JPH02175697A - 非線形光学結晶薄膜の製造方法 - Google Patents
非線形光学結晶薄膜の製造方法Info
- Publication number
- JPH02175697A JPH02175697A JP33194388A JP33194388A JPH02175697A JP H02175697 A JPH02175697 A JP H02175697A JP 33194388 A JP33194388 A JP 33194388A JP 33194388 A JP33194388 A JP 33194388A JP H02175697 A JPH02175697 A JP H02175697A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- solvent
- solution
- single crystal
- organic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims abstract description 45
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 42
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 23
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 39
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 16
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 32
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 5
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 abstract description 16
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- XTTIQGSLJBWVIV-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-nitroaniline Chemical compound CC1=CC([N+]([O-])=O)=CC=C1N XTTIQGSLJBWVIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 6
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 abstract description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 abstract description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- 238000000935 solvent evaporation Methods 0.000 description 15
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 13
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 239000012047 saturated solution Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- WBGVVXSCGNGJFL-UHFFFAOYSA-N 3-amino-n,n-diethyl-4-methoxybenzenesulfonamide Chemical compound CCN(CC)S(=O)(=O)C1=CC=C(OC)C(N)=C1 WBGVVXSCGNGJFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SSOURMYKACOBIV-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-4-nitro-1-oxidopyridin-1-ium Chemical compound CC1=C[N+]([O-])=CC=C1[N+]([O-])=O SSOURMYKACOBIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 210000001787 dendrite Anatomy 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- QLAJNZSPVITUCQ-UHFFFAOYSA-N 1,3,2-dioxathietane 2,2-dioxide Chemical compound O=S1(=O)OCO1 QLAJNZSPVITUCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMAQZIILEGKYQZ-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-3-nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 KMAQZIILEGKYQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXVAQZVQYFKMDP-UHFFFAOYSA-N 2-amino-2-(2,4-dinitrophenyl)butanoic acid Chemical compound CCC(N)(C(O)=O)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O SXVAQZVQYFKMDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJCVRTZCHMZPBD-UHFFFAOYSA-N 3-nitroaniline Chemical compound NC1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 XJCVRTZCHMZPBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RAKMWGKBCDCUDX-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-n-(1-phenylethyl)pyridin-2-amine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=N1 RAKMWGKBCDCUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- HCVBBVTZZJFVLA-NSHDSACASA-N [(2s)-1-(4-nitrophenyl)pyrrolidin-2-yl]methanol Chemical compound OC[C@@H]1CCCN1C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 HCVBBVTZZJFVLA-NSHDSACASA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 230000002045 lasting effect Effects 0.000 description 1
- 239000008204 material by function Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- NJYYBTRBCMPYCJ-UHFFFAOYSA-N n,2-dimethyl-4-nitroaniline Chemical compound CNC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1C NJYYBTRBCMPYCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZSQCGFTOHIDIB-UHFFFAOYSA-N n-[2-(dimethylamino)-5-nitrophenyl]acetamide Chemical compound CN(C)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1NC(C)=O TZSQCGFTOHIDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光情報処理や光通信における光機能である波長
変換、光スイッチング、光メモリ等の素子に用いられる
有機非線形光学結晶薄膜の製造方法に係わり、特に溶媒
蒸発法による光機能素子用の単結晶薄膜の作製に関する
ものである。
変換、光スイッチング、光メモリ等の素子に用いられる
有機非線形光学結晶薄膜の製造方法に係わり、特に溶媒
蒸発法による光機能素子用の単結晶薄膜の作製に関する
ものである。
有機非線形光学用の有機単結晶の製造方法としては、従
来より ■融液から成長させる方法 ■溶液から成長させる方法 （溶媒蒸発法、徐冷法） ■気相から成長させる方法 が用いられてきた。しかし、有機物は一般に融点付近で
分解し易いことから融液からの成長が行えないものが多
く、また気相からの成長は昇華性のよいものに限られる
為、溶液からの結晶成長が広く行われ、この中でも一定
温度で溶媒を蒸発させる溶媒蒸発法が操作の安定性の点
で有利である。
来より ■融液から成長させる方法 ■溶液から成長させる方法 （溶媒蒸発法、徐冷法） ■気相から成長させる方法 が用いられてきた。しかし、有機物は一般に融点付近で
分解し易いことから融液からの成長が行えないものが多
く、また気相からの成長は昇華性のよいものに限られる
為、溶液からの結晶成長が広く行われ、この中でも一定
温度で溶媒を蒸発させる溶媒蒸発法が操作の安定性の点
で有利である。
この溶媒蒸発法によりバルクの有機非線形光学結晶が得
られたものとしては、２−メチル−４ニトロアニリン（
Ｌｉｐｓｃｏｍｂ ｅｔ ａｌ、、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏ
ｆＣｈｅｍｉｃａｌ Ｐｈｙｓｉｃｓ、Ｖｏｌ、７５．
Ｎｏ、３．ｐ、１５０．１９８１）、３メチル−４−ニ
トロピリジン−１−オキシド（Ｚｙｓｓ ｅｔ ａｌ、
、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｐｈｙｓ
ｉｃｓ、Ｖｏｗ。
られたものとしては、２−メチル−４ニトロアニリン（
Ｌｉｐｓｃｏｍｂ ｅｔ ａｌ、、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏ
ｆＣｈｅｍｉｃａｌ Ｐｈｙｓｉｃｓ、Ｖｏｌ、７５．
Ｎｏ、３．ｐ、１５０．１９８１）、３メチル−４−ニ
トロピリジン−１−オキシド（Ｚｙｓｓ ｅｔ ａｌ、
、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｐｈｙｓ
ｉｃｓ、Ｖｏｗ。
７４、Ｎｏ、９．ｐ、４８００．１９８１）、ｍ−クロ
ロニトロベンゼン（検量、機能材料、１９８６年１２月
号、５５頁）などが報告されている。
ロニトロベンゼン（検量、機能材料、１９８６年１２月
号、５５頁）などが報告されている。
溶媒蒸発法による単結晶成長は確かに有機化合物の単結
晶作製に適した方法の１つではあるが、実際にこれを行
う為には、原料の精製の徹底、溶媒蒸発量の制御、精密
な温度制御、振動の防止などに十分な注意を払いながら
、数十日もの長い時間をかけて結晶を成長させていくこ
とが必要となる。そして、どのように注意深く結晶成長
を行っても樹枝状結晶の発生が逃れられないものが多く
、前記の例のようにバルク単結晶の得られることはむし
ろ稀なケースであり、大部分の有機化合物については良
質の大型単結晶（例えば−辺の長さがｍｍオーダーのも
の）を得ることは極めて困難な実状にある。
晶作製に適した方法の１つではあるが、実際にこれを行
う為には、原料の精製の徹底、溶媒蒸発量の制御、精密
な温度制御、振動の防止などに十分な注意を払いながら
、数十日もの長い時間をかけて結晶を成長させていくこ
とが必要となる。そして、どのように注意深く結晶成長
を行っても樹枝状結晶の発生が逃れられないものが多く
、前記の例のようにバルク単結晶の得られることはむし
ろ稀なケースであり、大部分の有機化合物については良
質の大型単結晶（例えば−辺の長さがｍｍオーダーのも
の）を得ることは極めて困難な実状にある。
ところで、非線形光学分野で用いられる有機単結晶は導
波路を構成して使用した方が効率が良い為、通常薄膜状
のものが必要とされる。しかし、従来の溶媒蒸発法によ
る単結晶作製法はバルク単結晶を対象としたものであり
、この方法により厚みを制御した単結晶薄膜を作製する
ことは不可能である。
波路を構成して使用した方が効率が良い為、通常薄膜状
のものが必要とされる。しかし、従来の溶媒蒸発法によ
る単結晶作製法はバルク単結晶を対象としたものであり
、この方法により厚みを制御した単結晶薄膜を作製する
ことは不可能である。
本発明は以上のような問題点を解決し、溶媒蒸発法によ
り有機非線形光学材料の単結晶薄膜を容易に製造する方
法を提供することを目的とするものである。
り有機非線形光学材料の単結晶薄膜を容易に製造する方
法を提供することを目的とするものである。
通常の溶媒蒸発法によるバルク単結晶の作製においては
、発生した核は三次元方向に自由に成長する。しかし、
ここで結晶が成長する空間の一方向が制限されていると
、結晶がこの制限された領域−杯まで三次元的に成長し
た後は、結晶は駒間のない二次元方向に成長を始めると
考えられる。
、発生した核は三次元方向に自由に成長する。しかし、
ここで結晶が成長する空間の一方向が制限されていると
、結晶がこの制限された領域−杯まで三次元的に成長し
た後は、結晶は駒間のない二次元方向に成長を始めると
考えられる。
ここで制限する方向の厚さが薄いほど、制限のない二次
元方向には大きな面積の単結晶薄膜が成長すると考えら
れる。この結晶の成長空間の一方向を制限する方法とし
ては種々の方法が考えられるが、最も容易なものとして
基板上に溶液を薄く塗布する方法がある。
元方向には大きな面積の単結晶薄膜が成長すると考えら
れる。この結晶の成長空間の一方向を制限する方法とし
ては種々の方法が考えられるが、最も容易なものとして
基板上に溶液を薄く塗布する方法がある。
本発明は有機化合物を溶媒に溶解した溶液を基板上に薄
膜状に塗布し、その薄膜状の溶液から溶媒を蒸発させて
非線形光学結晶薄膜を製造することにあり、また、薄膜
状に塗布した溶液の周囲の雰囲気をほぼ溶媒の飽和蒸気
圧にしておいてから、薄膜状の溶液から溶媒を徐々に蒸
発させて非線形光学結晶薄膜を製造することにある。
膜状に塗布し、その薄膜状の溶液から溶媒を蒸発させて
非線形光学結晶薄膜を製造することにあり、また、薄膜
状に塗布した溶液の周囲の雰囲気をほぼ溶媒の飽和蒸気
圧にしておいてから、薄膜状の溶液から溶媒を徐々に蒸
発させて非線形光学結晶薄膜を製造することにある。
ここで、基板上に膜厚を制御して溶液を塗布する方法と
しては、フォトレジスト膜などの作製に用いられている
スピンコード法を利用することもできる。
しては、フォトレジスト膜などの作製に用いられている
スピンコード法を利用することもできる。
本発明による単結晶薄膜の製造方法は多くの有機非線形
光学材料に適用可能であるが、その−例を挙げると、２
−メチル−４−ニトロアニリン、２−（α−メチルベン
ジルアミノ）−５−ニトロピリジン、Ｎ−（４−ニトロ
フェニル）−（Ｓ）−プロリノール、 ３−アセトアミ
ド−４−ジメチルアミノニトロベンゼン、メチル−（２
，４−ジニトロフェニル）−アミノプロパネート、ｍ−
ニトロアニリン、２−シクロオクチルアミノ−５−ニト
ロビリジン、３−メチル−４−ニトロピリジン−１−オ
キシド、尿素、２−メチル−４−ニトロ−Ｎ−メチルア
ニリン、４−ジ”メチルアミノ−Ｎ−メチル−４−スチ
ルバゾリウムメトスルフェート、ファストレッドＩＴＲ
などがある。
光学材料に適用可能であるが、その−例を挙げると、２
−メチル−４−ニトロアニリン、２−（α−メチルベン
ジルアミノ）−５−ニトロピリジン、Ｎ−（４−ニトロ
フェニル）−（Ｓ）−プロリノール、 ３−アセトアミ
ド−４−ジメチルアミノニトロベンゼン、メチル−（２
，４−ジニトロフェニル）−アミノプロパネート、ｍ−
ニトロアニリン、２−シクロオクチルアミノ−５−ニト
ロビリジン、３−メチル−４−ニトロピリジン−１−オ
キシド、尿素、２−メチル−４−ニトロ−Ｎ−メチルア
ニリン、４−ジ”メチルアミノ−Ｎ−メチル−４−スチ
ルバゾリウムメトスルフェート、ファストレッドＩＴＲ
などがある。
一般に溶媒蒸発法による単結晶の作製においては、急激
な過飽和度の上昇による樹枝状結晶の析出を防ぐ為に溶
媒の蒸発速度を遅くすることが重要であるが、本発明の
薄膜状の溶液からの溶媒蒸発においても薄膜であるが故
に蒸発速度の制御が特に重要である。すなわち、溶媒の
蒸発による溶液の過飽和度の上昇は、溶媒の蒸発速度と
薄膜の面積に比例し、薄膜の厚さに反比例すると考えら
れる。このことから、薄膜の面積が一定の場合には、薄
膜が薄いほど溶媒の蒸発速度を遅くする必要がある。
な過飽和度の上昇による樹枝状結晶の析出を防ぐ為に溶
媒の蒸発速度を遅くすることが重要であるが、本発明の
薄膜状の溶液からの溶媒蒸発においても薄膜であるが故
に蒸発速度の制御が特に重要である。すなわち、溶媒の
蒸発による溶液の過飽和度の上昇は、溶媒の蒸発速度と
薄膜の面積に比例し、薄膜の厚さに反比例すると考えら
れる。このことから、薄膜の面積が一定の場合には、薄
膜が薄いほど溶媒の蒸発速度を遅くする必要がある。
この為の一つの方法は、蒸発速度の遅い溶媒を使う方法
である。２−メチル−４−ニトロアニリンを始め多くの
有機非線形光学材料を溶解し、且つ蒸発速度の遅い溶媒
の一例としては、Ｎ、 Ｎジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、多
価アルコール類（エチレングリコール、ジエチレングリ
コール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、グリセリンなど）、種々の多価アルコール誘導体（
エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレング
リコールジメチルエーテルなど）などが挙げられる。尚
、以上は単独の溶媒の例であるが、結晶析出時の溶媒の
蒸発速度が遅ければ、二種あるいはそれ以」二の混合溶
媒でも同様の効果が得られることはいうまでもない。
である。２−メチル−４−ニトロアニリンを始め多くの
有機非線形光学材料を溶解し、且つ蒸発速度の遅い溶媒
の一例としては、Ｎ、 Ｎジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、多
価アルコール類（エチレングリコール、ジエチレングリ
コール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、グリセリンなど）、種々の多価アルコール誘導体（
エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレング
リコールジメチルエーテルなど）などが挙げられる。尚
、以上は単独の溶媒の例であるが、結晶析出時の溶媒の
蒸発速度が遅ければ、二種あるいはそれ以」二の混合溶
媒でも同様の効果が得られることはいうまでもない。
また、溶媒の蒸発速度を遅くするもう一つの方法は、薄
膜状の溶液の周囲の雰囲気を溶媒蒸発開始から蒸発中に
わたり、その溶媒の飽和蒸気圧に近い蒸気圧にまで高め
ておく方法である。この方法では、蒸発速度の速い溶媒
を用いた場合でも、雰囲気の蒸気圧と飽和蒸気圧の差が
小さい為、溶媒の蒸発速度が遅くなり、容易に単結晶が
成長する。この方法の適用により、メタノール、エタノ
ール、アセトン、クロロホルム、ジエチルエーテル等を
始めとする多くの蒸発速度の速い溶媒を用いた場合でも
、溶媒蒸発法により容易に単結晶薄膜を作製することが
可能となる。
膜状の溶液の周囲の雰囲気を溶媒蒸発開始から蒸発中に
わたり、その溶媒の飽和蒸気圧に近い蒸気圧にまで高め
ておく方法である。この方法では、蒸発速度の速い溶媒
を用いた場合でも、雰囲気の蒸気圧と飽和蒸気圧の差が
小さい為、溶媒の蒸発速度が遅くなり、容易に単結晶が
成長する。この方法の適用により、メタノール、エタノ
ール、アセトン、クロロホルム、ジエチルエーテル等を
始めとする多くの蒸発速度の速い溶媒を用いた場合でも
、溶媒蒸発法により容易に単結晶薄膜を作製することが
可能となる。
基板上に塗布された薄膜状の溶液がら溶媒を徐々に蒸発
させると、次第に過飽和度が増加し核が発生する。溶媒
の蒸発に伴い、核は溶液の厚さに達するまでは三次元的
に成長する。しがし、結晶の大きさが一旦溶液の厚さに
達した後は、更に厚さ方向に成長するには溶質の供給が
困難となる為、厚さ方向には成長せず、平面方向に優先
的に成長する。以上のような過程で単結晶薄膜が形成さ
れる。
させると、次第に過飽和度が増加し核が発生する。溶媒
の蒸発に伴い、核は溶液の厚さに達するまでは三次元的
に成長する。しがし、結晶の大きさが一旦溶液の厚さに
達した後は、更に厚さ方向に成長するには溶質の供給が
困難となる為、厚さ方向には成長せず、平面方向に優先
的に成長する。以上のような過程で単結晶薄膜が形成さ
れる。
また、蒸発速度の速い溶媒を使用した場合には、薄膜状
の溶液からの溶媒蒸発をその溶媒の飽和蒸気圧に近い蒸
気圧を有する雰囲気中で行うことにより、雰囲気の蒸気
圧と飽和蒸気圧の差が小さい為、溶媒の蒸発速度が遅く
なり、単結晶薄膜が成長する。
の溶液からの溶媒蒸発をその溶媒の飽和蒸気圧に近い蒸
気圧を有する雰囲気中で行うことにより、雰囲気の蒸気
圧と飽和蒸気圧の差が小さい為、溶媒の蒸発速度が遅く
なり、単結晶薄膜が成長する。
以下、実施例をもって本発明を詳述するが、本発明はこ
れらの実施例に限定されるものではない。
れらの実施例に限定されるものではない。
実施例１
再結晶法により精製した尿素をジメチルスルホキシドに
溶解した飽和溶液１μΩを脱脂洗浄したガラス基板上に
滴下し、薄膜状に広がった状態で室温で放置して溶媒を
蒸発させた。数時間後に溶媒はほぼ蒸発し、最大ＩＨＸ
０．５ｍｍ、厚さは１０数μｍ程度の単結晶薄膜が得ら
れた。
溶解した飽和溶液１μΩを脱脂洗浄したガラス基板上に
滴下し、薄膜状に広がった状態で室温で放置して溶媒を
蒸発させた。数時間後に溶媒はほぼ蒸発し、最大ＩＨＸ
０．５ｍｍ、厚さは１０数μｍ程度の単結晶薄膜が得ら
れた。
実施例２
再結晶法により精製したファストレッドＩＴＲをジメチ
ルスルホキシドに溶解した飽和溶液１μＱを脱脂洗浄し
たガラス基板上に滴下し、薄膜状に広がった状態で室温
で放置して溶媒を蒸発させた。約３０分後に溶媒はほぼ
蒸発し、最大３ｍｍＸ０．８ｍｍ、厚さは３０μｍ程度
の単結晶薄膜が得られた。
ルスルホキシドに溶解した飽和溶液１μＱを脱脂洗浄し
たガラス基板上に滴下し、薄膜状に広がった状態で室温
で放置して溶媒を蒸発させた。約３０分後に溶媒はほぼ
蒸発し、最大３ｍｍＸ０．８ｍｍ、厚さは３０μｍ程度
の単結晶薄膜が得られた。
実施例３
再結晶法により精製した２−メチル−４−ニトロアニリ
ンをＮ、 Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解した飽和
溶液１μΩを脱脂洗浄したガラス基板上に滴下し、薄膜
状に広がった状態で室温で放置して溶媒を蒸発させた。
ンをＮ、 Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解した飽和
溶液１μΩを脱脂洗浄したガラス基板上に滴下し、薄膜
状に広がった状態で室温で放置して溶媒を蒸発させた。
数分後に溶媒はほぼ蒸発し、最大１ｍｍＸ０．５ｍｍ、
厚さは１ｏ数μｍ程度の単結晶薄膜が得られた。
厚さは１ｏ数μｍ程度の単結晶薄膜が得られた。
実施例４
第１図に示すようにガラス容器１の中に脱脂洗浄したガ
ラス基板２を水平に置き、ガラス容器１にはその底が浸
る程度に少量のメタノール６を入れて蓋３をする。ここ
で、ガラス容器１と蓋３の間にはグリースを塗ってシー
ルをする。また、蓋３にはその中央と端の２ケ所にそれ
ぞれ直径１ｍｍ程度のか孔４．５があけられているが、
最初はテープ８，９等でこれらをふさいでおく。この状
態で約３０分放置して容器内がメタノールの飽和蒸気で
満たされた後、テープ８を取り除いて蓋３の中央のか孔
４から２−メチル−４−ニトロアニリンのメタノール飽
和溶液１μ９をガラス基板上に滴下し、また小孔４をテ
ープ８でふさぐ。尚、２メチル−４−ニトロアニリンは
再結晶法により精製したものを用いた。滴下された溶液
はガラス基板上に広がって薄い膜７を形成する。ここで
テープ９を取り除いて蓋３の小孔５をあけ、ここから極
く僅かずつメタノールを蒸発させる。この状態で１週間
放置後、ガラス基板上に約０．５ｍｍＸ ０．５ｍｍ、
厚さは１０μｍ程度の単結晶薄膜が得られた。
ラス基板２を水平に置き、ガラス容器１にはその底が浸
る程度に少量のメタノール６を入れて蓋３をする。ここ
で、ガラス容器１と蓋３の間にはグリースを塗ってシー
ルをする。また、蓋３にはその中央と端の２ケ所にそれ
ぞれ直径１ｍｍ程度のか孔４．５があけられているが、
最初はテープ８，９等でこれらをふさいでおく。この状
態で約３０分放置して容器内がメタノールの飽和蒸気で
満たされた後、テープ８を取り除いて蓋３の中央のか孔
４から２−メチル−４−ニトロアニリンのメタノール飽
和溶液１μ９をガラス基板上に滴下し、また小孔４をテ
ープ８でふさぐ。尚、２メチル−４−ニトロアニリンは
再結晶法により精製したものを用いた。滴下された溶液
はガラス基板上に広がって薄い膜７を形成する。ここで
テープ９を取り除いて蓋３の小孔５をあけ、ここから極
く僅かずつメタノールを蒸発させる。この状態で１週間
放置後、ガラス基板上に約０．５ｍｍＸ ０．５ｍｍ、
厚さは１０μｍ程度の単結晶薄膜が得られた。
本発明によれば、溶媒蒸発法で有機単結晶薄膜が容易に
得られる。そして、特に本発明を適用することにより非
線形光学材料として用いられる有機単結晶薄膜が得られ
、今後応用開発が進むと共にオプトエレクトロニクス分
野で活用される。
得られる。そして、特に本発明を適用することにより非
線形光学材料として用いられる有機単結晶薄膜が得られ
、今後応用開発が進むと共にオプトエレクトロニクス分
野で活用される。
第１図は、実施例４の有機単結晶薄膜の作製方法を示す
説明面である。 １・・・・・・・ガラス容器 ２・・・・・・・ガラス基板 ３・・・・・・・蓋 ４．５・・・・小孔 ６・・・・・・・メタノール ７・・・・・・・滴下した溶液の薄い膜８．９・・・・
テープ
説明面である。 １・・・・・・・ガラス容器 ２・・・・・・・ガラス基板 ３・・・・・・・蓋 ４．５・・・・小孔 ６・・・・・・・メタノール ７・・・・・・・滴下した溶液の薄い膜８．９・・・・
テープ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、有機化合物を溶媒に溶解した溶液を基 板上に薄膜状に塗布し、その溶液から溶 媒を蒸発させることを特徴とする非線形 光学結晶薄膜の製造方法。 ２、有機化合物が溶媒に溶解し、基板上に 薄膜状に塗布した溶液の周囲の雰囲気を ほぼ溶媒の飽和蒸気圧に設定した後、前 記薄膜状の溶液から溶媒を蒸発させるこ とを特徴とする請求項１記載の非線形光 学結晶薄膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33194388A JPH02175697A (ja) | 1988-12-28 | 1988-12-28 | 非線形光学結晶薄膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33194388A JPH02175697A (ja) | 1988-12-28 | 1988-12-28 | 非線形光学結晶薄膜の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02175697A true JPH02175697A (ja) | 1990-07-06 |
Family
ID=18249380
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33194388A Pending JPH02175697A (ja) | 1988-12-28 | 1988-12-28 | 非線形光学結晶薄膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02175697A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6406647B1 (en) * | 1998-02-13 | 2002-06-18 | Mrinal Thakur | Method for preparation of single crystal films of organic second order optical materials |
| FR2841794A1 (fr) * | 2002-07-03 | 2004-01-09 | Centre Nat Rech Scient | Controle de la distribution spatiale de cristaux microscopiques dans des evidements realises sur un substrat |
-
1988
- 1988-12-28 JP JP33194388A patent/JPH02175697A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6406647B1 (en) * | 1998-02-13 | 2002-06-18 | Mrinal Thakur | Method for preparation of single crystal films of organic second order optical materials |
| FR2841794A1 (fr) * | 2002-07-03 | 2004-01-09 | Centre Nat Rech Scient | Controle de la distribution spatiale de cristaux microscopiques dans des evidements realises sur un substrat |
| WO2004005590A2 (fr) * | 2002-07-03 | 2004-01-15 | Centre National De La Recherche Scientifique | Controle de la distribution spatiale de cristaux microscopiques dans des evidements realises sur un substrat |
| WO2004005590A3 (fr) * | 2002-07-03 | 2004-05-21 | Centre Nat Rech Scient | Controle de la distribution spatiale de cristaux microscopiques dans des evidements realises sur un substrat |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5626670A (en) | Method for producing low thermal budget ferroelectric thin films for integrated device structures using laser-crystallization of spin-on sol-gel films | |
| US4737232A (en) | Process for depositing and crystallizing a thin layer of organic material by means of a beam of energy | |
| Zhang et al. | Growth of large methyl-(2, 4-dinitrophenyl)-aminopropanoate: 2-methyl-4-nitroaniline crystals for nonlinear optical applications | |
| JPH02175697A (ja) | 非線形光学結晶薄膜の製造方法 | |
| US4684434A (en) | Method for the preparation of thin large-area single crystals of diacetylenes and polydiacetylenes | |
| Khan et al. | Supramolecular ordered organic thin films for nonlinear optical and optoelectronic applications | |
| Rao et al. | Mixed methyl‐(2, 4‐dinitrophenyl)‐aminopropanoate: 2‐methyl‐4‐nitroaniline crystal− a new nonlinear optical material | |
| US4698121A (en) | Methods for the preparation of oriented thin large-area single crystals of diacetylenes and polydiacetylenes | |
| JPS6236095A (ja) | 有機薄膜結晶の作成方法 | |
| JPH01172297A (ja) | 有機単結晶の製造法 | |
| Tasaka et al. | SHG-active polymorphism of p-nitroaniline mixed with its N-alkyl derivatives | |
| Negi et al. | Preparation of novel optical-grade metanitroaniline and polymethylmethacrylate-coated single crystals and their optical properties | |
| Rashid et al. | Self-assembled organic supramolecular thin films for nonlinear optics | |
| JPH026384A (ja) | 結晶性有機薄膜の作製方法 | |
| JPS63195198A (ja) | ニオブ酸リチウム単結晶薄膜の製造方法 | |
| US5180463A (en) | Method for forming coated monocrystalline products | |
| JPH02160697A (ja) | 成長方位制御された有機単結晶の製造方法 | |
| JPH05186300A (ja) | 有機結晶の成長方法 | |
| JP2539840B2 (ja) | 非線形光学素子 | |
| JPH03197399A (ja) | 有機結晶の製造方法 | |
| JPH0442216A (ja) | 有機単結晶光導波路の製造方法 | |
| JPH0455400A (ja) | 有機単結晶の製造方法 | |
| JPH02289483A (ja) | 有機薄膜単結晶の育成方法およびその製造製置 | |
| JPH01204032A (ja) | 非線形光学用の有機薄膜の作成法 | |
| JPS6211237A (ja) | 有機薄膜結晶の作成方法 |