JPS6252505A - 有機結晶を用いた光導波路の作製方法 - Google Patents
有機結晶を用いた光導波路の作製方法Info
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- JPS6252505A JPS6252505A JP19206585A JP19206585A JPS6252505A JP S6252505 A JPS6252505 A JP S6252505A JP 19206585 A JP19206585 A JP 19206585A JP 19206585 A JP19206585 A JP 19206585A JP S6252505 A JPS6252505 A JP S6252505A
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- Japan
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- monomer
- compd
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
- G02B6/138—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by using polymerisation
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は有機結晶の持つ非線形光学効果を有効に利用す
ることを可能とする低損失な有機結晶の光導波路の作製
方法に関する。
ることを可能とする低損失な有機結晶の光導波路の作製
方法に関する。
有機化合物は大きな非線形光学定数を持つことが知られ
ている〔ヘルマン（、ｒ、 Ｈｅｒｍａｎｎ ）及びダ
クイング（Ｊ、 Ｄｕｃｕｉｎｇ ）アプライド フィ
ツクス レターズ（Ａｐｐｌ、 Ｐｈｙｓ、 Ｌｅｔｔ
、）第２５巻第１７８頁（１９７８１′参照〕。
ている〔ヘルマン（、ｒ、 Ｈｅｒｍａｎｎ ）及びダ
クイング（Ｊ、 Ｄｕｃｕｉｎｇ ）アプライド フィ
ツクス レターズ（Ａｐｐｌ、 Ｐｈｙｓ、 Ｌｅｔｔ
、）第２５巻第１７８頁（１９７８１′参照〕。
有機結晶を導波路化し、その定数を有効に利用しようと
いう試みはいくつかあるが、いずれも基本的には融液法
からの結晶成長を利用するもの、気相からの結晶成長（
蒸着法等）であり、融点以上で分解する化合物、あるい
は昇華しにくい物質に対しては適用不可能なものでめっ
た。
いう試みはいくつかあるが、いずれも基本的には融液法
からの結晶成長を利用するもの、気相からの結晶成長（
蒸着法等）であり、融点以上で分解する化合物、あるい
は昇華しにくい物質に対しては適用不可能なものでめっ
た。
特に大きな三次の非線形光学効果を有するとされ名ポリ
ジアセチレンに対する薄膜化あるいは導波路化の手法は
ラングミュア プロジェットによる薄膜化を除くと皆無
といっでよい。
ジアセチレンに対する薄膜化あるいは導波路化の手法は
ラングミュア プロジェットによる薄膜化を除くと皆無
といっでよい。
しかし、このラングミュア プロジェット法においては
官能基以外に疎水基、親水基を置換基として分子中に付
加させなければならないこと、更には高品質な膜とする
ためには官能分子以外に例えばアラキシン酸の様な材料
を混ぜなければならない点など、材料における制約ある
いは複雑な工程を有するという欠点があった。
官能基以外に疎水基、親水基を置換基として分子中に付
加させなければならないこと、更には高品質な膜とする
ためには官能分子以外に例えばアラキシン酸の様な材料
を混ぜなければならない点など、材料における制約ある
いは複雑な工程を有するという欠点があった。
また、作製した有機化合物の膜は単結晶ではなく、高度
に有機化合物の分子が配向した膜でろ夛、外部刺激によ
って分子が再配列を起し、微小なドメインを形成し、光
導波路としては損失が大きいという欠点もある。
に有機化合物の分子が配向した膜でろ夛、外部刺激によ
って分子が再配列を起し、微小なドメインを形成し、光
導波路としては損失が大きいという欠点もある。
本発明の目的は、これらの欠点を解決し、低損失でかつ
非線形光学効果を示すのに適した有機結晶による光導波
路の作製方法全提供することにある。
非線形光学効果を示すのに適した有機結晶による光導波
路の作製方法全提供することにある。
本発明を概説すれば、本発明は光導波路の作製方法（関
する発明でるって、有機化合物を用い九九導波路を作製
する方法において、平滑面るるいは任意のパターンを施
し九加工面を有する基板に、スペーサを介して補助カバ
ーを装着させた状態で結晶性を有する有機化合物の溶液
中に支持し、該基板と該補助カバーとの空隙中に該有機
化合物の単結晶を成長させる工程全包含することを特徴
とする。
する発明でるって、有機化合物を用い九九導波路を作製
する方法において、平滑面るるいは任意のパターンを施
し九加工面を有する基板に、スペーサを介して補助カバ
ーを装着させた状態で結晶性を有する有機化合物の溶液
中に支持し、該基板と該補助カバーとの空隙中に該有機
化合物の単結晶を成長させる工程全包含することを特徴
とする。
本発明は複数以上の基板の組合せによって作られる空隙
中に、有機化合物単結晶を溶液中において成長させるこ
とを最も主要な特徴とする。
中に、有機化合物単結晶を溶液中において成長させるこ
とを最も主要な特徴とする。
従来の技術とは融液法、気相法による単結晶底長かで′
ｆ！ｉない有機化合物にも適用できる点で異なる。また
、バルク単結晶の非線形光学効果、を弱めることなく利
用できること、るるいはドメイン等の様な散乱中心が少
ないため光導波路として用いる場合の導波路損失が少な
いという点モ従来の技術と異なる。
ｆ！ｉない有機化合物にも適用できる点で異なる。また
、バルク単結晶の非線形光学効果、を弱めることなく利
用できること、るるいはドメイン等の様な散乱中心が少
ないため光導波路として用いる場合の導波路損失が少な
いという点モ従来の技術と異なる。
以下、本発明を図面によシ具体的に説明する。
第１図は本発明方法に使用する作製装置の１例の断面概
略図でろって、符号１は有機化合物単結晶膜、２は１が
成長する光導波路基板、３は１が成長する空隙を作るた
めの補助カバー、４は有機化合物を溶かした溶液、５は
溶媒が急激に蒸発するのを防ぐカバー、６は１が成長す
る空ｗＡを胸整するための治具、７は溶媒の蒸発速度ｖ
ｔｍ整するためのノズルｐＡ整ネジ、８は溶液をいれる
ための容器である。
略図でろって、符号１は有機化合物単結晶膜、２は１が
成長する光導波路基板、３は１が成長する空隙を作るた
めの補助カバー、４は有機化合物を溶かした溶液、５は
溶媒が急激に蒸発するのを防ぐカバー、６は１が成長す
る空ｗＡを胸整するための治具、７は溶媒の蒸発速度ｖ
ｔｍ整するためのノズルｐＡ整ネジ、８は溶液をいれる
ための容器である。
上記装ｆＩＬｔ−用いて、光導波路基板と補助カバーの
空隙中に上記有機化合物の単結晶を成長させた後、有機
化合物溶液から引上げ、補助カバーを取外して得た薄膜
をコアあるいはクラッドとする。
空隙中に上記有機化合物の単結晶を成長させた後、有機
化合物溶液から引上げ、補助カバーを取外して得た薄膜
をコアあるいはクラッドとする。
本発明方法に用いる有機化合物の例としては、２−メチ
ル−４−ニトロアニリンやジアセチレンモノマー、例え
ば２，４−へキサジイン−１，６−ジオールのビス（ｐ
−）ルエンスルホネ−））を挙げることができる。
ル−４−ニトロアニリンやジアセチレンモノマー、例え
ば２，４−へキサジイン−１，６−ジオールのビス（ｐ
−）ルエンスルホネ−））を挙げることができる。
該有機化合物として上記のように単結晶性モノ！−を用
い九場合には、モノマー単結晶を成長させた後、該有機
化合物溶液から引上げ、補助カバー全取外し、該モノマ
ー単結晶を物理的又は化学的に重合させてポリマー結晶
とする。
い九場合には、モノマー単結晶を成長させた後、該有機
化合物溶液から引上げ、補助カバー全取外し、該モノマ
ー単結晶を物理的又は化学的に重合させてポリマー結晶
とする。
そして得られ次薄膜をコアあるいはクラッドとすればよ
い。
い。
なお、ポリマー薄膜であるポリジアセチレンをクラッド
として用いる場合には、基板表面に’ｒａ、ｏ、ガラス
等の高屈折率のガラスを使用すればよい。
として用いる場合には、基板表面に’ｒａ、ｏ、ガラス
等の高屈折率のガラスを使用すればよい。
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されない。
本発明はこれら実施例に限定されない。
実施例１
有機化合物として融点以上で分解しゃすい２−メチル−
４−ニトロアニリン（ｍｐ：１３１℃、以下、ＭＮＡと
略記する）を用いた。
４−ニトロアニリン（ｍｐ：１３１℃、以下、ＭＮＡと
略記する）を用いた。
ＭＮＡ １ ｆ ｔアセト７１００ｃｃに室温で溶かし
たものを溶液４として用いた。２の光導波路基板として
は石英ガラス基板（厚さ２ ｍ Ｘ幅２ｃｒｎ×長さ５
αＪ上に石英ガラス導波膜（厚さ１０μｍ％ｎ ＝ １
．４６ ） ｆ装着したものを用いた。３の補助カバー
としてはガラスの表面のＯＨ基をジメチルジクロロシラ
ン又はトリメチルクロロシランによジシラン処理した厚
さ１５■、幅２ ｃＭ。
たものを溶液４として用いた。２の光導波路基板として
は石英ガラス基板（厚さ２ ｍ Ｘ幅２ｃｒｎ×長さ５
αＪ上に石英ガラス導波膜（厚さ１０μｍ％ｎ ＝ １
．４６ ） ｆ装着したものを用いた。３の補助カバー
としてはガラスの表面のＯＨ基をジメチルジクロロシラ
ン又はトリメチルクロロシランによジシラン処理した厚
さ１５■、幅２ ｃＭ。
長さ５ｃｍのガラス板を用いている。２と３の空隙の厚
さは１０１１ｍである。この空隙の厚さは２の石英ガラ
ス基板の４隅をドライエツチング加工により第２図に示
す様に凸部を設はスペーサ９とすることによって調整す
る。５のカバーとしてはポリ四フッ化エチレンを用い、
８の容器としては中の様子が観察できる透明なガラスを
用いた。溶媒の蒸発は大気圧下、温度２５Ｃで行った。
さは１０１１ｍである。この空隙の厚さは２の石英ガラ
ス基板の４隅をドライエツチング加工により第２図に示
す様に凸部を設はスペーサ９とすることによって調整す
る。５のカバーとしてはポリ四フッ化エチレンを用い、
８の容器としては中の様子が観察できる透明なガラスを
用いた。溶媒の蒸発は大気圧下、温度２５Ｃで行った。
その結果、基板２と補助カバーの空隙にＭＷム単結晶薄
膜が１０日間程度で育成で′ｆ！！た。この後、補助カ
バー５′ｆｔはずす。この際、５はシラン処理によりぬ
れ性が悪くなっているため薄膜をきずつけることなくは
がすことができる。以上の操作によりＭＮＡ単結晶薄膜
（厚さ１０μｍ。
膜が１０日間程度で育成で′ｆ！！た。この後、補助カ
バー５′ｆｔはずす。この際、５はシラン処理によりぬ
れ性が悪くなっているため薄膜をきずつけることなくは
がすことができる。以上の操作によりＭＮＡ単結晶薄膜
（厚さ１０μｍ。
幅５露、長さ１０ｍ）がガラス基板２上にたい積で＠次
。第３図にこのＭＷム結晶薄膜の方位を示す。第３図中
符号１０はＭＮＡ薄膜を意味する。
。第３図にこのＭＷム結晶薄膜の方位を示す。第３図中
符号１０はＭＮＡ薄膜を意味する。
ＭＮムの屈折ｖ４はガラス基板の屈折＄ １．４６より
も高いため、導波膜構造となっている。この導波路の損
失はＨｅ−ＨｅレーザＣＬ６５５ｔｔｍｔ−光源として
プリズム入射によシ測定した。損失値としては約１ｄＢ
／ｍでめった。
も高いため、導波膜構造となっている。この導波路の損
失はＨｅ−ＨｅレーザＣＬ６５５ｔｔｍｔ−光源として
プリズム入射によシ測定した。損失値としては約１ｄＢ
／ｍでめった。
本発明による導波路の膜厚調整Ｆｉ、第２図に示した凸
部によるスペーサによるが、薄膜の厚さはほぼスペーサ
の厚さと１：１に対応しており、このスペーサの厚さを
変えることにより膜厚は自由に制御できる。
部によるスペーサによるが、薄膜の厚さはほぼスペーサ
の厚さと１：１に対応しており、このスペーサの厚さを
変えることにより膜厚は自由に制御できる。
実施例２
次に有機化合物結晶として、モノマー単結晶を用いた例
を示す。
を示す。
有機化合物としてはジアセチレンモノマー＝２．４−へ
中サジインー１，６−ジオールのビス（ｐ−トルエ“ン
スルホネート） （以下、ＰＴ：８ モノマーと略記す
る２化合物を使用した。ＰＴ８七ツマ−１２ｔ−アセト
ン１００ｃｃに室温で溶かしたものを溶液４として用い
た。２の光導波路基板としては厚さ２−％ｍ２ｃｍ、長
さ５５１０石英ガラス基板を用いている。３の補助カバ
ーとしては表面をトリメチルクロロシランによ多処理し
た厚さ１５日幅２ｃ１ｎ長さ５５Ｉ１１のガラス板を用
いた。２と３の空隙の厚さＦｉ１０μｍである。ま７’
ｃｓのカバーはポリ四フフ化エチレンを用いている。８
の容器としては中の様子が観察できる透明なガラスを用
いた。溶媒の蒸発は大気圧下、温度２５℃において行っ
た。その結果、基板２と補助カバー３の空隙にＰＴＳモ
ノマー単結晶薄膜（厚さ１０μｍ１長さ１０露、幅５■
）が１０日間程度で育成できた。この後、補助カバーを
取外す。この際補助カバー３をトリメチルクロロシラン
で処理していないものを用いた場合には補助カバー５側
にもＰＴ８モノマー単結晶薄膜が付着し、２０光導波路
基板に付着しないこともあった。
中サジインー１，６−ジオールのビス（ｐ−トルエ“ン
スルホネート） （以下、ＰＴ：８ モノマーと略記す
る２化合物を使用した。ＰＴ８七ツマ−１２ｔ−アセト
ン１００ｃｃに室温で溶かしたものを溶液４として用い
た。２の光導波路基板としては厚さ２−％ｍ２ｃｍ、長
さ５５１０石英ガラス基板を用いている。３の補助カバ
ーとしては表面をトリメチルクロロシランによ多処理し
た厚さ１５日幅２ｃ１ｎ長さ５５Ｉ１１のガラス板を用
いた。２と３の空隙の厚さＦｉ１０μｍである。ま７’
ｃｓのカバーはポリ四フフ化エチレンを用いている。８
の容器としては中の様子が観察できる透明なガラスを用
いた。溶媒の蒸発は大気圧下、温度２５℃において行っ
た。その結果、基板２と補助カバー３の空隙にＰＴＳモ
ノマー単結晶薄膜（厚さ１０μｍ１長さ１０露、幅５■
）が１０日間程度で育成できた。この後、補助カバーを
取外す。この際補助カバー３をトリメチルクロロシラン
で処理していないものを用いた場合には補助カバー５側
にもＰＴ８モノマー単結晶薄膜が付着し、２０光導波路
基板に付着しないこともあった。
次にこのＰＴＢモノマー単結晶薄膜が付着したガラス基
板ｔ−６０℃の温度雰囲気下で７２時間放置し、ＰＴ８
モノマーを重合させた。加熱後のＰＴ８結晶薄膜は表面
が金属光沢のポリジアセチレン特有の色を示し九。第４
図に加熱後のＵＶ透過特性を示す。すなわち、第４図は
波長（μｍ１横軸］と透過率（縦軸）の関係を示すグラ
フである。第４図かられかる様に膜の吸収端が１７μ７
付近にｉｐ、ＰＴ８七ツマ−単結晶薄膜はＰＴｆｉポリ
マーの薄膜になっていた。＠厚方向のＸ線回折スペクト
ルによれば、２０基板と平行にＰＴ８ポリマーの結晶（
０１０）面が存在していた。またこの膜の偏元顕微使に
よる観察から（反射）偏光方向により膜は消光を示し、
膜が単結晶のＰＴ８ポリマーでらることがわかった。
板ｔ−６０℃の温度雰囲気下で７２時間放置し、ＰＴ８
モノマーを重合させた。加熱後のＰＴ８結晶薄膜は表面
が金属光沢のポリジアセチレン特有の色を示し九。第４
図に加熱後のＵＶ透過特性を示す。すなわち、第４図は
波長（μｍ１横軸］と透過率（縦軸）の関係を示すグラ
フである。第４図かられかる様に膜の吸収端が１７μ７
付近にｉｐ、ＰＴ８七ツマ−単結晶薄膜はＰＴｆｉポリ
マーの薄膜になっていた。＠厚方向のＸ線回折スペクト
ルによれば、２０基板と平行にＰＴ８ポリマーの結晶（
０１０）面が存在していた。またこの膜の偏元顕微使に
よる観察から（反射）偏光方向により膜は消光を示し、
膜が単結晶のＰＴ８ポリマーでらることがわかった。
この膜の屈折率は第５図に示す様な異方性を有している
が、２の基板の屈折率ｎ ＝ ｔ ４６よ夕大きいため
、薄膜導波路の形となっている。この薄膜導波路の損失
は半導体レーザ（１８２μｍ會元源としてプリズム入射
によシ測定した。損失値としては約１ ｃＬＢ／副であ
った。なお第５図はＰＴＢポリマーの単結晶薄膜の配向
方向の説明図であり、符号１１はポリマーＰ′１′８薄
膜を意味する。
が、２の基板の屈折率ｎ ＝ ｔ ４６よ夕大きいため
、薄膜導波路の形となっている。この薄膜導波路の損失
は半導体レーザ（１８２μｍ會元源としてプリズム入射
によシ測定した。損失値としては約１ ｃＬＢ／副であ
った。なお第５図はＰＴＢポリマーの単結晶薄膜の配向
方向の説明図であり、符号１１はポリマーＰ′１′８薄
膜を意味する。
以上実施例１．２には基板として平板のものを用いたが
第６図に基板のパターン化により所望の位置に細溝を形
成し、有＠結晶を三次元化した例の概要図を示す。第６
図において符号１２はＭＮＡ単結晶、１５はパターン化
基板を意味する。有機結晶導波路部のディメンジョンと
しては幅１０μ７、深さ１０μｍ１長さ２０冑である。
第６図に基板のパターン化により所望の位置に細溝を形
成し、有＠結晶を三次元化した例の概要図を示す。第６
図において符号１２はＭＮＡ単結晶、１５はパターン化
基板を意味する。有機結晶導波路部のディメンジョンと
しては幅１０μ７、深さ１０μｍ１長さ２０冑である。
材料としてはＭＮ４を用いている。またジアセチレンモ
ノマー単結晶薄膜の場合には電子線ビーム露光あるいは
紫外線露光をパターン化し九マスクごしに施すことによ
シ重合を部分的にした後、モノマーを溶媒で洗い流すこ
とによシ、パターン化された三次元ポリジアセチレン単
結晶導波路を作製してもよい。
ノマー単結晶薄膜の場合には電子線ビーム露光あるいは
紫外線露光をパターン化し九マスクごしに施すことによ
シ重合を部分的にした後、モノマーを溶媒で洗い流すこ
とによシ、パターン化された三次元ポリジアセチレン単
結晶導波路を作製してもよい。
以上説明した様に本発明においては有機化合物単結晶を
コアあるいはクラッドとする低損失な導波路が得られる
九め有機化合物の持つ大きな非線形光学効果を利用した
元スイッチ素子、光双安定素子、波長変換素子、元増幅
素子等を構成するポリジアセチレン光導波路の作製全容
易にする利点がおる。
コアあるいはクラッドとする低損失な導波路が得られる
九め有機化合物の持つ大きな非線形光学効果を利用した
元スイッチ素子、光双安定素子、波長変換素子、元増幅
素子等を構成するポリジアセチレン光導波路の作製全容
易にする利点がおる。
第１図は本発明方法で使用する作製装置の１例の断面概
略図、第２図は膜厚調整のためのスペーサつき補助カバ
ーの概要図、第５図は本発明により作製したＭＮＡ単結
晶薄膜の配向方向の説明図、第４図はＰＴ８ポリマーの
透過特性を示すグラフ、第５図はＰＴ８ポリＶ−の単結
晶薄膜の配向方向の説明図セしてｗｃ６図は三次元有機
結晶導波路の概要図である。 １：有機化合物単結晶膜、２：１が成長する光導波路基
板、３：１が成長する空隙を作るための補助カバー、４
：有機化合ｇ！ｌを溶かした溶液、５：溶媒が急激に蒸
発するのを防ぐカバー、６：１が成長する空隙を調整す
るための治具、７：ノズル調整ネジ、８：容器、９ニス
ペーサ、１０ ： ＭＮＡ薄膜、１４ ： ｐ’ｒｓポ
リマー薄膜、１２：ＭＮＡ＄結晶、１３：パターン化基
板第 ／ 図 第２図 第３図 第４図 第５図 第６図
略図、第２図は膜厚調整のためのスペーサつき補助カバ
ーの概要図、第５図は本発明により作製したＭＮＡ単結
晶薄膜の配向方向の説明図、第４図はＰＴ８ポリマーの
透過特性を示すグラフ、第５図はＰＴ８ポリＶ−の単結
晶薄膜の配向方向の説明図セしてｗｃ６図は三次元有機
結晶導波路の概要図である。 １：有機化合物単結晶膜、２：１が成長する光導波路基
板、３：１が成長する空隙を作るための補助カバー、４
：有機化合ｇ！ｌを溶かした溶液、５：溶媒が急激に蒸
発するのを防ぐカバー、６：１が成長する空隙を調整す
るための治具、７：ノズル調整ネジ、８：容器、９ニス
ペーサ、１０ ： ＭＮＡ薄膜、１４ ： ｐ’ｒｓポ
リマー薄膜、１２：ＭＮＡ＄結晶、１３：パターン化基
板第 ／ 図 第２図 第３図 第４図 第５図 第６図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、有機化合物を用いた光導波路を作製する方法におい
て、平滑面あるいは任意のパターンを施した加工面を有
する基板に、スペーサを介して補助カバーを装着させた
状態で結晶性を有する有機化合物の溶液中に支持し、該
基板と該補助カバーとの空隙中に該有機化合物の単結晶
を成長させる工程を包含することを特徴とする光導波路
の作製方法。 ２、該有機化合物として単結晶性モノマーを用い、モノ
マー単結晶を成長させる工程の後、該モノマー単結晶を
重合させてポリマー結晶とする特許請求の範囲第１項記
載の光導波路の作製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19206585A JPS6252505A (ja) | 1985-09-02 | 1985-09-02 | 有機結晶を用いた光導波路の作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19206585A JPS6252505A (ja) | 1985-09-02 | 1985-09-02 | 有機結晶を用いた光導波路の作製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6252505A true JPS6252505A (ja) | 1987-03-07 |
Family
ID=16285039
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19206585A Pending JPS6252505A (ja) | 1985-09-02 | 1985-09-02 | 有機結晶を用いた光導波路の作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6252505A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0398026A (ja) * | 1989-09-11 | 1991-04-23 | Rikagaku Kenkyusho | 有機非線形光学材料 |
-
1985
- 1985-09-02 JP JP19206585A patent/JPS6252505A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0398026A (ja) * | 1989-09-11 | 1991-04-23 | Rikagaku Kenkyusho | 有機非線形光学材料 |
| JPH0670697B2 (ja) * | 1989-09-11 | 1994-09-07 | 理化学研究所 | 有機非線形光学材料 |
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