JPS6253992A - ヒドロキシメチルセフエム化合物の製法 - Google Patents
ヒドロキシメチルセフエム化合物の製法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/02—Preparation
- C07D501/04—Preparation from compounds already containing the ring or condensed ring systems, e.g. by dehydrogenation of the ring, by introduction, elimination or modification of substituents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
- C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
- C07D501/20—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
- C07D501/24—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
- C07D501/26—Methylene radicals, substituted by oxygen atoms; Lactones thereof with the 2-carboxyl group
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
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- C07D501/20—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
- C07D501/57—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with a further substituent in position 7, e.g. cephamycines
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は7α位にメトキシ基を有していてもよい7β
−アシルアミノセフアロスポラン酸に低級アルカノール
中アルカリ金属水酸化物水溶液を作用させて7α位にメ
トキシ基を有していてもよい7β−アシルアミノ−3−
ヒドロキシメチル−3−セフエム−4−カルボン酸また
はそのアルカリ金属塩を製造する方法に関する。
−アシルアミノセフアロスポラン酸に低級アルカノール
中アルカリ金属水酸化物水溶液を作用させて7α位にメ
トキシ基を有していてもよい7β−アシルアミノ−3−
ヒドロキシメチル−3−セフエム−4−カルボン酸また
はそのアルカリ金属塩を製造する方法に関する。
ここに、7位のアシル基は脂肪族、脂環式、芳香族など
の系列に属するカルボン酸のアシル基であって、天然ま
たは合成ペニシリン、セファロスポリンのアミド側鎖を
構成するアシル基は、すべてこのアシル基に含まれるも
のとする。
の系列に属するカルボン酸のアシル基であって、天然ま
たは合成ペニシリン、セファロスポリンのアミド側鎖を
構成するアシル基は、すべてこのアシル基に含まれるも
のとする。
代表的なアシル基には次のようなものがある。
1) R”CH2C0−
2) RI’OCR,C0−
3) RIO5CH,C0−
(式中、R16は脂肪族基、芳香族基、異項環基、脂環
基を、 R1は置換されていてもよいヒドロキシ基、アミノ基、
カルボキシ基、スルホ基、メルカプト基、シアノ基など
、 R11はオキソ基、チオキソ基、イミノ基、ヒドロキシ
イミノ基、置換基を有していてもよいアルコキシイミノ
基、アルキリデン基など、R′1は水素、芳香族基また
は異項環基を示す)R+aで表わきれる脂肪族基には、
置換基を有していてもよいアルキル基、アルケニル基、
アルキニル基を含み、芳香族基には置換基を有していて
もよいフェニル基、ナフチル基などを含み、異項環基に
はへテロ原子として窒素4個までと酸素原子、硫黄原子
を有していてもよい五員環または六員環の単環または双
環の異項環を含み、詣環基には四員環〜六員環の二重結
合1または2を有していてもよく、置換基を有していて
もよいシクロアルキル基を含む。
基を、 R1は置換されていてもよいヒドロキシ基、アミノ基、
カルボキシ基、スルホ基、メルカプト基、シアノ基など
、 R11はオキソ基、チオキソ基、イミノ基、ヒドロキシ
イミノ基、置換基を有していてもよいアルコキシイミノ
基、アルキリデン基など、R′1は水素、芳香族基また
は異項環基を示す)R+aで表わきれる脂肪族基には、
置換基を有していてもよいアルキル基、アルケニル基、
アルキニル基を含み、芳香族基には置換基を有していて
もよいフェニル基、ナフチル基などを含み、異項環基に
はへテロ原子として窒素4個までと酸素原子、硫黄原子
を有していてもよい五員環または六員環の単環または双
環の異項環を含み、詣環基には四員環〜六員環の二重結
合1または2を有していてもよく、置換基を有していて
もよいシクロアルキル基を含む。
R1で表わされる基が保護されている場合、合成工程中
または生体内における不都合な変化を防ぐことを目的と
するものと、生理学的ないし薬学的性状を変化させるこ
とを目的とするものがある。
または生体内における不都合な変化を防ぐことを目的と
するものと、生理学的ないし薬学的性状を変化させるこ
とを目的とするものがある。
前者の代表例としてはアルキルまたは異項環(t−ブチ
ル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロフラニルなど
)、アルケニル(エノールエーテル、エナミンなどを形
成する基)、アルキル化またはアルコキシ化きれたシリ
ル、スタニルなど;アラルキル(メトキシベンジル、ト
リチル、ジフェニルメチル、フェナシルなど)、置換基
を有していてもよいアシル(アルカノイル、アルケノイ
ル、アロイル、炭酸アシル類など);R目がカルボキシ
であるときは置換基を有していてもよいアルキル、アラ
ルキル、アリールなどのエステル基やアミドなどであっ
て、分子中の他の部分に悪影響なく除去できるものがあ
る。
ル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロフラニルなど
)、アルケニル(エノールエーテル、エナミンなどを形
成する基)、アルキル化またはアルコキシ化きれたシリ
ル、スタニルなど;アラルキル(メトキシベンジル、ト
リチル、ジフェニルメチル、フェナシルなど)、置換基
を有していてもよいアシル(アルカノイル、アルケノイ
ル、アロイル、炭酸アシル類など);R目がカルボキシ
であるときは置換基を有していてもよいアルキル、アラ
ルキル、アリールなどのエステル基やアミドなどであっ
て、分子中の他の部分に悪影響なく除去できるものがあ
る。
後者の代表例としては(R11がヒドロキシの場合)ス
ルホ、アミン基に置換きれていてもよいカルバモイルま
たはスルファモイル キシまたはカルボアラルコキシ、シアノ、置換基を有し
ていてもよいアルカノイル ル、アロイル、異項環カルボニルであって、いずれも単
環または双環であってもよい。(R11がアミノの場合
)アルキルスルホニルまたはアルキル化されたオキソイ
ミダゾリジニル、ジケトピペラジニルやアルキル化され
たウレイド、チオウレイドなどと結合したカルボニル基
などがある。
ルホ、アミン基に置換きれていてもよいカルバモイルま
たはスルファモイル キシまたはカルボアラルコキシ、シアノ、置換基を有し
ていてもよいアルカノイル ル、アロイル、異項環カルボニルであって、いずれも単
環または双環であってもよい。(R11がアミノの場合
)アルキルスルホニルまたはアルキル化されたオキソイ
ミダゾリジニル、ジケトピペラジニルやアルキル化され
たウレイド、チオウレイドなどと結合したカルボニル基
などがある。
(R”がカルボキシまたはスルホの場合)生体内で適当
に除去される形の保護基が、いわゆる生理学的活性エス
テルなどとして利用されることもある。
に除去される形の保護基が、いわゆる生理学的活性エス
テルなどとして利用されることもある。
R12で表わされる基が置換基を有していてもよいアル
コキシイミノ基であるとき、その置換基としてはカルボ
キシ、エステル化またはアミド化されたカルボキシ、ヒ
ドロキシアルキル、アルコキシなどがあり、いずれも飽
和または不飽和の鎖状または環状であってもよい.R目
がアルキリデン基である時も、同様な置換基を有してい
てもよい。
コキシイミノ基であるとき、その置換基としてはカルボ
キシ、エステル化またはアミド化されたカルボキシ、ヒ
ドロキシアルキル、アルコキシなどがあり、いずれも飽
和または不飽和の鎖状または環状であってもよい.R目
がアルキリデン基である時も、同様な置換基を有してい
てもよい。
R′3で表わされる基はいずれも置換基を有していても
よい単環または双環のアリール基、異項環またはそれら
の縮合環であって、第二の環は芳香環でなくてもよい。
よい単環または双環のアリール基、異項環またはそれら
の縮合環であって、第二の環は芳香環でなくてもよい。
これらR′6〜R13基は、いずれも置換基を有してい
てもよいが、それらの代表的なものは、炭素官能基(ア
ミン基、ヒドロキシ基、オキソ基、カルボキシ基などの
置換分を有していてもよい直鎖、分枝または環状のアル
キル基、アシル基、アラルキル基、アリール基、異項環
基、カルバモイル基、カルボキシ基、シアノ基など)、
窒素官能基(アミノ基、アシルアミノ基、グアニジル基
、ウレイド基、アルキルアミノ基、アラルキルアミノ基
、インチオシアノ基、イソシアノ基、ニトロ基、ニトロ
ソ基など)、酸素官能基(ヒドロキシ基、アルコキシ基
、アラルコキシ基、アリールオキシ基、異項環オキシ基
、オキソ基、シアナト基、アシルオキシ基など)および
対応する硫黄官能基、スルホ、スルファモイルなど;ハ
ロゲン;置換シリルまたはスタニルなどである。
てもよいが、それらの代表的なものは、炭素官能基(ア
ミン基、ヒドロキシ基、オキソ基、カルボキシ基などの
置換分を有していてもよい直鎖、分枝または環状のアル
キル基、アシル基、アラルキル基、アリール基、異項環
基、カルバモイル基、カルボキシ基、シアノ基など)、
窒素官能基(アミノ基、アシルアミノ基、グアニジル基
、ウレイド基、アルキルアミノ基、アラルキルアミノ基
、インチオシアノ基、イソシアノ基、ニトロ基、ニトロ
ソ基など)、酸素官能基(ヒドロキシ基、アルコキシ基
、アラルコキシ基、アリールオキシ基、異項環オキシ基
、オキソ基、シアナト基、アシルオキシ基など)および
対応する硫黄官能基、スルホ、スルファモイルなど;ハ
ロゲン;置換シリルまたはスタニルなどである。
前記のアシル基は、目的抗菌性化合物においては、通常
炭素数20以下が好ましい。
炭素数20以下が好ましい。
前記アリール部分は、単環または双環の異項環であって
もよく、また前記のような置換基を有していてもよい五
〜六環のアリール基である。
もよく、また前記のような置換基を有していてもよい五
〜六環のアリール基である。
異項環基の代表例としては、フリル、チェニル、ピロリ
ル、オキサゾリノ呟チアゾリル、イミダゾリル、オキサ
ジアゾリル、チアジアゾリル、トリアゾリル、チアトリ
アゾリル、テトラゾリル、ピリジル、キノリノ呟 ピ
リドピリジル基などである。
ル、オキサゾリノ呟チアゾリル、イミダゾリル、オキサ
ジアゾリル、チアジアゾリル、トリアゾリル、チアトリ
アゾリル、テトラゾリル、ピリジル、キノリノ呟 ピ
リドピリジル基などである。
前記アルキル部分は不飽和であってもよく、直鎖、分枝
、または環状であってもよい。
、または環状であってもよい。
この発明の目的化合物は塩基性反応条件ではベータラク
タム開裂を起こしくジャーナル・才ブ・メデイシナルケ
ミストリー、第17巻、1312頁、1974年)、ま
た酸性後処理条件下に3−メチロール基と4−カルボキ
シ基が実際上不可逆的にラクトン化するため、工業的生
産は困難であった。そのため、従来、大量製造にはベル
ギー特許第671692号、米国特許第3459746
号など酵素を用いる方法が用いられてきた。しかし、酵
素法には繁雑な操作が必要である。7β位置換基がアミ
ン基の場合は苛性アルカリ金属を用いる特開昭58−9
9486、ハンガリー特許出願TO33155などが知
られていたが、アシルアミノ基の場合は文献記載が見当
らない。
タム開裂を起こしくジャーナル・才ブ・メデイシナルケ
ミストリー、第17巻、1312頁、1974年)、ま
た酸性後処理条件下に3−メチロール基と4−カルボキ
シ基が実際上不可逆的にラクトン化するため、工業的生
産は困難であった。そのため、従来、大量製造にはベル
ギー特許第671692号、米国特許第3459746
号など酵素を用いる方法が用いられてきた。しかし、酵
素法には繁雑な操作が必要である。7β位置換基がアミ
ン基の場合は苛性アルカリ金属を用いる特開昭58−9
9486、ハンガリー特許出願TO33155などが知
られていたが、アシルアミノ基の場合は文献記載が見当
らない。
本発明者は偶然、7α位にメトキシ基を有していてもよ
い7β−アシルアミノセフアロスポラン酸を低級アルカ
ノール中水酸化アルカリ金属水溶液で処理したところ、
対応する3−ヒドロキシメチル−3−セフエム−4−カ
ルボン酸が高収率で生成することを発見し、この発明を
完成した。
い7β−アシルアミノセフアロスポラン酸を低級アルカ
ノール中水酸化アルカリ金属水溶液で処理したところ、
対応する3−ヒドロキシメチル−3−セフエム−4−カ
ルボン酸が高収率で生成することを発見し、この発明を
完成した。
この発明によれば、7α位にメトキシ基を有していても
よい7β−アシルアミノセフアロスポラン酸に低級アル
カノール中アルカリ金属水酸化物水溶液を作用させて7
α位にメトキシ基を有していてもよい7β−アシルアミ
ノ−3−ヒドロキシメチル−3−セフエム−4−カルボ
ン酸またはそのアルカリ金属塩を高収率で製造する。
よい7β−アシルアミノセフアロスポラン酸に低級アル
カノール中アルカリ金属水酸化物水溶液を作用させて7
α位にメトキシ基を有していてもよい7β−アシルアミ
ノ−3−ヒドロキシメチル−3−セフエム−4−カルボ
ン酸またはそのアルカリ金属塩を高収率で製造する。
反応溶媒である低級アルカノールとしてはメタノール、
エタノール、プロパツール、ブタノール、イソブタノ;
ル、t−ブタノールなどが好適である。
エタノール、プロパツール、ブタノール、イソブタノ;
ル、t−ブタノールなどが好適である。
低級アルカノールと水酸化アルカリ金属水溶液中の水と
の比率は1:4〜4:1、特に1:3〜3:1が好まし
い。この範囲を超えると副産物が現れ、反応が遅延する
。
の比率は1:4〜4:1、特に1:3〜3:1が好まし
い。この範囲を超えると副産物が現れ、反応が遅延する
。
面記水酸化アルカリ金属としては、水酸化リチウム、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。水酸化ア
ルカリ金属は1モル当量が加水分解と生成するアセチル
イオンの中和に用いられ、出発ベータラクタムのカルボ
キシ基が遊離のときはこれを中和するため、さらに1モ
ル当量が必要である。
酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。水酸化ア
ルカリ金属は1モル当量が加水分解と生成するアセチル
イオンの中和に用いられ、出発ベータラクタムのカルボ
キシ基が遊離のときはこれを中和するため、さらに1モ
ル当量が必要である。
この反応条件下ではベータラクタムは開裂せず、後処理
でもラクトン化しない、また、この発明では文献記載と
異なり、アシル化に反応上の制約がない。
でもラクトン化しない、また、この発明では文献記載と
異なり、アシル化に反応上の制約がない。
本発明の好適条件では、7α位にメトキシ基を有してい
てもよい7β−アシルアミノセフアロスポラン酸を低級
アルカノール(セファロスポラン酸出発物質の3〜10
重量部。水酸化アルカリ金属水溶液中の水の1:3〜3
:1重量部)にとかし、これに水酸化アルカリ金属水溶
液(1〜8当量)を加え、−40〜40℃で5分間〜3
時間攪拌する6反応液を脱塩し、凍結乾燥すれば7α位
にメトキシ基を有していてもよい7β−アシルアミノ−
3−ヒドロキシメチル−3−セフエム−4−カルボン酸
ナトリウムを60〜95%の収率で製造できる。
てもよい7β−アシルアミノセフアロスポラン酸を低級
アルカノール(セファロスポラン酸出発物質の3〜10
重量部。水酸化アルカリ金属水溶液中の水の1:3〜3
:1重量部)にとかし、これに水酸化アルカリ金属水溶
液(1〜8当量)を加え、−40〜40℃で5分間〜3
時間攪拌する6反応液を脱塩し、凍結乾燥すれば7α位
にメトキシ基を有していてもよい7β−アシルアミノ−
3−ヒドロキシメチル−3−セフエム−4−カルボン酸
ナトリウムを60〜95%の収率で製造できる。
また、前記反応液をラクトン化しないよう、低温下(好
ましくは一10〜5℃)で攪拌しつつ、好ましくは鉱酸
で徐々に中和すれば遊離カルボン酸を好収率で製造でき
る。
ましくは一10〜5℃)で攪拌しつつ、好ましくは鉱酸
で徐々に中和すれば遊離カルボン酸を好収率で製造でき
る。
反応溶媒には不活性極性溶媒(エーテル、ケトン系工業
溶媒など)を加えることもできる。
溶媒など)を加えることもできる。
目的とする7α位にメトキシ基を有していてもよい7β
−アシルアミノ−3−ヒドロキシメチル−3−セフエム
−4−カルボン酸またはそのアルカリ金属塩はセファロ
スポリン抗生物質などの原料として有用である。
−アシルアミノ−3−ヒドロキシメチル−3−セフエム
−4−カルボン酸またはそのアルカリ金属塩はセファロ
スポリン抗生物質などの原料として有用である。
反応溶媒にはエーテル(ジオキサン、テトラヒドロフラ
ンなど)、ケトン(アセトン、シクロヘキサノンなど)
、ニトリル(アセトニトリルなど)、アミド(ホルムア
ミド、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルホスホロト
リアミドなど)、スルホキシド(ジメチルスルホキシド
など)、有機塩基(ジエチルアミン、トリエチルアミン
など)、アルコール(メタノーノ呟エタノール、プロハ
ノール、ヘキサノール、オクタツール、ベンジルアルコ
ールなど)、その他の系列に属する工業用溶媒またはそ
の混合物を添加できる。
ンなど)、ケトン(アセトン、シクロヘキサノンなど)
、ニトリル(アセトニトリルなど)、アミド(ホルムア
ミド、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルホスホロト
リアミドなど)、スルホキシド(ジメチルスルホキシド
など)、有機塩基(ジエチルアミン、トリエチルアミン
など)、アルコール(メタノーノ呟エタノール、プロハ
ノール、ヘキサノール、オクタツール、ベンジルアルコ
ールなど)、その他の系列に属する工業用溶媒またはそ
の混合物を添加できる。
目的とする生成物は反応液から夾雑物(未反応原料、副
生成物、溶媒など)を常法(抽出、洗浄、濃縮、沈殿、
口過、乾燥など)により除去後、常用の後処理(吸着、
溶離、沈殿、析出など)により処理すれば単離できる。
生成物、溶媒など)を常法(抽出、洗浄、濃縮、沈殿、
口過、乾燥など)により除去後、常用の後処理(吸着、
溶離、沈殿、析出など)により処理すれば単離できる。
以下に実施例を示し本発明の詳細な説明する。
生成物の物理定数は、表にまとめて記載した0表中、I
RはCm−’値を、NMRはS値(化学シフト)をpp
mで、J値(結合定数)をHzで示す。
RはCm−’値を、NMRはS値(化学シフト)をpp
mで、J値(結合定数)をHzで示す。
実施例中、量を表わす部は原料β−ラクタム1重量部に
対する重量の割合を、モル当量数は原料β−ラクタム1
モルに対するモル数を示す。
対する重量の割合を、モル当量数は原料β−ラクタム1
モルに対するモル数を示す。
(略号) Ac=アセチル。
(以下余白)
各実施例の反応は下式で表わきれる。
実施例1(RICO−ホルミル、R2=水素)原料セフ
ァロスポラン酸(1)をメタノール4.3部にとかし、
−10℃でIN−水酸化ナトリウム水1当量を加えて1
0分間、更にIN−水酸化ナトリウム水1当量を加えて
20分間かきまぜる。
ァロスポラン酸(1)をメタノール4.3部にとかし、
−10℃でIN−水酸化ナトリウム水1当量を加えて1
0分間、更にIN−水酸化ナトリウム水1当量を加えて
20分間かきまぜる。
反応液に水17部を加え、減圧濃縮する。残留水溶液を
スデレンージビニルベンゼン共重合体合成吸着剤(三菱
化成部製・ダイヤイオンHP20)75部のカラムを通
し、生成物を吸着許せた後、水で溶出する分画を凍結乾
燥すれば7β−ホルムアミド−3−ヒドロキシメチル−
3−セフエム−4−カルボン酸ナトリウム(2)0.6
1部を得る。
スデレンージビニルベンゼン共重合体合成吸着剤(三菱
化成部製・ダイヤイオンHP20)75部のカラムを通
し、生成物を吸着許せた後、水で溶出する分画を凍結乾
燥すれば7β−ホルムアミド−3−ヒドロキシメチル−
3−セフエム−4−カルボン酸ナトリウム(2)0.6
1部を得る。
収率:65%。
実施例2(R’=ジフルオロメチルチオアセチル、R’
=OCH3) 原料セファロスポラン酸(1)をメタノール20部にと
かし、−20℃でIN−水酸化ナトリウム水2.5当量
を加えて−20〜−15°Cで40分間攪拌する。反応
液にIN塩酸1.5当量を加えて中和し、メタノールを
減圧濃縮する。残留水溶液をスチレン−ジビニルベンゼ
ン共重合体合成吸着剤(三菱化成■製・ダイヤイオンH
P20)88部のカラムを通して生成物を吸着させた後
、水で溶出する分画を凍結乾燥すれば7β−ジフルオロ
メチルチオアセトアミド−7α−メトキシ−3−ヒドロ
キシメチル−3−セフエム−4−カルボン酸ナトリウム
■の粉末0.83部を得る。収率:87%。
=OCH3) 原料セファロスポラン酸(1)をメタノール20部にと
かし、−20℃でIN−水酸化ナトリウム水2.5当量
を加えて−20〜−15°Cで40分間攪拌する。反応
液にIN塩酸1.5当量を加えて中和し、メタノールを
減圧濃縮する。残留水溶液をスチレン−ジビニルベンゼ
ン共重合体合成吸着剤(三菱化成■製・ダイヤイオンH
P20)88部のカラムを通して生成物を吸着させた後
、水で溶出する分画を凍結乾燥すれば7β−ジフルオロ
メチルチオアセトアミド−7α−メトキシ−3−ヒドロ
キシメチル−3−セフエム−4−カルボン酸ナトリウム
■の粉末0.83部を得る。収率:87%。
一方、反応液をIN−塩酸で注意深く加えて−2〜3に
調節し、酢酸エチルで数回抽出すれば粗製カルボン酸を
得る。収率:約60%6実施例3 (RICO−2−チ
ェニルアセチル、R2=水路) 原料セファロスポラン酸(1)をメタノール8.2部と
水6部の混液中に懸濁し、−10℃でIN−水酸化ナト
リウム水1.5当量を加えて30分間、更にIN−水酸
化ナトリウム水0.5当量を加えて30分間かきまぜる
。反応液にIN塩酸2部、飽和炭酸水素ナトリウム水1
0部および水20部を加え、減圧濃縮する。残留水溶液
をスチレン−ジビニルベンゼン共重合体合成吸着剤(三
菱化成■製・ダイヤイオンHP20)32部のカラムを
通して生成物を吸着させた後、水−メタノール(2:1
)混液で溶出する分画を凍結乾燥すれば7β−(2−チ
ェニル)アセトアミド−3−ヒドロキシメチル−3−セ
フエム−4−カルボン酸ナトリウム(2)0.74部を
得る。収率:83%。
調節し、酢酸エチルで数回抽出すれば粗製カルボン酸を
得る。収率:約60%6実施例3 (RICO−2−チ
ェニルアセチル、R2=水路) 原料セファロスポラン酸(1)をメタノール8.2部と
水6部の混液中に懸濁し、−10℃でIN−水酸化ナト
リウム水1.5当量を加えて30分間、更にIN−水酸
化ナトリウム水0.5当量を加えて30分間かきまぜる
。反応液にIN塩酸2部、飽和炭酸水素ナトリウム水1
0部および水20部を加え、減圧濃縮する。残留水溶液
をスチレン−ジビニルベンゼン共重合体合成吸着剤(三
菱化成■製・ダイヤイオンHP20)32部のカラムを
通して生成物を吸着させた後、水−メタノール(2:1
)混液で溶出する分画を凍結乾燥すれば7β−(2−チ
ェニル)アセトアミド−3−ヒドロキシメチル−3−セ
フエム−4−カルボン酸ナトリウム(2)0.74部を
得る。収率:83%。
原料セファロスポラン酸(1)をメタノール10部にと
かし、−15℃でIN−水酸化ナトリウム水5.7部を
加えて20分間攪拌する。反応液にIN塩酸を加えてp
H7とし、水20部を加え、減圧濃縮する。残留水溶液
をスチレン−ジビニルベンビン共重合体合成吸着剤(三
菱化成■製・ダイヤイオンHP20.)50部のカラム
を通して生成物を吸着させた後、水〜水−メタノール(
5:1)混液で溶出する分画を凍結乾燥すれば7β−[
2−(2−フリル)−2−メトキシイミノアセチルアミ
ノ]−3−ヒドロキシメチル−3−セフエム−4−カル
ボン酸ナトリウム(2)0.74部を得る。収率ニア8
%。
かし、−15℃でIN−水酸化ナトリウム水5.7部を
加えて20分間攪拌する。反応液にIN塩酸を加えてp
H7とし、水20部を加え、減圧濃縮する。残留水溶液
をスチレン−ジビニルベンビン共重合体合成吸着剤(三
菱化成■製・ダイヤイオンHP20.)50部のカラム
を通して生成物を吸着させた後、水〜水−メタノール(
5:1)混液で溶出する分画を凍結乾燥すれば7β−[
2−(2−フリル)−2−メトキシイミノアセチルアミ
ノ]−3−ヒドロキシメチル−3−セフエム−4−カル
ボン酸ナトリウム(2)0.74部を得る。収率ニア8
%。
原料セファロスポラン酸(1)をメタノール6.9部に
とかし、−10℃でIN−水酸化ナトリウム水1当量を
加えて1時間、更にIN−水酸化ナトリウム水1当量を
加えて10分間かきまぜる0反応液にIN塩酸2部、飽
和炭酸水素ナトリウム水10部および水30部を加え、
減圧濃縮する。残留水溶液をスチレン−ジビニルベンゼ
ン共重合体合成吸着剤(三菱化成■製・ダイヤイオンH
P20)45部のカラムを通して生成物を吸着させた後
、水−メタノール(2:1〜1:1)混液で溶出する分
画を凍結乾燥すれば7β−[2−(2−1−ブトキシカ
ルボニルアミノ−4−チアゾリル)−2−メトキシイミ
ノアセチアミノコ−3−ヒドロキシメチル−3−セフエ
ム−4−カルボン酸ナトリウム(2)0.67部を得る
。収率ニア0%。
とかし、−10℃でIN−水酸化ナトリウム水1当量を
加えて1時間、更にIN−水酸化ナトリウム水1当量を
加えて10分間かきまぜる0反応液にIN塩酸2部、飽
和炭酸水素ナトリウム水10部および水30部を加え、
減圧濃縮する。残留水溶液をスチレン−ジビニルベンゼ
ン共重合体合成吸着剤(三菱化成■製・ダイヤイオンH
P20)45部のカラムを通して生成物を吸着させた後
、水−メタノール(2:1〜1:1)混液で溶出する分
画を凍結乾燥すれば7β−[2−(2−1−ブトキシカ
ルボニルアミノ−4−チアゾリル)−2−メトキシイミ
ノアセチアミノコ−3−ヒドロキシメチル−3−セフエ
ム−4−カルボン酸ナトリウム(2)0.67部を得る
。収率ニア0%。
原料セファロスポラン酸(1)をメタノール7.5部に
とかし、−25℃でIN=水酸化ナトリウム水4.7部
(2,5当量)を加えて70分間攪拌する。反応液にI
N塩酸を加えてpH6,5とし、さらに水1.9部と酢
酸エチル7.5部を加え、減圧濃縮する。残留水溶液に
IN塩酸を加えてpH2,5とし、酢酸エチルで抽出す
る。抽出液を水洗、乾燥後、減圧濃縮すれば7β−[シ
ス−2−(2−t−ブトキシカルボニルアミノ−4−チ
アゾリル)−2−ブテノイルアミノコ−3−ヒドロキシ
メチル−3−セフエム−4−カルボン酸(り0.90部
を得る。収率:97%。
とかし、−25℃でIN=水酸化ナトリウム水4.7部
(2,5当量)を加えて70分間攪拌する。反応液にI
N塩酸を加えてpH6,5とし、さらに水1.9部と酢
酸エチル7.5部を加え、減圧濃縮する。残留水溶液に
IN塩酸を加えてpH2,5とし、酢酸エチルで抽出す
る。抽出液を水洗、乾燥後、減圧濃縮すれば7β−[シ
ス−2−(2−t−ブトキシカルボニルアミノ−4−チ
アゾリル)−2−ブテノイルアミノコ−3−ヒドロキシ
メチル−3−セフエム−4−カルボン酸(り0.90部
を得る。収率:97%。
原料セファロスポラン酸(1)をメタノール6.9部に
とかし、−15℃でIN=水酸水酸化ナトリウム水量当
量えて20分間、次にIN−水酸化ナトリウム水1当量
を加えて10分間、更にIN−水酸化ナトリウム水0゜
5当量を加えて30分間攪拌する。反応液にIN塩酸3
部、飽和炭酸水素ナトリウム水10部および水30部を
加え、減圧濃縮する。残留水溶液をスチレン−ジビニル
ベンゼン共重合体合成吸着剤(三菱化成部製・ダイヤイ
オンHP20)45部のカラムを通して生成物を吸着さ
せた後、水−メタノール(2:1〜1:1)混液で溶出
する分画を凍結乾燥すれば7β−[トランス−2−(2
−t−ブトキシカルボニルアミノ−4−チアゾリル)−
2−ブテンアミド]=3−ヒドロキシメチル−3−セフ
エム−4−カルボン酸ナトリウム(2)0.69部を得
る。収率ニア2%。
とかし、−15℃でIN=水酸水酸化ナトリウム水量当
量えて20分間、次にIN−水酸化ナトリウム水1当量
を加えて10分間、更にIN−水酸化ナトリウム水0゜
5当量を加えて30分間攪拌する。反応液にIN塩酸3
部、飽和炭酸水素ナトリウム水10部および水30部を
加え、減圧濃縮する。残留水溶液をスチレン−ジビニル
ベンゼン共重合体合成吸着剤(三菱化成部製・ダイヤイ
オンHP20)45部のカラムを通して生成物を吸着さ
せた後、水−メタノール(2:1〜1:1)混液で溶出
する分画を凍結乾燥すれば7β−[トランス−2−(2
−t−ブトキシカルボニルアミノ−4−チアゾリル)−
2−ブテンアミド]=3−ヒドロキシメチル−3−セフ
エム−4−カルボン酸ナトリウム(2)0.69部を得
る。収率ニア2%。
原料セファロスポラン酸(1)をメタノール6部にとか
し、−15℃でIN−水酸化ナトリウム水1.4部を加
えて5分間、次にIN−水酸化ナトリウム水2.2部を
加えて20分間攪拌する。反応液にIN塩酸を加えてp
H6とし、さらに水20部を加え、減圧濃縮する。残留
水溶液をスチレン−ジビニルベンゼン共重合体合成吸着
剤(三菱化成物部・ダイヤイオンHP20)40部のカ
ラムを通して生成物を吸着させた後、水−メタノール(
3:1〜2:1)混液で溶出する分画を凍結乾燥すれば
7β−[シス−2−(2−t−ブトキシカルボニルアミ
ノ− ンテンアミトコ−3−ヒドロキシメチル−3−セフエム
−4−カルボン酸ナトリウム(り0。65部を得る.収
率:67%。
し、−15℃でIN−水酸化ナトリウム水1.4部を加
えて5分間、次にIN−水酸化ナトリウム水2.2部を
加えて20分間攪拌する。反応液にIN塩酸を加えてp
H6とし、さらに水20部を加え、減圧濃縮する。残留
水溶液をスチレン−ジビニルベンゼン共重合体合成吸着
剤(三菱化成物部・ダイヤイオンHP20)40部のカ
ラムを通して生成物を吸着させた後、水−メタノール(
3:1〜2:1)混液で溶出する分画を凍結乾燥すれば
7β−[シス−2−(2−t−ブトキシカルボニルアミ
ノ− ンテンアミトコ−3−ヒドロキシメチル−3−セフエム
−4−カルボン酸ナトリウム(り0。65部を得る.収
率:67%。
実施例9(R’CO富シス−2−( 2−t−ブトキシ
原料セファロスポラン酸(1.1をメタノール9.8部
にとかし、−35℃でIN−水酸化ナトリウム水4.5
部を加え、100分間攪拌する。反応液にIN塩酸を加
えてpH7とし、析出する沈殿を濾取する。これを当量
の炭酸水素ナトリウム水にとかし、凍結乾燥すれば7β
−[シス−2−(2−t−ブトキシカルボニルアミノ− ル)’ー2ーヘキセノイルアミノ]−3−ヒドロキンメ
チル−3−セフエム−4−カルボン酸ナトリウム■0、
69部を得る.収率ニア0%。
原料セファロスポラン酸(1.1をメタノール9.8部
にとかし、−35℃でIN−水酸化ナトリウム水4.5
部を加え、100分間攪拌する。反応液にIN塩酸を加
えてpH7とし、析出する沈殿を濾取する。これを当量
の炭酸水素ナトリウム水にとかし、凍結乾燥すれば7β
−[シス−2−(2−t−ブトキシカルボニルアミノ− ル)’ー2ーヘキセノイルアミノ]−3−ヒドロキンメ
チル−3−セフエム−4−カルボン酸ナトリウム■0、
69部を得る.収率ニア0%。
原料セファロスポラン酸(1)をメタノール9.4部に
とかし、−35°CでIN−水酸化ナトリウム水4.5
部を加えて110分間攪拌する。反応液にIN塩酸を加
えてpH7とし、さらに炭酸水素ナトリウム水を加えて
pH9としたのち、有機溶媒を減圧留去する。残留水溶
液をスチレン−ジビニルベンゼン共重合体合成吸着剤(
三菱化成■製・ダイヤイオンHP20)のカラムを通し
て生成物を吸着許せた後、メタノール:水(1:5)混
液で溶出する分画を凍結乾燥すれば7β−[シス−2−
(2−t−ブトキシカルボニルアミノ−4−チアゾリル
)−4−メチル−2−ペンテノイルアミノコ−3−ヒド
ロキシメチル−3−セフエム−4−カルボン酸ナトリウ
ム00.61部を得る。収率:63%。
とかし、−35°CでIN−水酸化ナトリウム水4.5
部を加えて110分間攪拌する。反応液にIN塩酸を加
えてpH7とし、さらに炭酸水素ナトリウム水を加えて
pH9としたのち、有機溶媒を減圧留去する。残留水溶
液をスチレン−ジビニルベンゼン共重合体合成吸着剤(
三菱化成■製・ダイヤイオンHP20)のカラムを通し
て生成物を吸着許せた後、メタノール:水(1:5)混
液で溶出する分画を凍結乾燥すれば7β−[シス−2−
(2−t−ブトキシカルボニルアミノ−4−チアゾリル
)−4−メチル−2−ペンテノイルアミノコ−3−ヒド
ロキシメチル−3−セフエム−4−カルボン酸ナトリウ
ム00.61部を得る。収率:63%。
原料セファロスポラン酸(1)をメタノール8.3部に
とかし、−20〜−25℃でIN−水酸化ナトリウム水
4.2部(2.5当量)を加えて60分間攪拌する。反
応液にIN塩酸を加えてpH7とし、有機溶媒を減圧濃
縮する。残留水溶液にIN塩酸を加えてpH2.6とし
、酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗、減圧濃縮する
。残渣を炭酸水素ナトリウム(1当量)含有水10部に
溶かし、凍結乾燥すれば7β−[シス−2−(2−t−
ブトキシカルボニルアミノ−4−チアゾリル)−4−シ
クロペンチル−2−ブテノイルアミノコ−3−ヒドロキ
シメチル−3−セフエム−4−力ルボン酸ナトリウム(
2)0.90部を得る。収率:91%。
とかし、−20〜−25℃でIN−水酸化ナトリウム水
4.2部(2.5当量)を加えて60分間攪拌する。反
応液にIN塩酸を加えてpH7とし、有機溶媒を減圧濃
縮する。残留水溶液にIN塩酸を加えてpH2.6とし
、酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗、減圧濃縮する
。残渣を炭酸水素ナトリウム(1当量)含有水10部に
溶かし、凍結乾燥すれば7β−[シス−2−(2−t−
ブトキシカルボニルアミノ−4−チアゾリル)−4−シ
クロペンチル−2−ブテノイルアミノコ−3−ヒドロキ
シメチル−3−セフエム−4−力ルボン酸ナトリウム(
2)0.90部を得る。収率:91%。
り
原料セファロスポラン酸(1)をメタノール10部にと
かし、−40℃でIN−水酸化ナトリウム水5部(2.
5当量)を加えて一25℃で40分間攪拌する。反応液
に4N塩酸を加えてpH6〜7とし、半量まで減圧濃縮
する.残留水溶液をエーテルで洗い、スチレン−ジビニ
ルベンゼン共重合体合成吸着剤(三菱化成部製・ダイヤ
イオンHP20)10部のカラムを通して生成物を吸着
させた後、メタノール:水(3:10〜4:1)混液で
溶出する分画を凍結乾燥すれば7β−口2−(2−ベン
ジルオキシカルボニルアミノ−4−チアゾリル)−4−
第三級ブトキシ力ルポニル−2−ブテノイルアミノコ−
3−ヒドロキシメチル−3−セフエム−4−カルボン酸
(クシス異性体およびトランス異性体の混合物0.46
部を得る。収率:49%。
かし、−40℃でIN−水酸化ナトリウム水5部(2.
5当量)を加えて一25℃で40分間攪拌する。反応液
に4N塩酸を加えてpH6〜7とし、半量まで減圧濃縮
する.残留水溶液をエーテルで洗い、スチレン−ジビニ
ルベンゼン共重合体合成吸着剤(三菱化成部製・ダイヤ
イオンHP20)10部のカラムを通して生成物を吸着
させた後、メタノール:水(3:10〜4:1)混液で
溶出する分画を凍結乾燥すれば7β−口2−(2−ベン
ジルオキシカルボニルアミノ−4−チアゾリル)−4−
第三級ブトキシ力ルポニル−2−ブテノイルアミノコ−
3−ヒドロキシメチル−3−セフエム−4−カルボン酸
(クシス異性体およびトランス異性体の混合物0.46
部を得る。収率:49%。
(以下余白)
Claims (1)
- 7α位にメトキシ基を有していてもよい7β−アシルア
ミノセフアロスポラン酸に低級アルカノール中、アルカ
リ金属水酸化物水溶液を作用させることを特徴とする7
α位にメトキシ基を有していてもよい7β−アシルアミ
ノ−3−ヒドロキシメチル−3−セフエム−4−カルボ
ン酸またはそのアルカリ金属塩の製法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11862585 | 1985-05-30 | ||
JP60-118625 | 1985-05-30 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6253992A true JPS6253992A (ja) | 1987-03-09 |
Family
ID=14741161
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61125326A Pending JPS6253992A (ja) | 1985-05-30 | 1986-05-29 | ヒドロキシメチルセフエム化合物の製法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0204517A3 (ja) |
JP (1) | JPS6253992A (ja) |
KR (1) | KR930004013B1 (ja) |
AU (1) | AU579469B2 (ja) |
ES (1) | ES8706695A1 (ja) |
GB (1) | GB2188046B (ja) |
IE (1) | IE58372B1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004083217A1 (en) * | 2003-03-20 | 2004-09-30 | Orchid Chemicals & Pharmaceuticals Ltd | An improved process for the preparation of cefoxitin |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1576625A (en) * | 1976-04-12 | 1980-10-08 | Fujisawa Pharmaceutical Co | Syn isomer 3,7 disubstituted 3 cephem 4 carboxylic acid compounds and processes for the preparation thereof |
-
1986
- 1986-05-15 AU AU57487/86A patent/AU579469B2/en not_active Ceased
- 1986-05-29 ES ES555439A patent/ES8706695A1/es not_active Expired
- 1986-05-29 EP EP86304089A patent/EP0204517A3/en not_active Withdrawn
- 1986-05-29 JP JP61125326A patent/JPS6253992A/ja active Pending
- 1986-05-29 GB GB8613042A patent/GB2188046B/en not_active Expired
- 1986-05-29 IE IE143086A patent/IE58372B1/en not_active IP Right Cessation
- 1986-05-29 KR KR1019860004237A patent/KR930004013B1/ko not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0204517A2 (en) | 1986-12-10 |
IE58372B1 (en) | 1993-09-08 |
GB8613042D0 (en) | 1986-07-02 |
IE861430L (en) | 1986-11-30 |
ES8706695A1 (es) | 1987-07-01 |
GB2188046B (en) | 1989-04-05 |
KR860009020A (ko) | 1986-12-19 |
AU579469B2 (en) | 1988-11-24 |
KR930004013B1 (ko) | 1993-05-19 |
ES555439A0 (es) | 1987-07-01 |
GB2188046A (en) | 1987-09-23 |
EP0204517A3 (en) | 1988-06-29 |
AU5748786A (en) | 1986-12-04 |
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