合にはさらに次式■及び／またはＸ■； −Ｃ−Ｒ”　−Ｃ−Ｘｚ−Ｒ’−Ｙｔ−（ｘｌ）を表わ
し く式■、Ｘ厘、ｘｙ中、 弐刈の構造要素中のイミド基は２つの隣り合った炭素原
子に結合しており、 ｍ４は０または１ないし４の数を表わし、Ｒ３はＯまた
は１ないし３の数を表わし、Ｘｚは−Ｓ−、−Ｏ−また
は−Ｎ１１５−を表わし、ＹｌはＸｚ　　と独立して同
じように定義され、Ｒ９は炭素原子数が６より小さいア
ルキル基またはアルコキシ基、炭素原子数６ないし１０
のアリール基、炭素原子数７ないし１０のアルアルキル
基またはハロゲン原子を表わし、Ｒｌｚは未置換または
置換された２価の脂肪族基、脂環式基、芳香脂肪族基ま
たは芳香族基を表わし、そして 為とＹｌが基−ＮＨｔｓ−を表わす場合、Ｒ１！及びＲ
１’の１つは一緒になって第２の−Ｎ　Ｒｔ　ｓ−が結
合する炭素原子数５ないし７のアルキレン基を表わすか
、またはＲ１２はメチレン、エチレンまたはプロピレン
基を表わし、Ｎ　ＲＩＳ基の２つのＲ１５が一緒になっ
てエチレンまたはプロピレン基を表わすか、またはＸｚ
またはＹｌの一方が−Ｓ−または一〇−を表わし、他方
が−ＮＲＩＳ−を表わす場合、ＨｔｘとＲ１１＋は一緒
になって基−０−または−Ｓ−が結合する炭素原子数５
ないし７のアルキレン基を表わし、 ＲＩＧは未置換または置換された２価の脂肪族または芳
香族炭化水素基を表わし、 Ｒ１４はＲ”と独立して同じように定義され、Ｒ”は２
価の飽和脂肪族または芳香族基を表わし、 Ｒ”はイミド基が２個の隣り合った炭素原子に結合した
５価の飽和脂肪族もしくは芳香族基を表わし、 Ｒ１１は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、ア
リール基、アルアルキル基またはアルカルアルキル基を
表わす）で表わされる反復構造要素を有するベンゾフェ
ノントリカルボン酸基を有するポリアミドの群からの線
状飽和ホモポリ縮合物またはコポリ縮合物でコポリ縮合
物がコポリ縮合物に対して少なくとも１０モル％の堂の
式ＸＩの構造要素を有するものである。

この群のモノポリアミド−イミド及びコポリアミド−イ
ミドはヨーロッパ特許願第１５８，７６８号に記載され
ている。さらに接着剤ｂ４）としての使用に適するのは
、合衆国特許第４，１８０，４０４号に記載されている
不飽和基を有するポリアミド−イミドと光増感剤との混
合物である。

また、接着剤ｂｓ）としての使用に適するのは、光架橋
性エポキシ樹脂または該樹脂の混合物である。

その様な接着剤の混合物は好ましくは、ａ）少なくとも
１個の１，２−エポキシド基を有する芳香族、脂環式ま
たは芳香脂肪族化合物ｂ）少なくとも１種の、所望によ
り光促進剤を配合したエポキシ樹脂の光架橋に適する光
開始剤、及び所望により Ｃ）少なくとも１種の潜熱硬化剤として有用な芳香族、
脂環式または芳香脂肪族化合物を含む。

エポキシ樹脂の架橋に適する、輻射線により活性化しう
る光開始剤は、公知で、例えばＢｒ１ｔ。

Ｐｏｌｙｍｅｒ　　Ｊ、１５　　ｐａｇｅｓ　　２４　
　ｅｔ　　ｓｅｑ、（１９８３）及びＪ、Ｍａｃｒｏｍ
ｏＣ３ｃ　ｉ、　Ｍａｃｒｏｍｏ　Ｌ　Ｒｅｖ、　Ｃ２
１゜第１８７頁及び以下の１（１９８１）に記載されて
いる種々の化合物が多数ある。

オニウム塩、特に求核性の低い陰イオンとの塩が高い適
合性を有する。そのような陰イオンとしては、例えば２
価ないし７価の金属または非金属、例えばＳｂ　、　Ｓ
ｎ、　Ｆｅ　、　Ｂｉ、　ｋｌ、　Ｇａ、Ｉｎ、　Ｔ　
ｉＺｒ、　ｓＣ，ｖ、　Ｃｒ、　Ｈｆ　及びＣｕ並びに
Ｂ、　Ｐ及びＡｓ　　の陰イオンのハロゲン錯体があ−
る。ハ１０ゲイ、は好ましくはＦである。例としてＢＦ
４　、　ＰＦｓ　。

ＡｓＦｒ　５ｂｒｒが挙げられる。

適するオニウム塩の例としては、アリールジアゾニウム
塩及び周期表第Ｖａ、　Ｖｉａ、■ａのオニウム塩、例
えばハロニウム塩、特に芳香族ヨードニウム塩及びヨー
ドキソニウム塩、第４アンモニウム塩、ホスホニウム塩
、アルソニウム塩、芳香族スルホニウム塩並びにスルホ
キソニウム塩及びセレノニウム塩（ヨーロッパ特許類第
１５４９０４号参照）が挙げられる。

好ましいハロニウム塩は次式ＸＸＸＩ　：（式中、Ｒ”
とＲ”が各々独立に炭素原子数６ないし２０の炭素環式
もしくは検索環式芳香族基を表わすか、または１ｔ４ｔ
とＲ”は−緒になって２価の炭素環式もしくは複素環式
芳香族基を表わし、Ｘａはハロゲン原子を表わし、ｍ４
はＬｘ　（Ｃ↓ の価数９４の合計に等しい数を表わし、Ｌｘは２価ない
し７価の金属または非金属を表わし、そして♂はハロゲ
ン原子を表わし、そしてｑ４は１ないし３の数を表わす
）で表わされる。

さらに好ましいオニウム塩の群は次式ＸＸＸＩＹ　：（
式中、Ｒ及びＲは炭素原子数６ないし２０の炭素環式基
もしくは複素環式芳香族基を表わし、ｍ、はＬ３の価数
とｑｓの合計に等しい数を表わし、Ｌ３は２価ないし７
価の金属または非金属原子を表わし、そしてｅはハロゲ
ン原子を表わし、ｑｓは１ないし３の数を表わす）で表
わされるヨードシル塩である。

さらに好ましいオニウム塩の群は、次式ＸＸ式：（式中
、Ｒ”　Ｒ”及びＲ４７は各々独立に炭素原子数６ない
し２０の炭素環式または複素環式芳香族基を表わすか、
またはＲ４ｓ　Ｒ４＠及びｌ’（４７の１つが上記の芳
香族基を表わし、他の２つが一緒になって２価の炭素環
式または複素環式芳香族基を表わし、ｍｓはＬ４の価と
；、°の合計に等しい数を表わし、Ｌ４は２価ないし７
価の金属または非金属原子を表わし、そしてＱＣはハロ
ゲン原子を表わし、そしてｑｒ＋は１ないし３の数を表
わす）で表わされるスルホニウム塩である。

上記のヨードニウム塩は、例えば西ドイツ特許願第２５
１８６５９号またはヨーロッパ特許類第１０４１４３号
に記載されている。特に好ましいのは、ジフェニルヨー
ドニウムへキサフルオロホスフェートである。

適するスルフオキソニウム塩は、例えば合衆国特許第４
５Ｂ５０２５号、第４３９８０１４号及ぴ第４２９９９
５８号またはヨーロッパ特許願３５９６９号に記載され
ている。

他の適する光開始剤は金属カルボニル化合物メタロセン
及びメタロセンカルボニル錯体である。

エポキシ樹脂の光架橋のために適する陽イオン性光開始
剤として特に適する群は、 ■）有効量の次式ｘｘ■： （式中、Ｙ３はアレン基またはジエニリウム基を表わし
、Ｑはチタニウム、バナジウム、クロミウム、マンガン
、鉄、コバルト、ニッケル、銅、ニオビウム、モリブデ
ン、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀及び金から
選ばれる遷移金属の原子を表わし、町はＱが完全な電子
殻配位を有するような正の整数を表わし、Ｍは金属もし
くは非金属原子を表わし、ｎｌは４，５または６であり
、且っＭとＸ４の価数の合計よりも大きく、Ｘ４はフッ
素または塩素原子を表わし、ただしＭがアンチモンを表
わすときｎｌは６を表わし、Ｘ４のうち５つがフッ素原
子を表わし、１つが水酸基を表わすこともできる）で表
わされる塩；または 菖）有効量の次式ＸＸＩ！　： （ＸＸｆ□ 周期表の第１Ｖｂないし箭属、第■属または第１ｂ属か
ら選ばれる１価ないし３価の金属を表わし、町はＬの価
数とｑ３との合計に等しい整数を示し、Ｑ′はハロゲン
原子を表わし、Ｌは２価ないし７価の金属または非金属
を表わし、Ｒ４８はπ−アレーンを表わし、そしてＲ”
はπ−アレーンまたはπ−アレーンの陰イオンを表わす
）で表わされる塩を含む。特に式ＸＸｆｆの塩は光開始
剤として使用される。

光開始剤ＸＸＸの特に好ましい実施態様は次式： （式中、 Ｒ３が１または２を表わし、 ｑ３が１，２または３を表わし、 Ｌ、が２価ないし７価の金属または非金属を表わし、 ｑがハロゲン原子を表わし、 ｍ、がＬｌの価数とｑ、の合計に等しい整数を表わし、 Ｒ３２がπ−アレーンを表わし、 Ｒ３３がπ−アレーンの陰イオンを表わす）で表わされ
る鉄化合物である。一般に式ｘｘｘの化合物を少なくと
も１種の酸化剤のような電子受容体と共に、及び／また
は所望により式ｘｘｘの化合物の為の感光剤と共に使用
する。

弐ｍの光開始剤と適当な酸化剤を結合することにより、
エポキシ化合物に使用するための、且つ化学線で照射し
た場合でさえ適当な樹脂の硬化を導き、熱による後硬化
を要求しない輻射線−硬化剤を配合することが可能にな
る。

式別及びＸＸＤ（の光開始剤を含むエポキシ接着剤はヨ
ーロッパ特許願第９４９１４号及び第９４９１５号に記
載されている。式ｘｘＸの光開始剤を酸化剤及び／また
は増感剤と配合させて含むエポキシ接着剤は、ヨーロッ
パ特許願第１２６７１２号及び第１５２３７７号に記載
されている。これらの特許出願において好ましいとして
挙げた光開始剤は１本発明の目的においても接着剤ｂ）
として好ましく使用しうる。

特に好ましい接着剤ｂｓ）は、光開始剤として弐℃αの
鉄化合物と酸化剤との配合物を含むエポキシ樹脂である
。

少なくとも１個の１．２−エポキシ基を含有し、本発明
による被覆の接着剤中で成分（ａ）として使用するのに
適する芳香族、脂環式またけ芳香脂肪族化合物としては
２例えば１価の脂環式または芳香脂肪族アルコールまた
はフェノール、例えばフェニルグリンジルエーテル、及
び脂環式、芳香族または芳香脂肪族モノカルボン酸のグ
リシジルエステルが含まれる。

好ましい（ａ）は少なくとも１個の中間にあるエポキシ
基を有するエポキシ樹脂、または平均的に１分子当たり
１個より多いエポキシ基を有し、１個より多いエポキシ
基として酸素原子または窒素原子、しかしながら好まし
くは酸素原子に直接結合した末端基を有し、そして次式
：（式中、几（及び几Ｊは各々水素原子を表わし。

そのとき几ｊ５は水素原子またはメチル基を表わし、ま
たはＲ３４及び几菖は一緒になって−ａ−ｉ２ａ−ｉ、
−を表わし、そのときＲ３５は水素原子を表わす）で表
わされる脂環式、芳香族または芳香脂肪族エポキシ樹脂
である。

その様な樹脂の例として、１分子当た９２個またはそれ
以上のカルボン酸基を有する脂環式。

芳香族、または芳香脂肪族化合物を°エピクロロヒドリ
ン、グリセロールジクロロヒドリンまたはβ−メチルエ
ピクロロヒドリンとアルカリの存在下で反応させること
により得られるポリグリシジル及びポリ（β−メチルグ
リシジル）エステルが挙げられる０そのようなポリグリ
シジルエステルは脂環式ポリカルボン酸、例、ｔばテト
ラヒドロフタール酸％　４−メチルテトラヒドロフター
ル酸、ヘキサヒドロフタールｖ及ヒ４−メチルへキサヒ
ドロフタール酸から、韮びに芳香族ポリカルボン酸１例
えばフタール酸、イソフタール酸及びテレフタール酸か
ら誘導されつる。

他の例としては、１分子当たり少なくとも２個の遊離ア
ルコール性及び／またはフェノール性水酸基を有する化
合物を対応するエビクロロヒドリンとアルカリ条件下、
または酸触媒の存在下、続いてアルカリ処理することに
より反応させることにより得られるポリグリシジル及び
ポリ（β−メチルグリシジル）エーテルである。

これらのエーテルは脂環式アルコール、例えば１　、３
−及ヒ１　、４−シクロヘキサンジオール、ビス（４−
ヒドロキシシクロヘキシル）−メタン、２．２−ビス−
（４−ヒドロキシシクロヘキシル）−プロパン及び１．
１−ビス−（ヒドロキシメチル）−シクロヘキセ−５−
エンカラ、並びに芳香族環を有するアルコール、例えば
Ｎ、Ｎ−ビア！、（２−ヒドロキシエチル）−アニリン
及びｐ　、　ｐ’−ビス−（２−ヒドロキシフェルアε
））−ジフェニルメタンから製造されつる。これらはさ
らに単核フェノール、例えばレゾルシノール及びヒドロ
キノン、並びに多核フェノール、例えばビス＝（４−ヒ
ドロキンフェニル）−メタン（ビスフェノールＦとして
知らレル）、４．４′−ジヒドロキシジフェニル、ビス
−（４−ヒドロキシフェニル）−スルフォン、ビス（４
′−ヒドロキシフェニル）−ビス−トリフルオロメチル
メタン、１゜１，２．２−テトラキス−（４−ヒドロキ
シフェニル）−二タン、２．２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）−プロパン（別名、ビスフェノールＡとして
仰うレる）、２．２−ビス−（３，５−ジブロモ−４−
ヒドロキシフェニル）−プロパンまタハ四塩素化または
四臭素化ビスフェノールＡ、並びにアルデヒド、例えば
ホルムアルデヒド、アセトアルテヒド、フローラル、及
びフェノ−ル性、フェノールまたは塩素原子または炭素
原子数が９以下のアルキル基により環の炭素原子が置換
されたフェノール、例えば４−クロロフェノール、２−
メチルフェノール及び４−第三メチルフェノールから得
られるノボラックから製造されうる。

ボＩＪ　−（Ｎ−グリシジル）化合物、例えば脂環式、
芳香族アミン、例えばアニリン、ビス−（４−アミノフ
ェニル）−メタン及びビス−（４−メチルアεノフェニ
ル）−メタン、のＮ−グリシジル誘専体、トリグリシジ
ルインシアヌレ、−ト並びに５．５′−ジメチルヒダン
トインのようなヒダントインのＮ　、　Ｎ’−ジグリシ
ジル誘導体も同様に適している。

式ＸＸＸ［ｉにおいて、■し及び１（Ｊ６が一緒になっ
て−ＣＨ２ＣＨ２−基を表わす基を有するエポキシ樹脂
の例トして、ビス−（２，５−エボキシシクロベンチル
ンエーテル、２．３−エポキシシクロペンチルグリシジ
ルエーテル及び１．２−ビス−（２，３−エポキシシク
ロベンチルオキシ）−エタ／が挙げられる。

さらに、いくつかの、凍たは全てのエポキシ基が中間に
あるエポキシ樹脂、例えばビニルシクロヘキサンジオキ
サイド、リモネンジオキサイド、ジシクロペンタジェン
ジオキサイド、４−オキサテトラシクロ（６，２，１，
０２・’１．　Ｏｐ、６　］］ウンデ７−９−イルグリ
シジルエーテル、１゜２−ビス−（４−オキサテトラシ
クロ（６，２゜１　、０２，７．　Ｑ３．５　］］ウン
デシー９−イルオキシ−エタン、ｓ　Ｌ　、　ａ　／−
エポキシシクロヘキサンカルボ７ｆＲ（Ｄ５，４−エポ
キシシクロヘキシルメチルエステル及びその６．６′−
ジメチル誘導体、エチレングリコールのビス−（３’、
４−エポキシシクロヘキサンカルボンｌ夜エステル）、
３．４−エポキシ−６−メチルシクロヘキサンメチロー
ルのビス−アジピン酸エステルもしくは３−（３，４−
エポキシ９２口ヘキシル）−８，９−エポキシ−２，４
−ジーオキザスビロ［５，５］ウンデカンもまた好まし
い。

所望により、エポキシ樹脂の混合物を使用することがで
きる。

本発明による被覆材料の接着剤ｂ５）の好ましいエポキ
シ樹脂成分は、特に、所望により前駆されていてもよく
１例えば２゜２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−
フロパンまたハヒス−（４−ヒドロキクフェニル）−メ
タンかう誘導される二価フェノールのジグリシジルエー
テルである。

これらはモノマー、オリゴマーまたは好ましくは平均分
子量へ４ｗが約１０００ないし１００００である低分子
量ポリマーで、５りうる。、好ましい分子量は１００口
ないし６０００である。

非常に適するエポキシ組成物は、中間体から基材へ容易
に転化できるものである０ これらは例えば置換フェノールもしくは未置換フェノー
ル、例えばキシレノール、クレゾール、レゾルシノール
、及び特にフェノールとアルデヒド、例えばアセトアル
デヒド及び特にホルムアルデヒドとから得られるノボラ
ックのグリシジルエーテルである。

エポキシ接着剤Ｉ）５）は他の慣用の添加剤。

例えば充填剤、接着促進剤、防炎剤、染料、特に開始剤
の作用に不利な効果を与えないアンチノ・口（ａｎｔｉ
ｈａｌｏ　）染料、並びに増感剤を混入することができ
る。

増感剤の例を下記に示す、１−クロロアントラセン、２
−メチルアントラセン、アントラセン、ビレ／、ベンジ
ル、チオキサ７トン、２−インフロビルチオキサントン
、２−クロロチオキサ／トン、！１−チオフェニルフタ
ルイミド、Ｎ−メチル−４−チオフェニルフタルイミド
、ベンジルジメチルケタールまたはベンジルジエチルケ
タール。

好ｔしいのはチオキサントン、７タルイミド。

チオエーテル及び特にアントラセンである。これらは好
ましくはエポキシ樹脂に対して０．１ないし１０重量％
、さらに好ましくはα１ないし５重量％の世で添加され
る。

式別の光開始剤中、Ｙ３がアレーン基金表わす場合、通
常は硬化させるために加熱だけでなく、（ａ）のエポキ
シ基が式Ｘ）Ｏ１３Ｎで表わされる場合には化学巌照射
も必要である。これらの塩と共に、指環式の炭素原子に
直接結合した１、２−エポキシ基を有するエポキシ樹脂
を使用するのが好ましい。

さらに好ましい実施態様において、光溝造性エポキシ接
着剤ｂ５）は、Ｂ段階生成物の製造のためのエポキシ樹
脂のための硬化量の潜熱硬化剤を含む。接着剤組成物の
完全な硬化が加熱によって得られる。

エポキシ樹脂組成物のための適する熱活性栗橋剤として
は、特にポリカルボン酸無水物１例、ｔば７タル酸無水
物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、またはエーテル化さ
れたフェノール樹脂が含まれる。

熱硬化に要求される加熱温度及び加熱時間は、通常の実
験によシ容易に決定でき、エポキシ樹脂の熱硬化につい
ての周知の事実から容易に誘導されうる。

最後に、エポキシベースの光構造性熱安定性接着剤ｂｓ
）には反応性希釈剤がｔ１５≦加されていてもよい。そ
れらの例としては、ジアリルフタレート、ジアリルカー
ボネート、トリアリルインシアネート、トリアリルシア
ヌレートまたは０−クレジルグリシジルエーテルが挙げ
られる０接着剤ｂ５）として、ビスフェノールジグリシ
ジルエーテルをベースとし、遊離のエポキシ基の他に１
次式： ％式％ ノ橋トシて、ビスフェノール単位当たり少なくとも１０
モル慢の量で含む光架橋性、さらになお熱硬化性である
エポキシ樹脂を使用するのも同様に好ましい。

そのような化合物は、例えばＲ，Ｄａｒｍｓ　　により
、　Ｃｈｉｍｉｃａ　　５Ｂ、　１３（１９８４）に記
載されている。このタイプの化合物全製造する方法はド
イツ公開特許公報第２９４７７５４号に記載されている
。

上記で定義したように、フリーラジカル重合を行ないつ
るエチレン系不飽和基を有する化合物の群からなる適す
る接着剤ｂ６）は３つのクラスに分けられる。

即ち、 Ａ）ａ）フリーラジカル重合することができ、沸点が大
気圧下で１００℃以上である少なくとも１ｆｌｉのエチ
レン性不飽和化合物 ｂ）照射によりフリーラジカルを形成する少なくとも１
種の有機、舞機筐たは有機金属光開始剤、及び Ｃ）ポリマー結合剤 を含む混合物、または Ｂ）ａ）少なくとも１個の中１ｂ」にあるエポキシ基及
び／′またけ少なくとも１種の次式ＸＸＸ［Ｉ　：（式
中、１（３４及び九謳が各々水素原子を表わすときＲ３
Ｓが水素原子またはメチル基全表わすか、またはＲ３４
及びＲ３ｇが一緒になって−Ｂ、ＣＨ２を表わすとき１
４３５は水素原子を表わす）で表わされる直接末端の〔
梗素原子または窒素原子に結合する４造要素だけでなく
、少なくとも１個のエチレン系不飽和２型結合をも分子
内に有する化合物または化合物の混合物、ｂ）　照Ｉｔ
によりフリーラジカルを形成する少なくとも１種の光開
始剤、及び Ｃ）所望によりポリマー結合剤及び／または１．２−エ
ポキシ樹脂に対する熱活性化重合結合剤及び／またはエ
ポキシ重合に対する光増感剤または光開始剤 を含む混合物：または Ｃ）ａ）少なくとも１個の平均的なエポキシ基及び／ま
たは少なくとも１個の上記式ＸＸＸＩＩで表わされる基
。

ｂ）フリーラジカル重合しつる化合物、及び所望により Ｃ）エポキシ樹脂の熱活性硬化剤　　　　−を含む混合
物 を使用することができる。

Ａ）タイプの混合物の重合性結合剤は、通常総組酸物の
少なくとも２０Ｔｉ量％に達し、本質的に接着剤被膜の
熱的及び様械的性質を決定する０ このタイプの混合物は公知であり、特にはんだ付マスク
としての用途が見出されている。そのようなシステム及
びフォトレジストとしての用途は、例えば合衆国特許第
３．４６９．９８２号、第４．１９５．９９７号及び第
４．２７へ７５２号だ記載されている。

タイプＡ）、Ｂ）及びＣ）の混合物は、所望により他の
慣用の添加剤等１例えば接着促進剤、充填剤、反応促進
剤、低分子量または重合性架橋剤または防炎剤、例えば
８ｂ２０３に含むこともできる。タイプＢ）及びＣ）の
混合物はその他に熱硬化のための触媒、例えばジアザビ
シクロオクタンを含むことができる。

フリーラジカル重合を行なうことができ、タイプ人）の
混合物に使用しつるエチレン系不飽和化合物は、特にア
リル化合物及びアクリレート、並びに特にメタクリレー
トである。

それらの例は、 Ｎ、Ｎ−ジエチルアミンエチルアクリレート、エチレン
グリコールジアクリレート、１．４−ブタンジオールジ
アクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、
１．３−７’ロバンシオールジアクリレート、デカメチ
レングリョールジアクリレート、デカメチレングリコー
ルジメタクリレート、１．４−シクロヘキサンジオール
ジアクリレート、２．２−ジメチロールプロパンジアク
リレート、グリセロールジアクリレート、トリプロピレ
ングリコールジアクリレート、グリセロールトリアクリ
レート、　　ｌ−リメチロールプロパントリアクリレー
ト、ペンタエリスリ　トールトリアクリレート、　２．
２−ジー（ｐ−ヒドロキシフェニル）−プロパンジメタ
クリレート、べ／タエリスリトールテトラアクリレート
、２．２−ジー（ｐ−ヒドロギンフェニル）プロパンジ
メタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレー
ト、ポリオキンエチル−２，２−ジー（ｐ−ヒドロキシ
フェニル）−プロパンジメタクリレート、ビスフェノー
ル−Ａのジー（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシ
プロピル）エーテル、ビスフェノール〜Ａのジー（２−
メタクリルオキシエチル）エーテル、ビスフェノール−
Ａのジー（３−アクリルオキシ−２−ヒドロキシ−プロ
ピル）エーテル、ビスフェノール−Ａのジー（２−アク
リルオキシエチル）エーテル、テトラクロロビスフェノ
ール−Ａのジー　（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロ
キシプロピル）エーテル、テトラクロロビスフェノール
−Ａのジー（２−メタクリルオキシエチル）エーテル、
テトラブロモビスフェノール−Ａのジー（６−メタクリ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）エーテル、テトラ
ブロモビスフェノール−へのジー（２−メタクリルオキ
シエチル）エーテル、１．４−ブタンジオールノジー（
３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）エー
テル、４．４７−シヒドロキシビフエニルのジー（５−
メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）エーテル
、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリオキ
シプロピルトリメチロールプロパントリアクリレート、
エチレングリコールジメタクリレート、ブチレングリコ
ールジメタクリレート、１．３−プロパンジオールジメ
タクリレート、１，２゜４−ブタントリオールトリメタ
クリレート、２゜２．４−トリメチル−１，３−べ／タ
ンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールト
リメタクリレート％　１−フェニルエチレン１゜２−ジ
メタクリレート、ペンタエリスリオールテトラメタクリ
レート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、
１，５−ベンタンジオールジメタクリレート、ジアリル
フマレート、゛スチレン、１．４−ベンゼンジオールジ
メタクリレート、１．４−ジインプロペニルベンゼン、
１　、３　、５−　ト１フィンプロペニルベンゼン、及
び特に次式： で表わされる化合物である。

Ａ）タイプの混合物に適当なポリマーの結合剤は特に、
米国特許第４．１９５，９９７号に記載されている様な
セルロースアセテートブチレートポリマー、米国特許第
４．２７　ａ７５２号に記載されている様な少なくとも
５％のアクリロニトリルおよび少なくとも５％の芳香族
性に結合した塩素金有するポリマー、米国特許第４８２
４．１０４号に記載されている様なポリ−（ジアリルオ
ルトフタレート）、またはＥＰ−Ａ第１ｉ５，５５４号
に記載されている様なアルデヒド縮合樹脂プレポリマー
と組み合わせたポリマーの酸結合剤でらる。

ポリマーの結合剤は、それ自体、エチレン性の不飽和基
を末端、中間または側鎖の位置に有することができる。

照射で遊離基を形成する様なＡ）タイプの混合物に使用
される光開始剤は、それ自体は公知の化合物である。適
当な’ｘ開始剤の例は、下記の種類の化合物からの物質
である。

１）多核キノ７、例えば２−第三ブチルアントラキノン ＩＩ）　　ベンゾインエーテル、例えばＣ６Ｈ，−ＣＵ
−Ｃ（ＣＨ３）　（（ＪＣＨ３）　−０６Ｈ５１１１）
ヘキサアリールイミダゾールダイマー、例えば２−０−
クロロフェニル−４，５−ジフェニルイミダゾールダイ
マー、背に光環元可能な染料と結合したもの ＩＶ）　　芳香族ケトン、例えばばヒラ−ケトン、特に
芳香族アミンと結合したもの ■）チオキチントン、例えば２−クロロチオキサントン
、特に芳香族アミンと結合したもの ｖｌ）　　アシルホスフィンオキシトまたはアシルホス
フィンスルフイド化合物、例えば ＣＨ３ または ｖｌｌ）チタノセン、例えば（Ｃ３Ｈ５）２　Ｔｌ　（
Ｃ６Ｆ５）２このタイプの化合物けＥＰ−Ａ第ｊ　１９
．１６２号に記載されている。

さら（（遊離基重合に適当な光開始剤は、米国特許第４
４６９．９８２号に記載されている。

適当な吸着剤１）６）は、２７０℃までの温度でハンダ
付マスクとして一般に使用されるＡ）タイプの公知の混
合物である。

これらの混合物は、特に、 １）末端のエチレン不飽和基および末端のカルボキシル
基を有するポリウレタン、またば１１）１分子につき少
なくとも２個の反応性Ｃ−Ｃ二重結合を有する固体ポリ
マー及び１分子につき少なくとも２個のチオール基を有
する液体ポリチオールの混合物で、該固体ポリエンはス
チレン／アリルアルコールペースのコポリマーを不飽和
モノカルボン酸と反応させることにより得られる、また
け １ｆｆ）　　１分子につき少なくとも２個の反応性Ｃ−
Ｃ二重結合を有する固体ポリエン及び１分子につき少な
くとも２個のチオール基金有する液体ポリチオールの混
合物で、該固体ポリエンはスチレン／アリルアルコール
ペースのコポリマーと反応させることにより得られる少
なくとも１個の反応性、不飽和モノインシアネートまた
は １ｖ）１分子につき少なくとも２個のチオール基全有す
るポリチオール、ポリ−（ジアリルオルトフタレート）
及びトルエンジインシアネートヲトリメチロールプロパ
ンのジアリルエーテルと反応させることから誘導される
液体ポリエンの混合物、または ■）トリメチロールプロパンジアリルエーテル及びトル
エシジイノシアネートを基にした液体ポリエン、ポリチ
オール及びシリコン油の混合物である。

１）ないしＶ）の該混合物は　米国特許第４、４４２．
１９８号、同４．　Ｏ４５，５１６号、圃３，９２５．
３２０号、同３．８２４．１０４号及び同３．７５２．
７２０号に記載されている。

接７７を剤ｂ６）が、１分子中に少なくとも１凹のエポ
キシ基及びエチレン性不飽和二重結合を有する化合物、
並びに上記の様に遊離基を形成する光開始剤の混合物Ｂ
）である場合、使用される光重合可能な成分は例えば米
国特許第４４５０．６１３．号及び同４，２２０．５１
！１号に、またけＥＰ−Ａ第１１９．９５９号に記載さ
れている化合物である。

混合物Ｂ）に有用性を見い出すこのタイプの光重合可能
な化合物の好ましい例は、 （式中、几３７は水素原子、塩素原子、臭素原子またけ
炭素原子数１ないし４の゛フルキル基、特に水素原子ま
たはメチル基を表わし、Ｂｕはジグリシジルまたはポリ
グリシジル化合物から２個のグリシジル基を除去した後
の基を表わし。

−００Ｃ几３９ＣＯＯ−はジカルボン酸またはポリカル
ボン酸の基を表わし、そしてｌＬ４°は炭素原子数１な
いし６のアルギレンｆｉを表わし：Ｒ３８は好ましくは
二価のフェノール、特にビスフェノールから２個のフェ
ノール性Ｈ原子を除去した後の基、またはヒダントイン
から２個のアεド性Ｈ原子を除去した後の基を表わし；
　−０（ＪＣｆ’ｌ、’Ｃ（ＪＯ−は好ましくは芳香族
、脂環式または芳香脂肪族ジカルボン酸の基または芳香
族トリカルボン酸もしくはテトラカルボン酸の基であり
、例えばフタル酸、トリメリド酸またはピロメリト酸の
基である。） 几４０は好ましくはエチレン、プロピレンｔたはブチレ
ン基である。

このタイプの化合物の特定の例は、２−　（４−グリシ
ジルオキシフェニル）−２−（４−（３−アクリルオキ
シ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニル）−フロパ
ン、２−（４−（グリシジルオキシフェニル）−２−（
４−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキシ）−
プロポキシ）−フェニル）−フロパン、１−（２−７１
タクリロイルオキシエトキシカルボニル）−２，４−及
び−２，５−ビス−（グリシジル−オキシカルボニル）
−ベンゼン、１−（２−７クリロイルオキシエトキシカ
ルボニル）−２゜４−及０ニー２．５−ビス（グリシジ
ルオキシカルボニル）−ベンゼン、１−グリシジル−６
−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル
）−５，５−ジメチルヒダントイン、１−ゲリソジル−
５−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロイル−オキシプ
ロピル）−５，５−ジメチルヒダントイン及（ｊ３，４
−エポキシシクロヘキサヘキシルメチル−３′、４′−
エポキシシクロヘキサンカルボキシレートと１当量のア
クリル酸またはメタクリル酸との反応生成物である。

本発明による被覆に接着剤ｂ６）として同様に使用され
得るそして異なる分子中にエポキシ官能基とエチレン性
不飽和Ｃ−Ｃ二重結合が存在するタイプＣ）の混合物は
例えば西ドイツ国出願公開第２，８０３，８８１号また
は米国特許第４．０９０，９６６号に記載されている。

接着剤配合物１）５）がエポキシ化合物を含む場合には
、ここで芳香族、脂環式または芳香脂肪族化合物から実
質的に誘導されるそれらの化合物が好ましい。しかしな
がら、少量の脂肪族化合物を加えることもできる。

式Ｉａ及びＩｂｏ基Ｚ’、Ｘ及びＸ′は、ＥＰ−Ａ第１
５２，２２１号に定義されているものである。

弐■中の基Ｚｌは基Ｚ′と同様に定義される。

式■及び■中の基Ｘ１及びＸ１′は、ＥＰ−Ａ第１３４
．７５２号中の°基Ｒと同様に定義される。

式■及び■中の基Ｚ１′及びＸ１′は好１しくに芳香族
基である。

式■中のＸｌは好ましくは芳香族基、脂環式基またはシ
ロキサン基である。

式■中の基Ｘｌ及び式■中の１も２は、好１しく、は式
ｌａ中の基Ｘに好ましいものとしてすでに定義した様に
式Ｉｃ、ｉｄ４たはｉｅの構造全有する。

特に好ましくは、これらの基Ｘ１及び１４２は。

次式 （式中、自由結合はお互いにメタまたは）くう位の関係
にある）で表わされる基、またけ次式：（式中、Ｒｏ、
　１枦、凡ｑ、几１及び１モ５は、上で定義されるもの
である。）で表わされる基である。

二核基のうち好ましいものは、ａｏ、　ｔｔｐ　、　Ｒ
，ｑ及びＢｒがメチル基であるものが特に好ましい。

これらの式の少なくとも２個の異なる基を含むコポリイ
ミドは、好ましくは本発明の目的のために使用される。

これらの基Ｘ１を有するジアミンは米国特許第４、０３
０．９４８号に記載されている。

シロキサン基Ｘ　、　Ｘ、−４だ＋′１ｌＬ２は好まし
くは次式。

−（ＣＨ２）３−８ｉ　　（ＣＨ３）２−　０　−　　
Ｓｉ　　（ＣＩ−Ｒ３）２−　　（ＣＨ□）３　−の基
である。

シロキサン基を含む基Ｘ、Ｘ、−１だはＲ２を有するさ
らに適当なジアミンは、米国！ぼ許第５．４５４，００
２号及びＥＰ−Ａ第５４．４２６号に記載されている。

好ましいジアミン基の例は、式ｎｔ中の基Ｘ１、式■中
のＲ２または式ＸＶ’ｆｆＩ中のＺ２が、弐１ｂ中でＸ
′に好ましいものとしてすでに定義された様に基 である。

式Ｉｂ中の基Ｚ′及び式ｍ中のＺｌは好捷しくは芳香族
基である。

式Ｉｂ中のＺ′１式■中のＺｌまたは八’ＩＩ　、　Ｘ
■及び酬中のＺ２の好ましい基は、 （式中、Ａは直接結合または次式ニーＱ−。

−８０２−、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＦ、）２−　、−　
Ｓｌ　（ＣＨ３）２−及び特に−ＣＯ−の橋乃＼基を表
わす。）である。

当該ポリイミドが接着剤として使用される場合には、橋
かけ基Ａは好ましくは−ＣＨ（ＯＨ）−でもある。

本発明の範囲内でフィルムまたは接着剤物質として使用
されるポリイミドは無水カルボ７Ｍ及びジアミンから公
知の縮合方法により得ることができる。これらの製造方
法は、上記の特許出願明細書に記載されている。本発明
の被覆の使用に適しているのは、特に上で定義した様な
ホモポリイミドまたは上記ホモポリイミドユニットに下
記の二無水カルボ／酸またはジアミンまたはそれらの混
合物と共縮合することにより得ることのできるコポリイ
ミドである。

ａ）二無水テトラカルボン酸。

二無水ペリメリト酸、二無水３　、３’、　４　、４’
−ペンゾフエノンテトラカルボン酸、二無水２．２’、
３．３’−ペンゾフェノンテトラ力ルボン酸、二無水３
，３，４．４−ビフェニルテトラカルボン酸、二無水２
　、２’、　３　、３’−ビフェニルテトラカルボン酸
、二無水３．３′−インプロピリデンシフタル酸、ヘキ
サフルオロ−゛　２．２−ビス−（３，４−ジヵルボア
ンヒドリドフェニル）−プロパン、及びポリイミドが接
着剤として使用される場合には、さらに二無水４−４７
−ヒトロキシメチレンジフタル酸、及び ｂ）ジアミン： ３．３′−及び４．４′−シアはノジフェニルスルホン
、ビス−（４−アミノフェニル）−ビス−（トリフルオ
ロメチル）−メタン、ビス−（３−・アミノフェニル）
−ビス−（トリフルオロメチル）−メタン、ビス−（３
−アミノ−４−メチルフェニル）−ビス−（トリフルオ
ロメチル）−メタン、　　４　、４’−ジアミノベンゾ
フェノ／、ビス−（４−アミノフェニル）−ジメチルシ
ラン、４．４’−メチレン−ビス−（３−メチルアニリ
ン）、４．４’−メチレン−ビス−（２−エチルアニリ
／）、４．４′−メチレン−ビス−（２−メトキシアニ
リン）、ａ、ａ’−メチレン−ビス−（２−メチルアニ
リン）、４．４’−スルホニル−ビス−（２−メチルア
ニリン）、３．３′−ジメチル−４，４′−ジアミノベ
ンゾフェノ／、４．４′−オキシジアニリン、４．４′
−インプロピリデンアニリン、ジアミノトルエン。

４．４′−メチレン−ビス−（３−カルボキシアニリン
）及びそのエステル、及びさらに５−アミノ−（４−ア
はノフェニル）−１ｊ。

３−トリメチルインダン。

式ｖ中のアルキル基またはアルコキシ基ＨＸは、直線状
または分岐していることができ及び好ましくは炭素原子
１ないし４を含む。例えばメチル基、メトキシ基、エチ
ル基、エトキシ基。

ｎ−プロピル基、ｎ−プロポキシ基、イソプロピル基、
インプロポキシ基、ブチル基及びブトキシ基でるる。・
・ロゲンＲＸは好ましくは塩素原子でるり、及び−Ｃｅ
Ｈ２ｅ−基中、ｅは好ましくは１または２である。式Ｖ
中、ｎ′は好ましくはゼロである。

アルキル基几Ｖまたは几７は好ましくは炭素原渠 子数１ないし４ｔ−含む。アルキル基は直線であっても
分岐していても良い。例えばメチル基、エチル基、ｎ−
プロピル基、インプロピル基及びブチル基である。−（
ＣｅＨ２ｅ）−基中、ｅは好ましくは１または２である
。

式ｖ中のＹ′は好ましくは直接結合、−Ｕ−。

−８−、−ＯＨ，−または−ＣＯ−である。

弐■中のＱｌはアミノジカルボン酸の三価の芳香族基で
るる。芳香族基情好ましくは単核または三核フェニル基
１例えばフェニル基、ナフチル基またはとスフユニしン
基である。基はハロゲン原子例えば塩素原子、またはシ
アノ基またハニトロ基により置換されることができる。

ポリイミドが式■の基を含む場合、式■中のＺ！はベン
ゾフェノンテトラカルボン酸の四価の基例えば式： （式中、自由結合はオルト位に結合されている。）の基
である。

式■の構造要素は好ましくは５ないし１００モル％のｆ
ｆｉ存在し、好ましくは３０ないし１００モル％、特に
６０ないし１００モル％そしてさらには８０ないし１０
０モル易存在し、式■の構造要素は好ましくは９５ない
し０モル％の量存在し、さらに好ましくは７０ないし０
モル％、特に６０ないし０モル％そしてさらには２ｏな
いし０モル％である。

式■ないし■の基の自由結合は好ましくはり。

基に対してメタ及びパラ位に結合される。

式■及びＸの構造要素の基Ｒ２′、几２．几３．几４及
び几５は例えば下記に記載されるものである。

ハロゲン原子Ｒ３は好ましくは弗素原子または塩素原子
である。アルキル基、アルコキシ基及びアルキルチオ基
１モ３０例は、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−
プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、メト
キシ基、エトキシ基、プロポキシ基、メチルチオ基、エ
チルチオ基及びベンジルチオ基である。

橋かけ基Ｒ４は例えば−ｏ−、−ｓ　−、−５ｏ−。

−５ｏ２−、−ｃｏ−、エチレン基、２．２−プロピリ
デン基、−ＣＨ２−または−〇（ＣＦ３）２の様な基で
あることができる。

アロイル基Ｒ５は特にベンゾイル基である。

特にＲ５は水素原子が好ましい。

脂環式基、芳香脂肪族基または芳香族基Ｒ２及びＲ２’
はＥＰ−Ａ第１３４．７５２号中のジアミン基几及びｌ
（，１にすでに言及されたそれらの基である。

本発明の目的のために使用されるポリイミドは、好１し
くは少なくともｓ、ｏｏｏの（数）平均分子量を有する
。上限は、加工性例えば溶解度を決定づける特性に実質
的に依存する。　上限はｓｏｏ、ｏｏｏｉでであること
ができ、好まし７〈は１０Ｇ、０００　まで、そして特
に６　Ｑ、０００ま−１’カ好ましい。それらはさらに
ランダムポリマーまたはブロックポリマーであることが
できる。

式１ａ、ＩＸ、Ｘ、ＸＩ及び■の構造要素の量は。

ホモポリマーまたはコポリマーの所望の感光性及びそれ
らの構造に実質的に依存している。

量はポリマーに基づいて、５ないし１００モル％である
ことができ、好着しくは２０ないし１００モル秀、更に
４０ないし１００モル％。

特に５０ないし１００モル％である。

式Ｘの構造要素の基Ｒ６、ｌ（，７及びｌｃｓは例えば
下に定義されるものである。

Ｒ７及びＲ１１はハロゲン原子として例えば弗素原子ま
たは塩素原子、アリール基としてフェニル基、アリール
オキシ基としてフェノキシ基そしてアルキル基及びアル
コキシ基として好ましくは炭素原子数１ないし１２、特
に炭素原子数１ないし４を含む基である。例えはメチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基＋　ｉ−プロピル基。

ブチル基、メトキシ基及びエトキシ基である。

芳香族基凡りは窒素原子に対してオルト位に。

少なくとも１個、特に好ましくは両方においてアルキル
基またはアルアルキル基により置換されている。アルア
ルキル置換基は、特にベンジル基である。アルキル置換
基は、好ましくは炭素原子数１ないし１２、特に炭素原
子数１ないし４を含む。アルキル基は直線状または分岐
１〜ていることができる。特に好ましくは、メチル基、
エチル基及びイノプロピル基である。さらに例えばｎ−
プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ペンチル基
、ヘキシル基、オクチル基、デシル基及びドデシル基で
ある。

ホモポリイミド及びコポリイミドの構造要素刈、Ｘｎｌ
＆びＸＩＶ　ｏ基Ｂｙ　、　ｋＬｌｏ、几１１　、　ｌ
（、Ｈ９几１３゜Ｒ１４・几１５・Ｘ２及びＹｌは好ま
しくはＥＰ−Ａ第１３８．７６８号に定義されているも
のでろる。

構造９素Ｗ■、乃１１［及び魚中の基Ｚ、　、　Ｚ２’
　。

Ｒ１１？ないし１ｔ２７並びに有機発色ポリアジドはＥ
　Ｐ　−Ａ第１４１．７８１号中の実施例によって言及
されている様に定義される。

ハロニウム塩ｘｘｘｍの基Ｒ４１及びＲ４２は１個また
はそれ以上の一価の基、例えば炭素原子数１ないし８の
アルキル基またはアルコキシ基、ハロゲン原子例えば弗
素原子、塩素原子またけ臭素原子、ニトロ基またはシア
ノ基によって置換されうる。基Ｒ４１及びＲ”の例は、
フェニル基。

トルイル基、キシリル基、クロロフェニル基。

ニトロフェニル基、メトキシフェニル基及ヒビリジル基
である。几４１及びＲ４２は一緒に例えば２．２′−ジ
フェニレン基または２．２′−ビピリジル基であること
ができる。Ｘａは特に沃素原子であり、そしてｑ４は特
に１である。Ｑａは好ましくは塩素原子であり、そして
特に弗素原子である。Ｌ２は好ましくは硼素原子、燐原
子またはアンチモン原子である。

ヨードシル塩ＸＸ）ＧＶの基几４３及び凡４４は好まし
くは、各々が１個またはそれ以上の１例えば炭素原子数
１ないし４のアルキル基またはアルコキシ基、フェニル
基、ニトロ基筒たはハロゲン、原子によシ置換されるこ
とができるフェニル基またはナフチル基である。

Ｑｂは好ましくは塩素原子であり、そして特に弗素原子
であり、そしてｑ５は好ましくは１である。Ｌ３は好ま
しくは硼素原子、燐原子またはアンチモン原子である。

これらの塩の例は、ジフェニルヨードシルへキサフルオ
ロホスフェートまたはヘキサフルオロアンチモネートで
ある。

スルホニウム塩ｘｘｘｖの基凡４５　、　Ｒ，４６及び
ＦＬ４７は、好ましくは炭素環式芳香族基、例えばフェ
ニル基またはナフチル基である。これらは、１個または
それ以上の、例えば炭素原子数１ないし４のアルキル基
、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、フェニル基、
ニトロ基ｔだｈハロゲン原子により置換されることがで
きる。ＱＣは好ましくは塩素原子であり、そして特に弗
素原子であり、セしてｑ６は特に１である。Ｌ４は好−
ましくは硼素原子、燐原子またはアンチモン原子である
。例は、トリフェニルスルホニウムへキサフルオロホス
フェートまたは−ヘキサフルオロアンチモネートである
。

式ＸＸＱＩｌ［の金属カルボニル錯体中の基Ｙ３　、Ｑ
　−Ｍ及びＸ４は、ＥＰ−Ａ第９４，９１４号中に例示
され及び好ブしいとして選ばれた様に定義される。

式ＸＸＩＫの錯塩の基几４８　、　ｉ（，４９、Ｍｅ　
、　Ｑ／及びＬはＢＰ−Ａ第９４，９１５号中に例示さ
れ及び好ましいとして選ばれた様に定義される。

適当な基Ｂ４ａの非常に好ましい例は、ベンゼン、トル
エン、エトキシベンゼン、ジメトキシベンゼン、トリメ
チルベンゼン、ナフタリン、１．２−ジヒドロナフタリ
ン、１，２，３．４−テトラヒドロナフタリン、メチル
ナフタリン、メトキシナフタリン、エトキシナフタリン
、ビフェニル、ターフェニル、スチルベン、インデン。

インダン、ヒドロキシインダン、メトキシインダン、ビ
フェニレン、フルオレン、フェナントレン、アントラセ
ン、９．１０−ジヒドロアントラセン、　　ト’）フェ
ニレン、チオフェン、フラン、ベンゾチオフェン、ベン
ゾフラン、クロメン、キサンチン、チオキサンチン、ナ
フトチオフェン、チアントラセン、ジフェニレンオキシ
ド及びジフェニレンスルフィドである。

適当な基几４ｓの非常に好ましい例は、各々が同一のま
たは相違した基例えば炭素原子数１ないし８のアルキル
基または炭素原子数１ないし８のアルコキシ基により置
換されることのできるシクロペンタジェニルアニオンま
たはインデニルアニオンである０ シクロペンタジェニル−！タハインデニルアニオン上の
置換基の例は、メチル基、エチル基。

ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、第ニ
ブチル基、第三ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシ
ル基及びｎ−オクチル基、メトキシ基％　ｎ−プロポキ
シ基、インプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｎ−へキシ
ルオキシ基及びｎ−オクチルオキシ基である。

基Ｒ”、Ｒ３３、ｑ及びＬｌはＥＰ−Ａ第１２へ７１２
号及び同１５２ｊ７７号中に例示され及び選ばれた様に
定義される。

本発明による被覆された材料は、基材に接着剤の層を適
−用し、そして引き続いてポリイミドフィルムを接触さ
せることによシ得られる（工程Ｉ）０しかしながら、基
材上の接着剤で接着されるべき一方の面に接着剤で被覆
されたポリイミドフィルムをおくこともまた可能である
（工程■）。この様な工程■のフィルムは、粘着性、自
立及び光構造性ポリイミドフィルムである◎ 工程Ｉにおいて接着剤の適用は、基材に接着剤溶液また
は液体接着剤（混合物）で被覆することにより都合よく
行なわれる。

工程■の接着剤を被覆したポリイミドフィルムは、好ま
しくは接着剤側に適当なカバーフィルムを供給したもの
であシ、このため生成物はロールに巻きつけることので
きる完全に乾いたフィルムである０ この保護層をはがすことにより、接着剤を被覆したポリ
イミドフィルムは１次に基材上に直接積層されることが
できる。所望により、積層段階は、３０ないし２３０℃
の温度範囲に加熱することによシ行ない、それ故に対応
して接着剤の層を軟化させそして基材に接着剤の層を接
着させる〇 所望によシ、ポリイミドフィルムは、接着剤から離れて
面する側に、一時プラスチックフィルムのみを適用する
ことにより化学物質例えば大気中の酸素または溶媒から
機械的に補強または保護されることもできる。この付加
的なプラスチックフィルムは容易に例えばはがすことに
より可能であるならば洗浄することにより、除去される
べきである。プラスチック補強ポリイミドフィルムは、
工程Ｉにおいて使用されることもできる。

接着剤の層の厚さは、引き続いて適用されるポリイミド
フィルムに比べて一般に薄い。適癌なところで、溶媒を
被覆工程の後に蒸発させても良い０これは高温で行なう
ことができる。

一般に、引き続いて上に適用される及びそれ自身が有機
溶媒に可溶であるポリイミドが、使用されるあらゆる溶
媒によって極く初期に完全には溶解しない様に、接着剤
組成物は選択される。

接着剤を調製するために、溶媒及び所望によシさらに添
加剤が使用される場合、この目的のために適当な溶媒は
例えば単独でまたは少なくとも２つの組成からなる混合
物で使用されることができる下記のものである◇脂肪族
ケトン例エバシクロペンタノン、シクロヘキサノン、シ
クロヘプタノン、シクロオクタノン、４−メチルシクロ
ヘキサノン、３−メチルピロリドンまたは２−メチルシ
クロヘキサノン；芳香脂えば塩化メチレン、クロロホル
ムテトラクロロエチレン、クロロベンゼンまたはｏ−ジ
クロロベンゼン；エーテル例えばエチレングリコールジ
メチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、テトラヒドロフランまたはジオキサン；エーテルア
セタール例えばメチルグリコールアセテートまたはエチ
ルグリコールアセテート；及びその他の極性中性溶媒例
えば強力な極性中性溶媒例えばＮ−メチルピロリドン、
γ−ブチロラクトンまたはＮ、Ｎ’−ジメチルアセトア
ミドよりある程度弱いプロピレンカーボネートまたはイ
ンフォロン 溶媒のない熱安定性の光構造性接着剤を使用することも
可能であり、または接着剤を光化学的にまたは熱的に非
揮発性の物質に変換される反応性希釈剤と組合せて使用
することができる。

同時に重ねられたポリイミドフィルムを初期に溶解する
該反応性希釈剤は１例えばエチレン性不飽和架橋系の１
−ビニルピロリドン−またけエポキシド性架橋系の０−
タレシルグリシジルエーテルである。

好ましくは、熱安定性の光ｆｉｔ性接着接着剤成は自立
光架橋性ポリイミドフィルムの組成とは異なって選択さ
れる。

光構造性接着剤の調製において、感光性に逆の効果をも
たない通常の添加剤をさらに混入させることが可能であ
る。それらの例は、艶消剤。

流れ調整剤、猿■９砕充填剤、難燃剤、酸化防止剤、安
定剤、染料、顔料、定着剤及び例えば米国特許第４，５
４９，６１９号に記載されているアンチハロ染料である
。

最初に言及した工程■において、光構造性の熱安定性接
着剤は１通常の方法例えば浸漬、・・八たは噴霧工程１
回転、カスケード及び流し塗装により、適当な材料また
は基材に適用することができる。

ラム、銅、錫、銀及び金、金属合金、半金属。

半導体例えば珪素、ゲルマニウムまたは■−■半導体例
えば砒素化カリウム、材料例えばガラス、セラミックま
たはその他の無機材料例えば５ｉｎ２またはＳｉ３Ｎ４
　である。

接着剤表面は次にポリイミドフィルムを適用した。これ
は例えばフィルムを適当な大きさに切断することによシ
行なうことができ、そして表面に適用することは所望に
よう接触圧によって行なうことができる。しかしながら
、被覆は自動的に例えば積層技術における通常のフィル
ム適用工程の一つくよシ行なわれても良い。

同様にプロセス■は本発明によって被覆に導いて通常の
方法による得られる。このフィルムは、使用の前にはが
さなければならない保護層を付加的に接着側に有するこ
とができる。接着剤フィルムは、上記の方法によシ基材
に手でまたは自動的に適用される。

基材を、工程Ｉにおける様に、被覆段階の前に付加的に
表面処理することができる。例えば定着剤で前処理する
ことができる。

本発明によって被覆された基材は、引き続き照射によシ
画像様に露光され、そして二重被覆の二つの部分の非架
橋部分は適当な現像液によって次に溶かされる。

光構造または光架橋は様々な種類の高エネルギー照射に
よシ、例えば光によシ、特に紫外域のもの、Ｘ線、シン
クロトロン照射、レーザー光または電子線によシ起こす
ことができる。

画像様の露光は、公知の方法１例えばフォト透明な基材
の場合には基材の側からも行うことができる。

現像の後１画像を熱的または光化学的後処理によって安
定化することができる。

適用されたポリイミドフィルム及び下層の熱安定性光構
造性接着剤が十分に同じ範囲まで現像される様に現像液
は選択される。

本発明の特別な実施態様は。

ａ）孔をあけることのできる散乱する表面を有する基材
、 ｂ）光構造性ネガ作用熱安定性接着剤の層及び吸収添加
剤を接着剤層ｂ）は含む。

散乱する表面は、それらの上に入射した光の一吸収添加
剤は一般に、一方ではポリイミド７を吸収することがで
きる染料または染料の組合ができる。

用の写真記録材者どして非常に適している。

保護層及び画像はそれらの高い熱安定性及び実際上画像
構造の歪が観察されないために、使用に際してかなシ有
利な点を有する熱応力の下での縮みが小さいかまたは完
全にないことによシ特徴づけられる。

保護層及びレリーフ画像は、高い接着力並びに熱的１機
械的及び化学的抵抗性によシさらに特徴づけられる。本
発明によシ被覆された材料は寿命が長い、しかし光の作
用から保護されなければならない。

それ故に本発明は。

１）基材表面を光構造性ネガ作用熱安定性接着剤で被覆
し、そして適当なところで溶媒を蒸発させ、 Ｉｔ）　　所望によシ圧力及び／または熱を利用して自
立光構造性ポリイミドフィルムを接着剤被覆表面に適用
し。

ｍ）　　ポリイミドフィルムまたは基材の側から化学線
で線状の画像様に露光し。

Ｉｖ）　　ｇ光されない部分において、ポリイミドフィ
ルム及び接着剤フィルムの両方を除去する適当な現像液
で系を現像する。

ことからなる光平版写真工程によってレリーフ画像を製
造する方法も提供する◇ 本発明はさらに。

１）基材表面を光構造性ネガ作用熱安定性接着剤及び自
立光構造性ポリイミドフィルムからなる二層系の接着剤
側で所望によシ圧力及び／または熱を利用して被覆し。

ｉｉ）　　露光されない部分において、ポリイミドフィ
ルム及び接着剤フィルムの両方を除去する適当な現像液
で系を現像する、 ことからなる光平版写真工程によってレリーフ画像を製
造する方法を提供する。

本発明は上記の方法の一つによって得られるレリーフ画
像にも関する。

これら画像は、保護層、絶縁層または不動態化層として
、ａ電体として、ハンダ付マスクとしてまたは分離また
は集積半導体部品、集積回路１回路板または多重層の内
部層として、使用されることができる。もう一つの可能
性はセラミック基材（α線照射から貯蔵物質の保護とし
て）への使用またはテープ自動化接着工程への使用であ
る。

さらに利用分野は、織物のプリント及び写真技術のため
のフォトマスク、印刷回路製造のためのエッチレジスト
またはガルバルジスト。

Ｘ線マスクのためのリレーまたは液晶インジケータのた
めの構造要素である。

本発明は、上記した目的の一つのためのレリーフ画像の
使用方法にも関する。

（実施例） 下記の実施例においで、本発８Ａを説明する。

■、一般的実験条件 使用される基材は、銅、銅−エポキシラミネートまたは
セラミックからなる６３Ｘ６３．の大きさのシートであ
る。光面に（１１μｍ厚の５ｉ０２層を有する３インチ
シリコンウェハーもまた使用される。

接着剤の接着前に光構造性自立ポリイミドフィルムの調
製及び熱安定性で光構造性接着剤の適用は１回転方法（
ｗｈｉｒｌｅｒ　ｔｅｃｑｎｉｑｕｅ）によって行なわ
れる。この方法において、接着剤を、所望の厚さで直接
基材上にまたはポリイミドフィルム上に回転させ、そし
てフィルムを次に手で適用させる。被覆された基材を乾
燥し、すなわち電熱器によυ、すなわち基材の下側から
均一に制御された加熱により、加熱する。露光は、基材
及び必要な解像に依存して、金属ハロゲン化物コピーラ
ンプ（スタツグ（Ｓ　ｔａｕｂ　）　ノ５０００Ｗウル
トラルクスモデル）（ランプと基材またはマスク列とを
２５６１Ｍの距離で）及びカールズツス（Ｃａｒｌ　８
Ｍ５ｓ　）の露光機を用いて行なう。

この露光機は、光学協会（ｔｈｅ　０ｐｔｉｃａｌ　Ａ
ｓ５ｏｃｉａｔｅｓＩｎｃ、）　４００　ｎｍでの感度
測定に基づいて、２２−２５　ｍＷ／−の光出力を生ず
る。

現像は１．５バールの噴霧圧で噴霧ノズルを用いて現像
液または洗浄液を噴霧することにょる噴霧現像液中で行
なう〇 被覆された銅−ラミネート基材に使用される試験パター
ンはスト−ファー　グラフィックアーツ　エクィップメ
ント社（Ｓ　ｔｏｕｆ　ｆｅｒＧｒａｐｈｉｃ　Ａｒｔ
ｓ　Ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ　Ｃｏ、　）の１−Ｔ分解能ガ
イドである。被覆されたウェハー及びセラミック基材は
、アイチック　オプティカル　システム　ディビイジョ
ン（Ｉｔｅｋ　　ＯｐｔｉｃａｌＳｙｓｔｅｍ　Ｄｉｖ
ｉｓｉｏｎ　）のＵＳＡＦ　１９５１パターンを用いて
試験され、逆の色調を形成するマスクの使用は、独立し
ているウェブだけでなく分離しているトラフをつくりだ
すことを可能にする。

接着は、大きさ２−９Ｘ７．３ｍｍの独立している範囲
からなる列の形成を導くクロムマスクによって試験され
る。

得られるレリーフ画像は、光学顕微鏡並びに走査電子顕
微鏡によ）検査される０層の厚さはテンコー（Ｔｅｎｃ
ｏｒ　）の１アルフアステツプ（Ａｌｐｈａｓｔｅｐじ
プロフィロメーターを使用して決定される。

７５モル係の１，４−ジアミノ−テトラメチルベンゼン
及び２５モルチの４，４−ジアミノ−５，５’、　５．
５’−ｆ　）ラメチルジフェニルメタンとを二無水３　
、３’、　４　、４’−ベンゾフェノンテトラカルボン
酸でポリマー化した物質から得られる環化コポリイミド
からガンマブチロールアセトンの１３％溶液全調製する
。これは［１９３という固有の粘度（２５℃でＮＭＰ中
［１，５％）を有する。この溶液をα８μｍ’を通して
濾過し、そして定着剤を加えていないシリコンウェハー
上テ１２秒間、９００　ｒ、ｐ、ｍで回転させる。これ
を１時間４０な−し８０℃の温度で乾燥させ、次に８０
℃で２５分間放置する０これによって、あらゆる所望の
基材に対しわずかに切シ離し及びはがすことＫより移動
させることのできる厚さ２ン０μｍの均一な形状の安定
なフィルムＡを得る。

製造実施例を繰り返す、すなわち５５モルチの１，４−
ジアミノテトラメチルベンゼン及び４５モルチの４，４
−ジアミノ−３，３′−ジメチル−５，♂−ジエチルジ
フェニルメタンとから二無水３ｔ　”ｙ　’　ｔ　”−
ベンゾフェノン−テトラカルポン酸でポリマー化したポ
リマーを環化する。

そしてこれは固有の粘度１．０を有する。

このポリマーの１２係溶液を、定着剤を使用しなかった
ウェハーの上で１．０５Ｏｒｐｍで１２秒間回転させる
。製造実施例１の様に乾燥を行なうと、厚さ２５μｍの
均一なそして寸法安定性のポリイミドフィルムＢを得１
．これはわずかに切り、そしてはがした後にあらゆる所
望の基材に移動させることができる。２０００　ｒ、ｐ
、ｍで１２秒間の回転は、一度に均一な及び寸法上安定
な厚さ１０μｍのポリイミドフィルムＢ−２ｉ与える。

製造実施例１の方法を、 ジフェニルメタンから環化可溶ポリイミドを製造するた
めに使用する。０．５２の固有の粘度を有するこのポリ
マーを４−ブチロラクトン中の１５係溶液とし、１２μ
ｍを通して濾過する。定着剤を使用しなかったウェハー
上で回転しく１０秒間、９００　ｒ、ｐ、ｍ　）そして
８０℃（６０分間）で乾燥すると、厚さ１０μｍの均一
で寸法安定性のポリイミドフィルムＣを得、これは軽く
切りそしてはがした後に、あらゆる所望の基材に移動さ
せることができる。

製造実施例２のポリマーをシクロヘキサン中の４．５　
％溶液に変え、ＣＬ６５μ風を通して濾過する。この溶
液を１接着剤溶液１”として使用する〇 二無水３１３’ｌ　４　ｔ　４’−ヘンシフエノンカル
ボン酸でポリマー化することによ＃）５５モルチの１゜
４−ジアミノテトラメチルベンゼン、４２モルチの４，
４′−ジアミノ−３，５′−ジメチル−５，５′−ジエ
チルジフェニルメタン及び３モルチの１゜３−ビス−（
５−アミノプロピル）−１＋’＊３＋３−テトラメチル
ジシロキテンから得られた環化コポリイミドから、シク
ロヘキサノン中の５チ溶液を製造し、そしてＱ、６５μ
ｍを通して濾過し、”接着剤溶液２″を得る。

製造実施例６ 製造実施例５からの接着剤溶液２に、ポリマ−に基づい
て６チの２，６−ビス−（４−アジド−ベンジリデン）
−４−メチルシクロヘキサノンを加え、再度濾過し、”
接着剤溶液６″を得る。

一シクロヘキサノン７５重ｉ％ −４，１モル／１００（ｌのエポキシ含量ヲ有する半固
体ビスフェノール−八−エポキシ樹脂１７．５重量％ −５，２５モルフ１０ＧＣ１のエポキシ含量及び２５℃
で１１．ｏ　ｏｏ　ｍＰａ５の粘度を有する液体ビスフ
ェノールＡエポキシ樹脂７．５ｉ［１％からなる溶液に
、エポキシ樹脂の総重量に基づいて。

■　　　　　　　　　■ 一モダ７　ｏ　−（Ｍｏｄａｆｌｏｗ　　）（モンサン
ト（Ｍｏｎｓａｎｔ）の流れ調整剤）［１２重ｆｆｉ％
を加え、０．２μｍを通して濾過し、”接着剤溶液４″
を得る。

一シクロへキサノン７２重量係 −４，１モル／１０００ｔのエポキシ含量を有する半固
体ビスフェノール−Ａ−エポキシ樹脂２５．５重量％ 一５２５モル／１００（ｌのエポキシ含量及び２５℃で
１１，０００　ｍＪ？ａｓの粘度を有する液体ビスフェ
ノールＡエポキシ樹脂２．５重ｉ％からなる溶液に、エ
ポキシ樹脂の総重量に基づいて ■　　　　　　　　　　［Ｆ］ 一モダ７ｏ　−（Ｍｏｄａｆｌｏｗ　　）　　（モ：ｙ
サント（Ｍｏｎｓａｎｔ）の流れ調整剤トα２重Ｊｉｍ
−クメンヒドロパーオキサイド　１５重量％−２，６−
ビス（４−アジドベンジリチン）−４−メチルシクロヘ
キサノン　五５重蓋チーＣＩ溶媒黄色１４５　　　　　
　１７詣チを加え［ｌＬ２ｆｉｍを通して濾過し、゛接
着剤溶液５”を得る。

欧州特許出願第Ｑ、０７４６５６号実施例１及び３の方
法が、　ＣＨ３５ｉＣ２３（（１１５１モルン、　Ｃ６
Ｈ５８ｉ　Ｃ１３（Ｑ、００８モル）及びＣＨ，＝ＣＨ
８ｉＣ６３（α０４１モル）からオルガノポリシルセス
キオキサンヲ製造するために用いられ、これを分離する
。［１８μｒｌＬ全通して濾過したのちに“接着剤溶液
６“を得るために、次の配合剤 シクロヘキサノン　　　　　　　　４４．７８チシクロ
ベンタノン　　　　　　　　３Ｇ、４６チＮ−ビニルピ
ロリドン　　　　　　１６．４０チ２．６−ビス（４−
アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン　
　　　　　　　α４０チオルガノボリシルセスキオキサ
ン　　　　　　７．９６　％が用いられる。

製造実施例１０ 市販の使用可能な乾燥フィルムハｙダ付マス■　　　　
　　　　［Ｆ］ り（バクレール　（Ｖａｃｒｅｌ　　）９５０　、デュ
ポン（Ｄｕｐｏｎｔ　）　、厚さ７５μｍトの感光性層
を機械的に基層から除去し、そしてこれを次のように配
合する。

シクロヘキサノン　　　　　　　５五２８％シクロペン
タノン　　　　　　　３＆２７チ乾燥フイルム基材　　
　　　　　　９９５チ［ｌＬ８μｍの広さの孔を有する
再生セルロースのフィルターを通した濾過を行ない、１
接着剤溶液７１′を得る。

製造実施例１１（粘看フィルム） 実施例７からの接着剤溶液４をウヱハーの上で４００　
Ｏｒ、ｐ、ｍで２５秒間回転させ、その表面に製造実施
例２のポリイミドフィルムを載せる。

次に４５ないし６５℃で５分間乾燥させ、そして６５℃
で５分間放置する。これにより、軽く切ることによって
及びはがすことによって調製基材から分離させることの
でき、並びに自立体及び粘着体においてあらゆる所望の
基材に適用することのできる粘着性光構造性ポリイミド
フィルムを得る。

実施例８からの接着剤溶液５をウエノ・−の上で１．０
０　Ｏｒ、ｐ、ｍで２５秒間回転させ、その表面に製造
実施例２のポリイミドフィルムＢ−１を載せる。次に４
５ないし６５℃で５分間乾燥させ、そして６５℃で５分
間放置する。これによシ、軽く切ることによって及びは
がすことによって調製基材から分離させることのでき、
並びに自立体及び粘着体においてあらゆる所望の基材に
適用することのできる粘着性光構造性ポリイミドフィル
ムを得る〇 製造実施例４からの接着剤溶液１を、銅張りエポキシラ
ミネート上で３．００Ｏｒ、ｐ、ｍ　１５分間回転させ
る。部分的に乾燥しているが１表面がまだ湿っている間
に製造実施例１からのポリイミドフィルムＡを手で適用
し、そして圧する、そして温度を次にわずかに４０℃ま
で上げ１５分間そして次に６０℃まで１５分間上昇させ
る。

これを次にスト−ファー　グラフィック　アーク　エク
イップメント社の１−１分解能ガイドでおおい、そして
ｓｏｏｏｗコピーランプの下で２分間露光する。現像は
次にガンマブチロラクトン及びトルエンの混合物（重量
で１００：α９５）を３００秒間噴霧する噴霧現像液で
行ない、次に純粋なトルエンで手短かに行なう◇これに
より基材に非常によく接着するばシばりした高度に解像
されたレリーフ画像を得る。

製造実施例１１からの粘着性ポリイミドフィルムを銅張
ジェポキシラミネートに手で適用する。このフィルムを
十分に圧し、スト−７アーグラフイツク　アーク　エク
ィップメント社の１−１分解能ガイドでおおい、そして
次にｓｏｏｏｗコピーランプの下で９０秒間露光する。

基材を次に予備加熱したホットプレート上に置き、そし
て被覆を約１分間にわた９１００℃に上昇させ、この間
ポリイミドフィルムを上に置いたフラットカバーにより
基材に対して軽く圧する。このものをさらに５分間１０
０℃と１１０℃の間に放置し、そして冷却する。これを
次にシクロペンタノン及びトルエンの混合物（重量で１
００：α６５）により６．５分間噴霧現像液で現像する
。これにより基材に非常によく接着する鋭角を有するば
シばシした画像を得る。

１１μｍの５ｉＯｚで被覆した３−インチウェハーを定
着剤γ−アミノプロピルトリエトキシシランを用いて５
．００　Ｏｒ、ｐ、ｍで２０秒間１次に製造実施例５か
らの接着剤溶液２を用いて３．　ＯＯＯｒ、ｐ、ｍで１
２秒間回転被覆する◇製造実施例１からのポリイミドフ
ィルムＡｉ次に適用し、これを最初に４０℃で５分間そ
して次に６０℃で２０分間乾燥させる０ＵＳＡＦ１９５
１試験マスクでおおい、マスク列及び２５ｍＷ／ｄの光
出力比を用い真空で接触させた露光機を使用して５分間
露光する。

これをガンマブチロラクトン及びトルエンの混合物（重
量で１．００：ｃＬ９５）を噴霧することによ９３００
秒間現像する。これによシ厚さ２＆５μｍの高度に解像
された構造を得る。

ウェハーを次に加熱処理炉に置き、空気中、５５０℃ま
で徐々に加熱し、α５時間その温度に放置し、そして次
に冷却する。構造の変化は顕微鏡下で見えない、そして
層の厚さが今２工６μｍとなる（始めの層の厚さの８９
．１％）、接着剤層は［１５２μｍの厚さを有する。

０１μｍの５ｉｎ２で被覆した３−インチウェハーに、
最初は定着剤ｒ−アミノプロピルトリエトキシシランを
用いて、そして次に製造実施例５からの接着剤２を用い
て３００　ｒ、ｐ、ｍで１２秒間被覆するために適用実
施例３の方法を、用いた。その後すぐに製造実施例２か
らのポリイミドフィルムＢ−２＝ｉ適用し、そして下記
の手順に従って被覆物を加熱するＧ ４０℃　　　　５分間 ６０℃　　　　５分間 ８０℃　　　　３分間 加熱８０−１５０℃　１０分間 １５０℃　　　　５分間 これを適用実施例３と同様に、ＵＳＡＦ１９５１試験マ
スクを通して５分間の露光を行なう。これをシクロペン
タノン及びトルエンの混合物（重量で１．００：１１６
５）で１０分間現像し、３５０℃（１５分間、窒素ガス
）での処理後でさえも変化しない及び非常によく基材に
接着する高度に解像された構造を得る。

適用実施例５ 製造実施例３からのポリイミドＣが接着剤に接着される
こと金線いて、適用実施例４をそのまま繰り返す。露光
は８分間そして現像は、４−ブチロラクトン及びキシレ
ンの混合物（体積で、１：１）で１４分間行なう。応力
亀裂が１−中に見ることができるけれども、ポリイミド
画像によく接着している非常に高度に敵像された構造が
製造され、ＵＳＡＦ試験パターンの自立構造が、最後の
細かい部分まで保存され、そして要素６．．２（７，２
μｍ）でさえもまだよく解像されている０層全体の厚さ
は１２．４μｍである。

適用実施例６ 多孔性の表面を有する白磁シートに、製造実施例１２か
らの粘着性ポリイミドフィルムを手で適用した＠このフ
ィルムを十分に圧し、マイチック　オプティカル　シス
テム　ディビイジョンのＵＳＡＦ１９５１試験マスクで
おおい、ソシてマスク列及び光学協会の４００℃ｍでの
感度測定に基づいて２２ｆｌＬＷ／ｃｄの光出力比のカ
ールズクスの露光機で５分間露光する。

被覆したセラミックを次に下記の手順に従って予備加熱
したホットプレート上で加熱し、適用されたポリイミド
フィルムを、上に置かれたフラットカバーにより基材に
軽く圧する。

１、１５分間　　　　６５℃ ２．５分間　　　　９０℃ 五　　５分間　　　１００℃ これを冷却し、そして引き続きシクロペンタノン及びト
ルエンの混合物（重量で、１．　ＯＯ：ａ、６Ｓ）で１
４分間噴霧現像液中で現像する。

これによシ非常によく基材に接着し及び鋭角を有し、７
０μｍの広さで自立構造要素２．６及び２２５μｍの広
さで絶縁トラフ要素１．２からなる。

良好に解像されたレリーフ画像を得る。層の全体の厚さ
は２５μｍである。

適用実施例３の方法を、３−インチシリコンウェハーの
上に接着剤溶液６でポリイミドフィルムＢ−２を接着さ
せるため釦用いる。５分間の露光及びシクロペンタノン
／トルエン（重量で、１．００：０．６５）で１０分間
の現像により同様に高度に分解された構造を得る。

Ｑ、１μｍの５ｉ０２で被覆した３−インチウェハーを
、定着剤γ−アミノプロピルトリエトキシシランの溶液
と一緒に４０００　ｒ、ｐ、ｍで１Ｑ秒間、そして次に
製造実施例９からの接着剤溶液と一緒に２００　Ｏｒ、
ｐ、ｍで５秒間回転被覆する。製造実施例２からのポリ
イミドフィルムＢ−２ｉ次に適用する。これ′１ｔ５０
℃で２３分間乾燥させ、そして大きさ２．９ＸＺ５．の
自立範囲を製造するマスクを通して２１．、ＱｔｎＷｌ
−の光出力比で１０分間露光する。シクロペンタノン／
トルエン（重量で、１．００：１．６０）で７分間現像
すること罠より、これらの範囲を除去したのち、構造を
炉中に置き、窒素中３５０℃まで加熱しそしてその温度
で１５分間放置する０冷却ののち、範囲上の接着剤テー
プをしっかりと押しそして次にテープを引っ張ることに
よって基材へのこれら構造の接着を調べる。気泡の封じ
込みにょシ起こる多少の欠点を除いて、この処理ののち
、層のはがれは、領域全体にわたり見ることはできない
。

みがき、洗浄し、そして油を落とした銅のシートを、製
造実施例１０からの接着剤溶液で１５０　Ｏｒ、ｐ、ｍ
　８秒間回転被覆する０これを４５℃で４５秒間、そし
て１００℃で３０秒間乾燥させ、冷却し、製造実施例２
からのポリイミドフィルムＢ−２を適用し、そして再び
５０℃で３０秒間加熱する。これを大きさ２．９Ｘ７．
５ｍの範囲を製造するマスクを通して２６［ｒｎＷ／ｌ
：で１０分間露光する。これら構造を次にシクロペンタ
ノン及び１，１．１−）リクロロエタンの混合物（１董
で１．０：α８０）で噴霧によ＃）１８分間現像し、そ
の結果できた構造ヲ、露光後の全領域に１０分間２５備
の距離で金属ハロゲン化物コピーランプによって処理す
る。

引き続く接着テープ試験において、層のはがれが全然見
られず、そして２００，２５０，３００゜３５０℃への
加熱及び冷却のくり返しく各々窒素ガス下最終温度に１
５分間保つ）の段階ののちでさえも１層のはがれは各々
行なわれた接着剤試験においては見られない。

適用実施例１０（接着試験） 適用実施例の試験を接着剤試験のために上記のマスクを
用いて繰り返す。範囲を３５０℃（窒素ガス、１５分間
）に加熱そして冷却したのちに、接着剤テープによって
はがすことのできる範囲はない。適用実施例４からのＵ
ＳＡＦ１９５１試験パターンの自立の精密構造への接着
剤テープの適用によっても層のはがれは見られない。

適用実施例１１（接着試験） 製造実施例１１からの厚さ１０μｍの粘着性ポリイミド
フィルムを定着剤を使わずに（１１μｍの５ｉ０２で被
覆された３−インチシリコンウエノ・−に接着剤の接着
をする。これを接着試験に使用されるマスクを通して２
６　ｍＷ／ｌ：ａで５分間露光する０温度をすぐに１１
５℃に上げ、この間にフィルムを基材に軽く圧する。シ
クロペンタノン及びトルエンの混合物（重量で１．００
：α６５）を噴霧し。

Claims (28)

【特許請求の範囲】
1. （１）ａ）表面にレリーフ画像を形成することができ、
   及び／または孔あけをすることのできる基材、 ｂ）光構造性ネガ作用熱安定性接着剤、及び ｃ）自立光架橋性ポリイミドフィルム を連続した順序で含有する被覆材料。
2. （２）上記の自立光架橋性ポリイミドフィルム（ｃ）が
   厚さ３−３００μｍであり、本質的に、総分子に対して
   ５ないし１００モル％の次式 I ａ： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ａ） （式中、カルボニル基は各々の場合に互いにオルト位に
   なるように対になっており、Ｘは芳香族ジアミンの２価
   の基を表わす）で表わされる少なくとも１種の構造要素
   及び９５−０モル％の次式 I ｂ： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｂ） （式中、 Ｚ′は４価のベンゾフェノン基または他の未置換もしく
   は置換された４価の芳香族基を表わし、各場合において
   、２個のカルボニル基は互いにオルト位もしくはペリ位
   となるように該基に結合しており、 Ｘ′はＸと同様に定義されるか、またはＸとは異なる有
   機ジアミンの２価の基を表わし、ここにおいて、芳香族
   基Ｘは少なくとも１個の窒素原子の両側のオルト位で、
   または両方の窒素原子の少なくとも１方のオルト位で、
   アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基また
   はアルアル基により置換されているか、または芳香族基
   Ｘの隣り合った２つの炭素原子がアルキレン基により置
   換されており、ｚ′が４価のベンゾフェノン基であると
   きＸとＸ′とは異なる基を表わす）で表わされる少なく
   とも１種の構造要素を有するホモポリイミドまたはコポ
   リイミドからなり、個々の構造要素、 I ａ及び I ｂは
   所定のポリマー分子内で異なっていることができること
   を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の被覆材料。
3. （３）総分子に対して少なくとも５０モル％のポリマー
   が上記式 I ａの構造要素からなり、上記式 I ｂ中、Ｚ
   ′が次式： ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼ 〔式中、Ｒは直接の結合を表わすか、または次式： −Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ＿２−、▲数式、化学式、表等
   があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼、▲
   数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表
   等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼、
   ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、−Ｎ＝Ｎ−、▲数
   式、化学式、表等があります▼、 −ＮＨ−、▲数式、化学式、表等があります▼、−ＣＨ
   ＿２−、−ＣＨ＿２ＣＨ＿２−、▲数式、化学式、表等
   があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼、ま
   たは▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾ａ、Ｒ＾ｂ及びＲ＾ｃは炭素原子数１ない
   し６のアルキル基、フェニル基もしくはベンジル基を表
   わし、そしてＲ＾ｂ及びＲ＾ｃはさらに炭素原子数１な
   いし６のアルコキシ基、フェニルオキシ基もしくはベン
   ジルオキシ基を表わしてもよい）で表わされる橋かけ基
   を表わす〕で表わされる基からなる群より選択され、Ｚ
   ′は与えられた分子内で異なる基を表わしてもよく、 上記式 I ａ中、Ｘは与えられた分子内で異なる基を表
   わしてもよく、次式： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｃ）、▲数式
   、化学式、表等があります▼（ I ｄ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｅ） 〔式 I ｃ中、遊離価は互いにメタ位またはパラ位にあ
   り 式 I ｄ中、遊離価は好ましくはＲ＾ｊ基に対してメタ
   位もしくはパラ位にあり、そしてＲ＾ｄ及びＲ＾ｅは遊
   離価に対して２つのオルト位に結合し、 式 I ｅ中、遊離価は２−、３−、６−及び７位に結合
   し、Ｒ＾ｄ及びＲ＾ｅは遊離価に対して２つのオルト位
   にあり、 式 I ｄ中、Ｒ＾ｊは直後の結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−
   ＳＳ−、−ＳＯ−、−ＳＯ＿２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ
   −、−ＮＨ−、アルキル基に１ないし６個の炭素原子を
   有する−Ｎ−アルキル基、▲数式、化学式、表等があり
   ます▼フェニル基、▲数式、化学式、表等があります▼
   ベンジル基、−ＣＯＮＨ−、アルキル基に１ないし６個
   の炭素原子を有する−ＣＯＮ−アルキル基、−ＣＯＮ−
   フェニル基、−ＣＯＮ−ベンジル基、または次式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ｛式中、Ｙは次式： ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼または▲数式、化学式、表等がありま
   す▼ （式中、Ｒ＾ｋは水素原子、炭素原子数１ないし６のア
   ルキル基もしくはフェニル基を表わす）で表わされる基
   を表わす｝で表わされる基、またはＲ＾ｊは直鎖もしく
   は枝分かれ鎖の炭素原子数１ないし３のアルキレン基、
   ＣｌもしくはＦで置換されていてもよい炭素原子数２な
   いし１２のアルキリデン基、５ないし６個の環の炭素原
   子を有するシクロアルキリデン基、フェニレン基、フェ
   ニレンジオキシ基または次式：Ｒ＾ｉＳｉＲ＾ｍ、 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
   式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾ｉ及びＲ＾ｍは炭素原子数１ないし６のア
   ルキル基もしくはアルコキシ基、フェニル基、ベンジル
   基、フェニルオキシ基またはベンジルオキシ基を表わし
   、ｒは１ないし１０の数を表わし、ｔは０または１を表
   わし、そして３は０または１を表わし、そしてＲ＾ｙは
   −Ｏ−もしくは−Ｓ−を表わし、そしてＱ＿２は炭素原
   子数１ないし６のアルキレン基を表わし、そしてｑは、
   ないし１００の数を表わす）で表わされる基を表わし、 式 I ｃ、 I ｄ及び I ｅ中、Ｒ＾ｄ及びＲ＾ｅは、炭
   素原子数１ないし１２のアルキル基もしくはアルコキシ
   基、炭素原子数２ないし１２のアルコキシアルキル基、
   シクロペンチル基、シクロヘキシル基またはベンジル基
   を表わすか、または上記式 I ｃまたは I ｄ中、Ｒ＾ｄ
   及びＲ＾ｆが隣り合った位置にあり、一緒になってトリ
   メチレン基もしくはテトラメチレン基を表わし、そして
   Ｒ＾ｅが水素原子を表わしていてもよく、Ｒ＾ｆ及びＲ
   ＾ｇは水素原子を表わすか、または各々独立にＲ＾ｄ及
   びＲ＾ｅと同様に定義され、そしてＲ＾ｈ及びＲ＾ｉは
   水素原子を表わすか、または各々独立にＲ＾ｄ及びＲ＾
   ｅと同様に定義されるか、または式 I ｄ中でＲ＾ｆと
   Ｒ＾ｈが一緒になってトリメチレン基またはテトラメチ
   レン基を表わす〕で表わされる基を表わし、そして構造
   要素 I ｂのＸ′がＸと同様に定義されるか、または炭
   素原子数２ないし３０のアルキレン基、炭素原子数５な
   いし８のシクロアルキレン基、炭素原子数７ないし３０
   のアルアルキレン基、炭素原子数６ないし２２のアリー
   レン基またはポリシロキサンからなる群より選ばれるこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の被覆材料。
4. （４）上記式中、Ｚが次式： ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
   式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾ｎは直接の結合、−Ｏ−、−ＳＯ＿２−、
   −ＣＨ＿２−、−Ｃ（ＣＦ＿３）＿３及び特に−ＣＯ−
   を表わす）で表わされる基を表わし、Ｘが次式： ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
   、 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、遊離価は互いにメタもしくはパラ位にある）で
   表わされる基からなる群より選ばれるか、または次式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾ｏ及びＲ＾ｐは各々独立にメチル基、エチ
   ル基、ｎ−プロピル基もしくはイソプロピル基を表わし
   、そしてＲ＾ｑ及びＲ＾ｒは水素原子を表わすか、また
   はＲ＾ｏとして定義したものと同様の意味を表わすか、
   またはＲ＾ｏとＲ＾ｑが一緒になってトリメチレン基ま
   たはテトラメチレン基を表わし、そしてＲ＾ｐ及びＲ＾
   ｒは水素原子を表わし、そしてＲ＾５は直接の結合、−
   ＣＨ＿２−、−Ｃ（ＣＦ＿３）＿２−、２，２−プロピ
   リデン基または−ＣＯ−を表わす）で表わされる基を表
   わし、これらの基は与えられた分子内で異なった意味を
   とってもよく、そして基Ｘ′がＸと同様に定義されるか
   、または次式： ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼。及び▲数式、化学式、表等がありま
   す▼ （式中、Ｒ＾ｕは直接の結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｃ
   （ＣＦ＿３）＿２−または−ＣＨ＿２−を表わし、そし
   てＲ＾ｔはメチル基、エチル基、イソプロピル基、メト
   キシ基、エトキシ基または水素原子を表わす）で表わさ
   れる基からなる群から選ばれ、これらの基は与えられた
   分子内で異なった意味をとってもよいことを特徴とする
   特許請求の範囲第３記載の被覆材料。
5. （５）自立光架橋性ポリイミドフィルムＣ）が３−３０
   ０μｍの厚さであり、本質的に、平均分子量が少なくと
   も２０００であり、且つ少なくとも１種の次式IXまたは
   Ｘ： ▲数式、化学式、表等があります▼（IX） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ） （式中、 Ｒ＾３はハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数１ないし
   ６のアルキル基、炭素原子数１ないし６のアルコキシ基
   、炭素原子数１ないし６のアルキルチオ基を表わし、こ
   れらの基はフェニル基で置換されていてもよく、または
   フェニル基、フェノキシ基またはフェニルチオ基を表わ
   し、 Ｒ＾４は直接の結合または橋かけ基を表わし、Ｒ＾５は
   水素原子またはアイロル基を表わし、またはＲ＾３と同
   様に定義され、 ａは０、１、２もしくは３を表わし、 ｂは０、１、２、３もしくは４−を表わし、ｃ及びｄは
   ０、１、２、３、４もしくは５を表わし、 ｆは０もしくは１を表わし、そして ａ、ｂ及びｄが２を表わすとき、２つのＲ＾３は一緒に
   なってオルト位に結合した−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−
   を表わすことができ、そして Ｒ＾２及びＲ＾２′は未置換もしくは置換された脂環式
   基もしくは芳香脂肪族基、２つの芳香環が脂肪族基で結
   合されている芳香族基、または少なくとも１個のアルキ
   ル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシア
   ルキル基、アルキルチオ基、アルキルチオアルキル基、
   アルアルキル基で置換された、または芳香族基の２つの
   隣接した炭素原子がアルキレン基で置換された芳香族基
   を表わし、ｆが０を表わす場合Ｒ＾２は少なくとも１個
   の窒素原子に対して２つのオルト位が置換された芳香族
   基を表わす）で表わされる構造要素をポリマーに対して
   少なくとも５モル％の量で含有するホモポリイミドまた
   はコポリイミドからなることを特徴とする特許請求の範
   囲第１項記載の被覆材料。
6. （６）自立光架橋性ポリイミドフィルムＣ）が厚さ３−
   １００μｍであり、本質的に、Ｎ−メチルピロリドン中
   のポリイミド０．５重量％の溶液として２５℃で少なく
   とも０．１ｄｌ／ｇの固有粘度を有し、次式Ｘ I ： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ I ） （式中、 Ｒ＾７及びＲ＾８はハロゲン原子、ニトロ基、アリール
   基、アリールオキシ基、アルキル基またはアルコキシ基
   を表わし、 ｍが０または１ないし４の数を表わし、 ｎが０または１ないし３の数を表わし、 ｐが０、１または２を表わし、 遊離カルボニル基は互いにオルト位となるように結合し
   、そしてＲ＾６は少なくとも１個のアルキル基またはア
   ルアルキル基により置換された２価の芳香族基を表わす
   ）で表わされる反復構造要素を有する芳香族アミノジカ
   ルボン酸の構造要素を有するホモポリイミドまたはコポ
   リイミドからなることを特徴とする特許請求の範囲第１
   項記載の被覆材料。
7. （７）使用される光構造性ネガ作用熱安定性接着剤ｂ）
   が ｂ１）有機溶媒に溶解性であり、所望により有機発色ポ
   リアジドと配合されて存在する光架橋性ポリイミド；及
   び／または ｂ２）光架橋性ポリアミド酸またはそのエステル；及び
   ／または ｂ３）光架橋性有機ポリシルセスキオキサン；及び／ま
   たは ｂ４）光架橋性ポリアミド−イミド；及び／または ｂ５）光架橋性エポキシ系：及び／または ｂ６）フリーラジカル重合を受けることができるエチレ
   ン性不飽和基を有する化合物を含有する光架橋性系から
   なる群より選ばれる化合物または化合物の混合物である
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の被覆材料
   。
8. （８）使用される光構造性ネガ作用熱安定性接着剤ｂ１
   ）が特許請求の範囲第２項ないし第６項に記載したポリ
   イミドまたはポリイミドの混合物の溶液であることを特
   徴とする特許請求の範囲第７項記載の被覆材料。
9. （９）使用される光構造性ネガ作用熱安定性接着剤ｂ）
   が、本質的に、少なくとも１種の芳香族テトラカルボン
   酸と少なくとも１種のジアミンとから誘導され、本質的
   に、少なくとも一種の次式II： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） で表わされる構造要素０．１ないし１００モル％及び少
   なくとも１種の次式III及び／またはIV： ▲数式、化学式、表等があります▼（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） で表わされる構造要素９９．９ないし０％〔式II、III
   、IV中、Ｚ＿１は少なくとも１種の次式Ｖ、VI、VIIま
   たはVIII： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ）▲数式、化学
   式、表等があります▼（VI） ▲数式、化学式、表等があります▼（VII）▲数式、化
   学式、表等があります▼（VIII） ｛式中、遊離価は互いにオルト位となるように結合し、
   Ｙ′は直接の結合、−ＣＨ＿２−、−（ＣＨ＿２）＿２
   −、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ＿２−、−ＣＯ
   −、−ＮＢ＾ｖ−または−ＣＲ＾ｖＲ＾ｗ−（式中、Ｒ
   ＾ｖは水素原子、炭素原子数１ないし１０のアルキル基
   、フェニル基、ナフチル基またはフェニル（ＣｅＨ＿２
   ＿ｅ）−基（基中、ｅは１ないし４を表わす）を表わし
   、Ｒ＾ｗはＲ＾ｖと同様に定義され、ただし水素原子は
   表わさない）で表わされる基を表わし、Ｒ＾ｘは炭素原
   子数１ないし１０のアルキル基、ハロゲン原子、−ＣＮ
   、−ＮＯ＿２、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基
   、フェノキシ基、ナフトキシ基またはフェニル−（Ｃｅ
   Ｈ＿２＿ｅ）−（基中、ｅは１ないし４を表わす）で表
   わされる基を表わし、ｎ′は０、１または２を表わす｝
   で表わされる四価の基を表わし、 Ｘ＿１は未置換もしくは置換された複素環式基、脂環式
   基または芳香脂肪族基、２つの芳香環が脂肪族基で結合
   された芳香族基、または少なくとも１個のアルキル基、
   シクロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル
   基、アルキルチオ基、アルキルチオアルキル基、ヒドロ
   キシアルキル基、ヒドロキシアルコキシ基、ヒドロキシ
   アルキルチオ基、アルアルキル基で置換された芳香族基
   、または芳香環の隣接した２つの炭素原子がアルキレン
   基で置換された芳香族基を表わし、 Ｑ＿１が３価の芳香族基を表わし、 Ｚ＿１′がＺ＿１と同様に定義されるか、Ｚ＿１とは異
   なる４価の有機の基を表わし、そして Ｘ＿１′がＸ＿１とは異なる有機ジアミンの２価の基を
   表わし、 式IVの構造要素が存在する場合には式II中のＺ＿１は４
   価のベンゾフェノン基を表わすこともできる〕を有する
   ホモポリマーまたはコポリマーからなるポリイミドから
   なることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の被覆
   材料。
10. （１０）光構造性熱安定性接着剤ｂ）が、所望により存
    在しうる慣用の添加剤と共に、 ａ）有機溶媒に溶解性であり、少なくとも、個の脂肪族
    基が、直接または橋かけ基を介して少なくとも１部分の
    テトラカルボン酸基、芳香族ジアミン基もしくはそれら
    の両方、及び／または少なくとも１部分の脂肪族の橋か
    け基としてアルキレン、アルキリデン、シクロアルキリ
    デン基またはＳｉ（アルキル）＿２基を含有する上記の
    基に結合している、芳香族テトラカルボン酸と芳香族ジ
    アミン、または芳香族及び脂肪族ジアミンとのホモポリ
    イミドもしくはコポリイミド、及び ｂ）ポリイミド成分に対して少なくとも０．１重量％の
    、アジド基が直接もしくはＳＯ＿２基を介して芳香族炭
    化水素基に結合している少なくとも１種の有機発色ポリ
    アジドを含有する混合物であることを特徴とする特許請
    求の範囲第１項記載の被覆材料。
11. （１１）ホモポリイミドまたはコポリイミドが本質的に
    ５０ないし１００モル％の次式ＸVII及び／またはＸVI
    II： ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸVII）、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸVIII） で表わされる反復構造要素及び５０ないし０モル％の次
    ＸIX： ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸIX） で表わされる反復構造要素〔式ＸVII、ＸVIII、ＸIX中
    、４つのカルボニル基は異なる炭素原子に結合し、２つ
    のカルボニル基は互いにオルト位またはペリ位となるよ
    うに結合し、 Ｚ＿２は少なくとも１個の芳香環を有する４価の残基を
    表わし、 Ｚ＿２′は次式： ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
    式、表等があります▼▲数式、化学式、表等があります
    ▼ で表わされ、芳香族、アルキル芳香族、脂肪族、脂環式
    、及び複素環式基、その組合わせ並びに酸素−、イオウ
    −、窒素−、シリコンもしくはリン含有橋かけ基を有す
    る基から選択され、異なってもよい有機の二価の基を表
    わし、 Ｒ＾１＾７及びＲ＾１＾８は各々独立に炭素原子数１な
    いし４のアルキル基を表わし、 Ｒ＾１＾９、Ｒ＾２＾０、Ｒ＾２＾２、Ｒ＾２＾３及び
    Ｒ＾２＾４は各々独立に水素原子または炭素原子数１な
    いし４のアルキル基を表わし、そして Ｒ＾２＾５は直接の結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ＿２
    、−ＣＯ−、−ＣＨ＿２−、−Ｃ（ＣＦ＿３）＿２−、
    ５ないし６個の環構成炭素原子を有するシクロアルキリ
    デン基、フェニレン基、次式： ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる基、次式：▲数式、化学式、表等がありま
    す▼（式中、 Ｒ＿２＿６及びＲ＿２＿７は各々炭素原子数１ないし６
    のアルキル基またはアルコキシ基、フェニル基、ベンジ
    ル基、フェニルオキシ基またはベンジルオキシ基を表わ
    す）で表わされる基を表わす〕を含有することを特徴と
    する特許請求の範囲第１０項記載の被覆材料。
12. （１２）完全に硬化した状態の接着剤層の厚さが５μｍ
    以下であり、使用される光構造性ネガ作用熱安定性接着
    剤が次式にＸＸＸ I ： ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸＸＸ I ） （式中、Ｒ＾５＾０及びＲ＾５＾１は各々独立に１価の
    炭化水素基を表わし、ｕは３０より大きい整数を表わす
    ）で表わされる有機ポリシルセスキオサンであることを
    特徴とする特許請求の範囲第７項記載の被覆材料。
13. （１３）光構造性ネガ作用熱安定性接着剤ｂ４）が少な
    くとも１種の次式ＸII： ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸII） で表わされる反復構造要素を有するベンゾフェノントリ
    カルボン酸残基を有するポリアミド−イミド基からなる
    直鎖飽和ホモポリ縮合物またはコポリ縮合物であり、コ
    ポリ縮合物の場合にはさらに次式ＸIII及び／またはＸ
    IV：▲数式、化学式、表等があります▼（ＸIII） ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸIV） で表わされる反復構造要素を有し、 （式ＸII、ＸIII、ＸIV中、式ＸIIの構造要素中のイミ
    ド基は２つの隣り合った炭素原子に結合しており、 ｍ＿４は０または１ないし４の数を表わし、ｎ＿３は０
    または１ないし３の数を表わし、Ｘ＿２は−Ｓ−、−Ｏ
    −または−ＮＲ＾１＾５−を表わし、Ｙ＿１はＸ＿２と
    独立して同じように定義され、Ｒ＾９は炭素原子数が６
    より小さいアルキル基またはアルコキシ基、炭素原子数
    ６ない１０のアリール基、炭素原子数７ないし１０のア
    ルアルキル基またはハロゲン原子を表わし、Ｒ＾１＾２
    は未置換または置換された２価の脂肪族基、脂環式基、
    芳香脂肪族基または芳香族基を表わし、そして Ｘ＿２とＹ＿１が基−ＮＲ＾１＾５−を表わす場合、Ｒ
    ＾１＾２及びＲ＾１＾５の１つは１緒になって第２の−
    ＮＲ−＾１＾５−が結合する炭素原子数５ないし７のア
    ルキレン基を表わすか、またはＲ＾１＾２はメチレン、
    エナレンまたはプロピレン基を表わし、ＮＲ＾１＾５基
    の２つのＲ＾１＾５が一緒になってエチレンまたはプロ
    ピレン基を表わすか、またはＸ＿２またはＹ＿１の一方
    が−Ｓ−または−Ｏ−を表わし、他方の−ＮＲ＾１＾５
    −が、Ｒ＾１＾２及びＲ＾１＾５と一緒になって基−Ｏ
    −または−Ｓ−が結合する炭素原子数５ないし７のアル
    キレン基を表わし、 Ｒ＾１＾０は未置換または置換された２価の脂肪族また
    は芳香族炭化水素基を表わし、 Ｒ＾１＾４はＲ＾１＾０と独立して同じように定義され
    、Ｒ＾１＾１は２価の飽和脂肪族または芳香族基を表わ
    し、 Ｒ＾１＾３はイミド基が２個の隣り合った炭素原子に結
    合した３価の飽和脂肪族もしくは芳香族基を表わし、 Ｒ＾１＾５は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基
    、アリール基、アルアルキル基またはアルカルアルキル
    基を表わす）、 ポリ縮合物がコポリ縮合物に対して少なくとも１０モル
    ％の量の式ＸIIの構造要素を有することを特徴とする特
    許請求の範囲第７項記載の被覆材料。
14. （１４）光構造性ネガ作用熱安定性接着剤ｂ５）が光架
    橋性エポキシ樹脂または （ａ）少なくとも１個の１，２−エポキシド基を有する
    芳香族、脂環式または芳香脂肪族化合物 （ｂ）少なくとも１種の、所望により光促進剤を配合し
    たエポキシ樹脂の光架橋に適する光開始剤、及び所望に
    より （ｃ）少なくとも１種の潜熱硬化剤として有用な芳香族
    、脂環式または芳香脂肪族化合物 を含有する上記樹脂混合物からなることを特徴とする特
    許請求の範囲第７項記載の被覆材料。
15. （１５）光開始剤（ｂ）が次式ＸＸＸIII： ▲数式、化学式、表等があります▼ＸＸＸIII （式中、Ｒ＾４＾１とＲ＾４＾２が各々独立に炭素原子
    数６ないし２０の炭素環式もしくは複素環式芳香族基を
    表わすか、またはＲ＾４＾１とＲ＾４＾２は一緒になっ
    て２価の炭素環式もしくは複素環式芳香族基を表わし、
    Ｘａはハロゲン原子を表わし、ｍ＿４はＬ＿２及びｑ＿
    ４の価数の合計に等しい数を表わし、Ｌ＿２は２価ない
    し７価の金属または非金属を表わし、そしてＱ＾ａはハ
    ロゲン原子を表わし、そしてｑ＿４は１ないし３の数を
    表わす）で表わされるハロニウム塩であることを特徴と
    する特許請求の範囲第１４項記載の被覆材料。
16. （１６）光開始剤（ｂ）が次式ＸＸＸIV： ▲数式、化学式、表等があります▼ＸＸＸIV （式中、Ｒ＾４＾３及びＲ＾４＾４は炭素原子数６ない
    し２０の炭素環式もしくは複素環式芳香族基を表わし、
    ｍ＿５はＬ＿３の価数とｑ＿５の価数の合計に等しい数
    を表わし、Ｌ＿３は２価ないし７価の金属または非金属
    原子を表わし、そしてＱ＾ｂはハロゲン原子を表わし、
    ｑ＿５は、ないし３の数を表わす）で表わされるヨード
    シル塩であることを特徴とする特許請求の範囲第１４項
    記載の被覆材料。
17. （１７）使用する光開始剤が次式ＸＸＸＶ：▲数式、化
    学式、表等があります▼ＸＸＸＶ （式中、Ｒ＾４＾５、Ｒ＾４＾６及びＲ＾４＾７は各々
    独立に炭素原子数６ないし２０の炭素環式または複素環
    式芳香族基を表わすか、またはＲ＾４＾５、Ｒ＾４＾６
    及びＲ＾４＾７の１つが上記の芳香族基を表わし、他の
    ２つが一緒になって２価の炭素環式または複素環式芳香
    族基を表わし、ｍ＿６はＬ＿４の価とｑ＿６の価の合計
    に等しい数を表わし、Ｌ＿４は２価ないし７価の金属ま
    たは非金属原子を表わし、そしてＱ＾ｃはハロゲン原子
    を表わし、そしてｑ＿６は１ないし３の数を表わす）で
    表わされるスルホニウム塩であることを特徴とする特許
    請求の範囲第１４項記載の被覆材料。
18. （１８）光開始剤（ｂ）が I ）有効量の次式ＸＸVIII： ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸＸVIII） （式中、Ｙ＿３はアレーン基またはジエニリウム基を表
    わし、Ｑはチタニウム、バナジウム、クロミウム、マン
    ガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、ニオビウム、モリ
    ブデン、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、タン
    タル、タングステン、レニウム、オスミウム、イリジウ
    ム、白金及び金から選ばれる遷移金属の原子を表わし、
    ａ＿１はＱ原子が完全な電子設配位を有するような正の
    整数を表わし、Ｍは金属もしくは非金属原子を表わし、
    ｎ＿１は４、５または６であり、且つＭの原子価より１
    だけ大きく、Ｘ＿４はフッ素または塩素原子を表わし、
    ただしＭがアンチモンを表わすときｎ＿１は６を表わし
    、Ｘ＿４のうち５つがフッ素原子を表わし、１つが水酸
    基を表わすこともできる）で表わされる塩；または II）有効量の次式ＸＸIX： ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸＸIX） （式中、ａ＿２は１または２を表わし、ｎ＿２及びｑ＿
    ２は各々独立に１ないし３の整数を表わし、Ｍｅは周期
    表の第IVｂないしVIIｂ属、第VIII属または第 I ｂ属か
    ら選ばれる１価ないし３価の金属のカチオンを表わし、
    ｍ＿２はＬの価数とｑ＿２との合計に等しい整数を示し
    、Ｑ′はハロゲン原子を表わし、Ｌは２価ないし７価の
    金属または非金属を表わし、Ｒ＾４＾８はｘ−アレーン
    を表わし、そしてＲ＾４＾９はｘ−アレーンまたはｘ−
    アレーンの陰イオンを表わす）で表わされる塩であるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第１４項記載の被覆材料
    。
19. （１９）光開始剤（ｂ）が少なくとも１種の次式ＸＸＸ
    ： ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸＸＸ） （式中、 ａ＿３が１または２を表わし、 ｑ＿３が１、２または３を表わし、 Ｌ＿１が２価ないし７価の金属または非金属を表わし、 Ｑ″がハロゲン原子を表わし、 ｍ＿３がＬ＿１の価数とｑ＿３の合計に等しい整数を表
    わし、 Ｒ＾３＾２がｘ−アレーンを表わし、 Ｒ＾３＾３がｘ−アレーンの陰イオンを表わす）で表わ
    される鉄化合物であり、好ましくは式ＸＸＸの化合物を
    少なくとも１種の酸化剤のような電子受容体と共に、及
    び／または所望により式ＸＸＸの化合物の為の光増感剤
    と共に使用することを特徴とする特許請求の範囲第１８
    項記載の被覆材料。
20. （２０）接着剤ｂ５）がビスフェノールジグリンジルエ
    ーテルをベースとし、遊離のエポキシ基の他に、次式： ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼または ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる光架橋性基を、ビスフェノールの芳香環の
    間の橋として、ビスフェノール単位当たり少なくとも１
    ０モル％の量で含有する光架橋性、さらになお熱硬化性
    であるエポキシ樹脂であることを特徴とする特許請求の
    範囲第７項記載の被覆材料。
21. （２１）接着剤ｂ５）が Ａ）ａ）フリーラジカル重合することができ、沸点が大
    気圧下で１００Ｃ以上である少なくとも１種のエチレン
    性不飽和化合物 ｂ）照射によりフリーラジカルと形成する少なくとも１
    種の有機、無機または有機金属光開始剤、及び ｃ）ポリマー結合剤 を含む混合物；または Ｂ）ａ）少なくとも１個の中間にあるエポキシ基及び／
    または少なくとも１種の次式 ＸＸＸII ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸＸＸII） （式中、Ｒ＾３＾４及びＲ＾３＾６が各々水素原子を表
    わすときＲ＾３＾５が水素原子またはメチル基を表わす
    か、またはＲ＾３＾４及びＲ＾３＾６が一緒になって−
    ＣＨ＿２−ＣＨ＿２を表わすときＲ＾３＾５は水素原子
    を表わす）で表わされる直接末端の酸素原子または窒素
    原子に結合する構造要素だけでなく、少なくとも１個の
    エチレン系不飽和２重結合をも分子内に有する化合物ま
    たは化合物の混合物、 ｂ）照射によりフリーラジカルを形成する少なくとも１
    種の光開始剤、及び ｃ）所望によりポリマー結合剤及び／または１，２−エ
    ポキシ樹脂に対する熱活性化重合結合剤及び／またはエ
    ポキシ重合に対する光増感剤または光開始剤を含む混合
    物；または Ｃ）ａ）少なくとも１個の平均的なエポキシ基及び／ま
    たは少なくとも１個の上記式 ＸＸＸIIで表わされる基、 ｂ）フリーラジカル重合しうる化合物、 及び所望により ｃ）エポキシ樹脂の熱活性硬化剤 を含む混合物 からなる群より選ばれるフリーラジカル重合しうるエチ
    レン系不飽和基を有する化合物の群から選ばれる混合物
    からなることを特徴とする特許請求の範囲第７項記載の
    被覆材料。
22. （２２）基材ａ）が散乱性表面を有し、接着剤層ｂ）が
    輻射線−吸収添加剤を基材表面で横方向に散乱した光が
    接着剤層ｂ）及びポリイミド層ｃ）に浸入しないような
    量で含有することを特徴とする特許請求の範囲第１項記
    載の被覆材料。
23. （２３）ｉ）基材表面に光構造性ネガ作用熱安定性接着
    剤を塗布し、所望により溶媒を蒸発させる工程、 ｉｉ）自立光構造性ポリイミドフィルムを接着剤塗布表
    面に、所望により圧力及び／または熱を加えることによ
    り適用する工程、 ｉｉｉ）ポリイミドフィルムまたは基材の横から化学線
    の配列により、画像を形成する暴露を行なう工程、及び ｉｖ）ポリイミドフィルム及び接着フィルムの両方の未
    暴露部分を除去するために、適当な現像液で系を現像す
    る工程 からなる写真平版法によるレリーフ画像の製造方法。
24. （２４）ｉ）基材表面に光構造性ネガ作用熱安定性接着
    剤及び自立光架橋性ポリイミドフィルムからなる２層系
    を、接着剤側を基材側として、所望により圧力及び／ま
    たは熱を加えることにより塗布する工程、 ｉｉ）ポリイミドフィルムまたは基材の横から化学線の
    配列により、画像を形成する暴露を行なう工程、及び ｉｉｉ）ポリイミドフィルム及び接着フィルムの両方の
    未暴露部分を除去するために、適当な現像液で系を現像
    する工程 からなる写真平版法によるレリーフ画像の製造方法。
25. （２５）ｉ）基材表面に光構造性ネガ作用熱安定性接着
    剤を塗布し、所望により溶媒を蒸発させる工程、 ｉｉ）自立光構造性ポリイミドフィルムを接着剤塗布表
    面に、所望により圧力及び／または熱を加えることによ
    り適用する工程、 ｉｉｉ）ポリイミドフィルムまたは基材の横から化学線
    の配列により、画像を形成する暴露を行なう工程、及び ｉｖ）ポリイミドフィルム及び接着フィルムの両方の未
    暴露部分を除去するために、適当な現像液で系を現像す
    る工程 からなる写真平版法によるレリーフ画像の製造方法によ
    り製造されるレリーフ画像。
26. （２６）ｉ）基材表面に光構造性ネガ作用熱安定性接着
    剤及び自立光架橋性ポリイミドフィルムからなる２層系
    を、接着剤側を基材側として、所望により圧力及び／ま
    たは熱を加えることにより塗布する工程、 ｉｉ）ポリイミドフィルムまたは基材の横から化学線の
    配列により、画像を形成する暴露を行なう工程、及び ｉｉｉ）ポリイミドフィルム及び接着フィルムの両方の
    未暴露部分を除去するために、適当な現像液で系を現像
    する工程 からなる写真平版法によるレリーフ画像の製造方法によ
    り製造されたレリーフ画像。
27. （２７）保護、絶縁及び不動態化層としての、誘電体と
    しての、はんだ付けマスクとしての、または離散もしく
    は集積半導体、ハイブリッド回路、印刷板もしくは多層
    板の中間シートとしての ｉ）基材表面に光構造性ネガ作用熱安定性接着剤を塗布
    し、所望により溶媒を蒸発させる工程、 ｉｉ）自立光構造性ポリイミドフィルムを接着剤塗布表
    面に、所望により圧力及び／または熱を加えることによ
    り適用する工程、 ｉｉｉ）ポリイミドフィルムまたは基材の横から化学線
    の配列により、画像を形成する暴露を行なう工程、及び ｉｖ）ポリイミドフィルム及び接着フィルムの両方の未
    暴露分を除去するために、適当な現像液で系を現像する
    工程 からなる写真平版法によるレリーフ画像の製造方法によ
    り製造されたレリーフ画像の使用法。
28. （２８）保護、絶縁及び受動層としての、誘電体として
    の、はんだ付けマスクとしての、または離散もしくは集
    積半導体、ハイブリッド回路、印刷板もしくは多層板の
    中間シートとしての、 ｉ）基材表面に光構造性ネガ作用熱安定性接着剤及び自
    立光架橋性ポリイミドフィルムからなる２層系を、接着
    剤側を基材側として、所望により圧力及び／または熱を
    加えることにより塗布する工程、 ｉｉ）ポリイミドフィルムまたは基材の横から化学線の
    配列により、画像を形成する暴露を行なう工程、及び ｉｉｉ）ポリイミドフィルム及び接着フィルムの両方の
    未暴露部分を除去するために、適当な現像液で系を現像
    する工程 からなる写真平版法によるレリーフ画像の製造方法によ
    り製造されたレリーフ画像の使用法。