JPS6254794B2 - - Google Patents
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- JPS6254794B2 JPS6254794B2 JP15120783A JP15120783A JPS6254794B2 JP S6254794 B2 JPS6254794 B2 JP S6254794B2 JP 15120783 A JP15120783 A JP 15120783A JP 15120783 A JP15120783 A JP 15120783A JP S6254794 B2 JPS6254794 B2 JP S6254794B2
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Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規かつ有用なメチルシクロポリシ
ロキサン化合物を提供するものである。
ロキサン化合物を提供するものである。
すなわち、本発明は一般式
ｎは１〜４の整数、ｍは４または５、たゞしｎ
が４のときｍは５ で示される文献未記載の新規メチルシクロポリシ
ロキサン化合物に関する。
が４のときｍは５ で示される文献未記載の新規メチルシクロポリシ
ロキサン化合物に関する。
つぎに、本発明のメチルシクロポリシロキサン
化合物の具体例をあげる。ただし、以下の記載で
Meはメチル基を示す。
化合物の具体例をあげる。ただし、以下の記載で
Meはメチル基を示す。
上記式においてＸが下記のいずれかであるメチ
ルシクロポリシロキサンが具体的にあげられる。
ルシクロポリシロキサンが具体的にあげられる。
Ｘ：イソプロペニルオキシ基
Ｘ：１−イソブチニルオキシ基
Ｘ：１−メチル−１−プロペニルオキシ基
Ｘ：１・４−ジメチル−１・３−ペンタジエチル
オキシ基 このようなメチルシクロポリシロキサン化合物
は、例えば式 で示されるテトラメチルシクロポリシロキサンを
出発原料として合成することができ、たとえばｌ
が４のときのその合成経路は以下に説明するとお
り３段階で行われる。
オキシ基 このようなメチルシクロポリシロキサン化合物
は、例えば式 で示されるテトラメチルシクロポリシロキサンを
出発原料として合成することができ、たとえばｌ
が４のときのその合成経路は以下に説明するとお
り３段階で行われる。
(a) テトラメチルシクロテトラシロキサン１モル
に対し、１・１・１・３・３−ペンタメチル−
３−ヒドロキシジシロキサン1.8モルを添加
し、これらを触媒としてのジエチルヒドロキシ
アミンを約0.025モル用いて脱水素縮合反応さ
せると、下記の２種類の化合物が主として生成
される。
に対し、１・１・１・３・３−ペンタメチル−
３−ヒドロキシジシロキサン1.8モルを添加
し、これらを触媒としてのジエチルヒドロキシ
アミンを約0.025モル用いて脱水素縮合反応さ
せると、下記の２種類の化合物が主として生成
される。
(b) つぎに四塩化炭素中で上記生成物に塩素を反
応させる（脱塩化水素反応）と、それらH4P2
またはH4P1のSi−Ｈ結合がSi−Cl結合に置換し
た化合物が得られる。
応させる（脱塩化水素反応）と、それらH4P2
またはH4P1のSi−Ｈ結合がSi−Cl結合に置換し
た化合物が得られる。
(c‐1) 上記H4P2Clの１モルに対し、アセトン27モ
ル、ジメチルホルムアミド4.3モル、トリエ
チルアミン2.6モル、触媒としての塩化第一
銅２ｇを仕込み、60℃（反応系リフラツクス
状態）で10時間反応させることにより下記目
的化合物が得られる。
ル、ジメチルホルムアミド4.3モル、トリエ
チルアミン2.6モル、触媒としての塩化第一
銅２ｇを仕込み、60℃（反応系リフラツクス
状態）で10時間反応させることにより下記目
的化合物が得られる。
(c‐2) H4P1Clのプロペノキシ化もH4P2Clと同様に
行われ、下記目的化合物が得られる。ただし
トリエチルアミンはH4P1Cl1モルに対し3.9モ
ル必要とする。
行われ、下記目的化合物が得られる。ただし
トリエチルアミンはH4P1Cl1モルに対し3.9モ
ル必要とする。
本発明のメチルシクロポリシロキサン化合物
は、シリコーンゴムの主原料とされる分子鎖両末
端水酸基封鎖ジオルガノポリシロキサンの架橋剤
として有用とされ、例えば低分子量の上記シロキ
サンの生ゴム化（二官能の架橋剤を用いて）、シ
ーリング材料、コーテイング材料、電気絶縁材
料、エラストマーの製造などに広く応用すること
ができる。
は、シリコーンゴムの主原料とされる分子鎖両末
端水酸基封鎖ジオルガノポリシロキサンの架橋剤
として有用とされ、例えば低分子量の上記シロキ
サンの生ゴム化（二官能の架橋剤を用いて）、シ
ーリング材料、コーテイング材料、電気絶縁材
料、エラストマーの製造などに広く応用すること
ができる。
またこのメチルシクロポリシロキサン化合物を
架橋剤として配合してなる硬化性シリコーンゴム
組成物は、大気中での硬化時に毒性または腐食性
をもつ悪臭ガスは放出せず、しかも室温下での硬
化特性にすぐれた“１液型”または“２液型”の
室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物を提供
する。
架橋剤として配合してなる硬化性シリコーンゴム
組成物は、大気中での硬化時に毒性または腐食性
をもつ悪臭ガスは放出せず、しかも室温下での硬
化特性にすぐれた“１液型”または“２液型”の
室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物を提供
する。
つぎに具体的実施例をあげる。
実施例
反応器に、テトラメチルシクロテトラシロキサ
ン（H4）を240ｇ（１モル）、溶媒であるテトラヒ
ドロフランをH4と等量の240ｇ仕込む。そして触
媒であるジエチルヒドロキシルアミン2.5ｇを室
温（15〜20℃）（脱水素）で滴下し、ついで１・
１・１・３・３−ペンタメチル−３−ヒドロキシ
ジシロキサン295ｇ（1.8モル）を室温に保ちなが
らゆつくり滴下して４〜５時間脱水素反応させ、
反応終了後蒸留操作を行なつて108℃（17mmHg）
で式 で示されるシクロシロキサン72ｇ（収率18％）
を、また110℃（２mmHg）で式 で示されるシクロシロキサン237ｇ（収率42％）
を得た。
ン（H4）を240ｇ（１モル）、溶媒であるテトラヒ
ドロフランをH4と等量の240ｇ仕込む。そして触
媒であるジエチルヒドロキシルアミン2.5ｇを室
温（15〜20℃）（脱水素）で滴下し、ついで１・
１・１・３・３−ペンタメチル−３−ヒドロキシ
ジシロキサン295ｇ（1.8モル）を室温に保ちなが
らゆつくり滴下して４〜５時間脱水素反応させ、
反応終了後蒸留操作を行なつて108℃（17mmHg）
で式 で示されるシクロシロキサン72ｇ（収率18％）
を、また110℃（２mmHg）で式 で示されるシクロシロキサン237ｇ（収率42％）
を得た。
〔H4P2の塩素化〕
反応器にH4P2を564ｇ（１モル）と四塩化炭素
を等量（632ｇ）仕込み、反応温度を30℃以下
（氷冷）に保ちながら２モルの塩素ガスを250c.c.／
分の割合で約３時間かけて吹込み反応させた（脱
HCl反応、反応触媒として少量のドライ空気を塩
素ガスに同伴させた）。反応終了後四塩化炭素を
ストリツプしH4P2Clを得た。このものは無色透
明な液体であり収量は450ｇ（収率93％）であつ
た。
を等量（632ｇ）仕込み、反応温度を30℃以下
（氷冷）に保ちながら２モルの塩素ガスを250c.c.／
分の割合で約３時間かけて吹込み反応させた（脱
HCl反応、反応触媒として少量のドライ空気を塩
素ガスに同伴させた）。反応終了後四塩化炭素を
ストリツプしH4P2Clを得た。このものは無色透
明な液体であり収量は450ｇ（収率93％）であつ
た。
〔H4P1の塩素化〕
上記H4P2の場合と同様にして、H4P1を402ｇ
（１モル）、四塩化炭素を等量（402ｇ）、塩素ガス
を３モル約５時間かけて吹込み反応させた。収率
95％でH4P1Clが得られた。
（１モル）、四塩化炭素を等量（402ｇ）、塩素ガス
を３モル約５時間かけて吹込み反応させた。収率
95％でH4P1Clが得られた。
〔H4P2CIへのイソプロペニルオキシ基の導入〕
反応器に、アセトン1566ｇ（27モル）、ジメチ
ルホルムアミド314ｇ（4.3モル）、トリエチルア
ミン263ｇ（2.6モル）、塩化第一銅２ｇを仕込み
10分間かくはんした。この系に脱水剤としてトリ
メチルクロロシランを32.7ｇ（0.3モル）滴下し
たのち、50〜55℃に加温し、これにH4P2Clを632
ｇ（１モル）滴下し、60℃の温度（リフラツクス
状態）で８時間反応させた。
ルホルムアミド314ｇ（4.3モル）、トリエチルア
ミン263ｇ（2.6モル）、塩化第一銅２ｇを仕込み
10分間かくはんした。この系に脱水剤としてトリ
メチルクロロシランを32.7ｇ（0.3モル）滴下し
たのち、50〜55℃に加温し、これにH4P2Clを632
ｇ（１モル）滴下し、60℃の温度（リフラツクス
状態）で８時間反応させた。
反応終了後トリエチルアミン塩酸塩をろ過し、
60℃で減圧（50mmHg）ストリツプしてアセト
ン、トリエチルアミンを除去後、蒸留操作を行つ
たところ、水銀柱３mmHg、塔頂温度154℃で無色
透明液が420ｇ得られた（収率62％）。
60℃で減圧（50mmHg）ストリツプしてアセト
ン、トリエチルアミンを除去後、蒸留操作を行つ
たところ、水銀柱３mmHg、塔頂温度154℃で無色
透明液が420ｇ得られた（収率62％）。
この生成物は下記分析結果から前記した（）
式に相当する化合物であることが確認された。
式に相当する化合物であることが確認された。
元素分析：
Ｃ Ｈ Si
計算値（％） 35.4 7.8 32.2
分析値（％） 34.7 7.7 32.6
分子量測定値：677ガスマススペクトル分析
屈折率：1.4094（25℃）
比重：1.002（25℃）
赤外線吸収スペクトル：第１図に示すとおり
〔H4P1Clへのイソプロペニルオキシ基の導入〕
反応器に、アセトン1566ｇ（27モル）、ジメチ
ルホルムアミド313ｇ（4.3モル）、トリエチルア
ミン374ｇ（3.9モル）、塩化第一銅２ｇを仕込み
10分間かくはんした。この系に脱水剤としてトリ
メチルクロロシランを32.7ｇ（0.3モル）滴下し
たのち、50〜55℃に加温し、これにH4P1Clを506
ｇ（１モル）滴下し、60℃の温度（リフラツクス
状態）で８時間反応させた。
ルホルムアミド313ｇ（4.3モル）、トリエチルア
ミン374ｇ（3.9モル）、塩化第一銅２ｇを仕込み
10分間かくはんした。この系に脱水剤としてトリ
メチルクロロシランを32.7ｇ（0.3モル）滴下し
たのち、50〜55℃に加温し、これにH4P1Clを506
ｇ（１モル）滴下し、60℃の温度（リフラツクス
状態）で８時間反応させた。
反応終了後トリエチルアミン塩酸塩をろ過し、
60℃で減圧（50mmHg）ストリツプしてアセト
ン、トリエチルアミンを除去後、蒸留操作を行つ
たところ、水銀柱２mmHg、塔頂温度105℃で無色
透明液が331ｇ得られた（収率58％）。
60℃で減圧（50mmHg）ストリツプしてアセト
ン、トリエチルアミンを除去後、蒸留操作を行つ
たところ、水銀柱２mmHg、塔頂温度105℃で無色
透明液が331ｇ得られた（収率58％）。
この生成物は下記分析結果から前記した（）
式に相当する化合物であることが確認された。
式に相当する化合物であることが確認された。
元素分析：
Ｃ Ｈ Si
計算値（％） 37.8 7.4 19.0
分析値（％） 37.2 6.9 19.3
分子量測定値：571ガスマススペクトル分析
屈折率：1.4112（25℃）
比重：1.005（25℃）
赤外線吸収スペクトル：第２図に示すとおり
第１図および第２図はそれぞれ実施例で合成し
たメチルシクロテトラシロキサン化合物の赤外線
吸収スペクトル分析図を示したものである。
たメチルシクロテトラシロキサン化合物の赤外線
吸収スペクトル分析図を示したものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 で示されるメチルシクロポリシロキサン。 〔上記式中、ｎは１〜４の整数、ｍは４または
５、ただしｎが４のときｍは５〕
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15120783A JPS6042389A (ja) | 1983-08-19 | 1983-08-19 | メチルシクロポリシロキサン |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15120783A JPS6042389A (ja) | 1983-08-19 | 1983-08-19 | メチルシクロポリシロキサン |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6042389A JPS6042389A (ja) | 1985-03-06 |
| JPS6254794B2 true JPS6254794B2 (ja) | 1987-11-17 |
Family
ID=15513573
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15120783A Granted JPS6042389A (ja) | 1983-08-19 | 1983-08-19 | メチルシクロポリシロキサン |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6042389A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4891822B2 (ja) * | 2007-03-29 | 2012-03-07 | 日本工営株式会社 | 流出土砂計測枡、及び流出土砂計測装置 |
| JP5776634B2 (ja) * | 2011-07-06 | 2015-09-09 | 信越化学工業株式会社 | 無水コハク酸基含有環状オルガノシロキサン、その製造方法、オルガノシロキサン組成物及び熱硬化性樹脂組成物 |
-
1983
- 1983-08-19 JP JP15120783A patent/JPS6042389A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6042389A (ja) | 1985-03-06 |
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