JPS6254922A - レジスト塗布装置 - Google Patents
レジスト塗布装置Info
- Publication number
- JPS6254922A JPS6254922A JP19640685A JP19640685A JPS6254922A JP S6254922 A JPS6254922 A JP S6254922A JP 19640685 A JP19640685 A JP 19640685A JP 19640685 A JP19640685 A JP 19640685A JP S6254922 A JPS6254922 A JP S6254922A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- resist
- coating
- frame
- force
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、半導体製造装置に係り、％に半導体製造工
程におけるＶ：）スト塗布を均一に行う・ようにしたレ
ジスト塗布装置に関するものである。
程におけるＶ：）スト塗布を均一に行う・ようにしたレ
ジスト塗布装置に関するものである。
第３図は従来の半導体製造装置の模式断面図であり、半
導体試料（以下単に試料という）１を載置するための試
料台４を有し、試料１表面上のレジスト２に表面に遠心
力３を発生させるための回転５を与える七−夕６を備え
たものである。
導体試料（以下単に試料という）１を載置するための試
料台４を有し、試料１表面上のレジスト２に表面に遠心
力３を発生させるための回転５を与える七−夕６を備え
たものである。
従来の半導体製造装置では第３図に示すように、そ−夕
６で試料１か載ｉＭされた試料台４に矢印で示す回転５
を与えることにより、試料１上のＶジス）２に試料１表
面に対し平行な遠心力３を発生させ、レジスト２を引き
伸ばし均一に塗布し、不要な／ジス）Ｙ除去していた。
６で試料１か載ｉＭされた試料台４に矢印で示す回転５
を与えることにより、試料１上のＶジス）２に試料１表
面に対し平行な遠心力３を発生させ、レジスト２を引き
伸ばし均一に塗布し、不要な／ジス）Ｙ除去していた。
上記のような従来の半導体製造装置では、試料１表面忙
塗布されたレジスト２には表面に対し平行方向に力が作
用し、さらに回転５の中心より遠ざかるにつれ作用する
力は大きくなる。このため、試料１表面に段差がある場
合、フジスト２！塗布する作用よりも、不要なンジスト
ヲ除去する作用が強く働いてしまい、レジスト２の被覆
の悪い部分、すなわち均一に塗布されない欠点を有［、
ていた。
塗布されたレジスト２には表面に対し平行方向に力が作
用し、さらに回転５の中心より遠ざかるにつれ作用する
力は大きくなる。このため、試料１表面に段差がある場
合、フジスト２！塗布する作用よりも、不要なンジスト
ヲ除去する作用が強く働いてしまい、レジスト２の被覆
の悪い部分、すなわち均一に塗布されない欠点を有［、
ていた。
この発明は、上記のような問題点を解決するためになさ
れたもので、表面にＩ！ｉ、差のある試料においてもレ
ジストを完全に複重できることを目的とする。
れたもので、表面にＩ！ｉ、差のある試料においてもレ
ジストを完全に複重できることを目的とする。
この発明に係るレジスト塗布装置は、試料を固着後、そ
の試料表面の７ジストに対し試料表面に垂直方向に力を
作用せしめる手段を具備したものである、 〔作用〕 この発明においては、試料表面に対し、垂直方向に力が
加わり、かつ試料表面全面に対し均一に力が加わるよう
になる。これＫよりレジストは試料に押え付けられ、不
要な７ジストを除去する作用より押え付ける作用の方が
強く働くため、表面に段差のある試料表面でも均一な塗
布が可能となり。
の試料表面の７ジストに対し試料表面に垂直方向に力を
作用せしめる手段を具備したものである、 〔作用〕 この発明においては、試料表面に対し、垂直方向に力が
加わり、かつ試料表面全面に対し均一に力が加わるよう
になる。これＫよりレジストは試料に押え付けられ、不
要な７ジストを除去する作用より押え付ける作用の方が
強く働くため、表面に段差のある試料表面でも均一な塗
布が可能となり。
被覆性は良好になる、
〔実施例〕
第１図はこの発明の一実施例を示すレジスト塗布装置の
概略図で、試料台４ｙ！ｌ−内部に有する外枠７と、こ
の外枠１を高速回転させるモータ６とを有するものであ
る。なお、第１図で、試料台４は略図で示しであるが、
この底面は外枠７の内面に固定し易いように円弧面とす
るか、外枠Ｔの内面多面柱状にするのがよ℃・Ｃまた外
枠７の左側面は蓋をした状態を示しているか、盃は必ず
しも必安ではない。
概略図で、試料台４ｙ！ｌ−内部に有する外枠７と、こ
の外枠１を高速回転させるモータ６とを有するものであ
る。なお、第１図で、試料台４は略図で示しであるが、
この底面は外枠７の内面に固定し易いように円弧面とす
るか、外枠Ｔの内面多面柱状にするのがよ℃・Ｃまた外
枠７の左側面は蓋をした状態を示しているか、盃は必ず
しも必安ではない。
上記のようＶＣ構成された半導体製造装置のレジスト塗
布装（ａは、内部の試料台４上に試料１を取り付け、こ
の上にレジス）２Ｙ第２図のように塗り、外枠７をモー
タ６で、高速回転させることにより、試料台４に吸着さ
れた試料１表面に対し第２図に示すように、垂直方向に
遠心力３を発生させる。この遠心力３Ｖｃより試料１表
面のレジスト２は均一に試料ＩＫ押え付けられ、試料１
表面に段差のある場合においてもレジスト２は均一に塗
布され、その被覆性は良好となる。
布装（ａは、内部の試料台４上に試料１を取り付け、こ
の上にレジス）２Ｙ第２図のように塗り、外枠７をモー
タ６で、高速回転させることにより、試料台４に吸着さ
れた試料１表面に対し第２図に示すように、垂直方向に
遠心力３を発生させる。この遠心力３Ｖｃより試料１表
面のレジスト２は均一に試料ＩＫ押え付けられ、試料１
表面に段差のある場合においてもレジスト２は均一に塗
布され、その被覆性は良好となる。
なお、試料１表面に垂直な方向に力を作用させる手段は
、上記実施例の他に、レジス）２ｔｔ帯電させ試料１上
に塗布し、そのレジスト２の電荷と同種の電荷に帯電し
た平板を対向させ、その反発力によりレジスト２を試料
１に押え付ける方法などのように試料１表面に垂直方向
に力を発生′：８せ、レジスト２を塗布するようにして
もよ〜・、〔発明の効果〕 この発明は以上説明したとおり、試料表面上にレジスト
を塗布する際、＠記試料表面に対して画直な方向に刀を
作用させる手段を具備したので、試料表面に段差のある
試料においても均一なレジストが塗布で季、その被覆性
が向上する効果がある、
、上記実施例の他に、レジス）２ｔｔ帯電させ試料１上
に塗布し、そのレジスト２の電荷と同種の電荷に帯電し
た平板を対向させ、その反発力によりレジスト２を試料
１に押え付ける方法などのように試料１表面に垂直方向
に力を発生′：８せ、レジスト２を塗布するようにして
もよ〜・、〔発明の効果〕 この発明は以上説明したとおり、試料表面上にレジスト
を塗布する際、＠記試料表面に対して画直な方向に刀を
作用させる手段を具備したので、試料表面に段差のある
試料においても均一なレジストが塗布で季、その被覆性
が向上する効果がある、
第１図はこの発明の一実施例を示す模式断面図、第２図
はこの発明によりレジストヶ塗布する際の力の方向を示
す模式図、第３図は従来法により試料上のレジスｌ−４
かかる力の方向を示す模式図である。 図において、１は半導体試料、２はレジスト、３は遠心
力、４は試料台、５は回転、６はモータ、７は外枠であ
る。 なお、各図中の同一符号は同一まＫは相当部分ン示す。 代理人 大 岩 増 雄 （外２名）第１図 ４試爵台 第３図 手続補正書（自発） 昭和６１年６月１６ 日
はこの発明によりレジストヶ塗布する際の力の方向を示
す模式図、第３図は従来法により試料上のレジスｌ−４
かかる力の方向を示す模式図である。 図において、１は半導体試料、２はレジスト、３は遠心
力、４は試料台、５は回転、６はモータ、７は外枠であ
る。 なお、各図中の同一符号は同一まＫは相当部分ン示す。 代理人 大 岩 増 雄 （外２名）第１図 ４試爵台 第３図 手続補正書（自発） 昭和６１年６月１６ 日
Claims (1)
- 半導体試料表面にレジストを塗布する装置において、
前記試料表面に前記レジストを塗布する際、前記試料表
面に対して垂直な方向に力を作用させる手段を具備した
ことを特徴とするレジスト塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19640685A JPS6254922A (ja) | 1985-09-03 | 1985-09-03 | レジスト塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19640685A JPS6254922A (ja) | 1985-09-03 | 1985-09-03 | レジスト塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6254922A true JPS6254922A (ja) | 1987-03-10 |
Family
ID=16357329
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19640685A Pending JPS6254922A (ja) | 1985-09-03 | 1985-09-03 | レジスト塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6254922A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06118415A (ja) * | 1992-10-05 | 1994-04-28 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 薄膜平坦化方法および装置 |
| KR20150011526A (ko) * | 2013-07-23 | 2015-02-02 | 주식회사 엘지화학 | 변형된 스핀코팅 장치 및 이를 이용한 스핀코팅 방법 |
-
1985
- 1985-09-03 JP JP19640685A patent/JPS6254922A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06118415A (ja) * | 1992-10-05 | 1994-04-28 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 薄膜平坦化方法および装置 |
| KR20150011526A (ko) * | 2013-07-23 | 2015-02-02 | 주식회사 엘지화학 | 변형된 스핀코팅 장치 및 이를 이용한 스핀코팅 방법 |
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