JPS6252137A - 光伝送用素材の製造方法 - Google Patents

光伝送用素材の製造方法

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JPS6252137A
JPS6252137A JP19238785A JP19238785A JPS6252137A JP S6252137 A JPS6252137 A JP S6252137A JP 19238785 A JP19238785 A JP 19238785A JP 19238785 A JP19238785 A JP 19238785A JP S6252137 A JPS6252137 A JP S6252137A
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JP
Japan
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quartz glass
optical transmission
silica
refractive index
sif4
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Application number
JP19238785A
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English (en)
Inventor
Kenichi Muta
健一 牟田
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SWCC Corp
Original Assignee
Showa Electric Wire and Cable Co
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Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/01205Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments
    • C03B37/01211Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments by inserting one or more rods or tubes into a tube
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C03B37/01807Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/08Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
    • C03B2201/14Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with boron and fluorine

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の技術分野) 本発明は、熱履歴による屈折率変化のきわめて少ないド
ープされたシリカ層をクラッドとする光伝送用素材の製
造方法に関する。
(発明の技術的背景および問題点) 現在、光伝送用材料としては材料自体の吸収や散乱によ
る損失、すなわち光透過損失が少ないことから、主に高
純度の石英ガラスが選ばれている。
ガラスを光伝送用材料として用いるためには、光伝送用
材料の構成単位であるガラス繊維断面の中心部(コア)
の屈折率を周辺部(クラッド)のそれにくらべて高くす
ることが必要で、この構造によってコアに閉じ込められ
た光がクラッドとの界面において全反射または屈折を繰
り返しながらガラス繊維の軸に沿って進む性質を利用す
るものである。このような構造の光伝送用材料を作る方
法としては、ロンドインチューブ法、化学気相堆積(C
IVD)法および気相軸付け(VAD)法が知られてい
る。
OVD法によって光伝送路を製造するには、反応生成物
の付着基本となる反応管内で、主剤のシリカを形成する
原料の揮発性ケイ素化合物もしくは前記化合物と石英ガ
ラスの屈折率を変化させるための添加剤とを反応させて
゛ドープされたシリカを該反応管壁に析出させ、さらに
その上にシリカだけまたは屈折率を高めるための添加剤
を加えたシリカを析出させ所要厚さに成長させた後、中
空部をつぶして光伝送用素材となし、次いで線引き工程
を経てガラス繊維とする。ここで、クラッドに石英ガラ
スを用いる場合は、コアの屈折率を高める添加剤として
P+Ge+Ti+A7等が一般に用いられる。この場合
でも、クラッドの屈折率を石英ガラスよりも低くできれ
ば、開口数を大きくすることができる。OVD法で石英
ガラスより低い屈折率のドープされた石英ガラスを得る
には、B、0.を添加する方法が知られているが、この
B、0.をドープされた石英ガラスは線引きの際の熱履
歴により屈折率が変化する欠点がある。
また、OVD法において、BP、を添加した5i014
の外部加熱による酸化によってクラッドを形成すること
により、熱履歴による屈折率変化の少ない光伝送用素材
を製造する方法(特公昭5’8−1051号公報)が知
られているが、屈折率を低下させる効果はBに比較して
rは著しく/1)さいが、!を少量添加することにより
、ドープされたシリカのクラッド層と高純度石英ガラス
からなるコアとの線膨張係数の差による亀裂を防ぐ効果
がある。しかしながらBの最適の添加量とFの最適の添
加量は各々異なるためBF、として添加すると充分な効
果が望めないという問題がある。
(発明の目的) 本発明は以上の点に着目してなされたもので、熱履歴に
安定な低屈折率のドープされたシリカ層をクラッドとす
る光伝送用素材を、外部加熱(間接加熱)による酸化に
よってシリカを生成する3iCj、へのドーパントとし
て適当な添加物としてBBr3とS i F4を用いる
ことにより製造する方法を提供することをその目的とす
る。
(発明の概要) 本発明は即ち、高純度石英ガラスからなるコアとドープ
された石英ガラスまたは高ケイ酸ガラスからなるクラッ
ドの複合体を線引きすることよりなる光伝送用素材の製
造方法において、BBr3およびSiF4を同時に添加
した8101+の外部加熱による酸化によって、ドープ
されたシリカを石英ガラスまたは高ケイ酸ガラスの管内
壁もしくは石英ガラス棒の外側面に析出せしめ、この析
出したドープされたシリカ層をクラフトとすることを特
徴とする光伝送用素材の製造方法にある。
本発明方法において、5i014に対するBBr3およ
びSiF4の混合比率はモル比で40%以下の範囲であ
り、これを越える混合比率範囲では、ドープされたシリ
カの析出速度が低下し不適当である。また、上記BBr
3およびSiF4を同時に添加したSiCl4を石英ガ
ラス管または高ケイ酸ガラス管に導入し酸化反応を行な
わせる場合には水分の混入をさけるために、それら石英
ガラス管または高ケイ酸ガラス管を酸水素炎、高周波炉
等を用いて外部加熱(間接加熱)する。加熱温度は10
00″C〜1600℃の範囲が望ましい。
(発明の実施例) 本発明方法の一例について述べる。
SiO!、を恒温槽で一定温度となし、このSiCl2
にキャリアガスとしての0.と、ドーパントとしてのB
Br3およびSiF4の所定量を混合器で混合し、石英
ガラスの反応管に導入する。
この反応管は気相反応速度を早めるために、酸水素炎ま
たは高周波炉等により外部より加熱される。
さらに、この反応管は以上のように得られる反応管内壁
への反応生成物の析出にともない該析出層の均質性維持
のために、適宜回転機構により定速回転させるのが好ま
しい。クラッドとして所要厚さを析出させた後、高純度
石英ガラスから成る石英ガラス棒1を挿入してコアとし
、加熱温度を上昇させ溶着し、次いで線引き工程を経て
光伝送用素材とする。
次に本発明を実施例によってさらに具体的に説明するが
、本発明は要旨を越えない限り以下の実施例に限定され
るものではない。
実施例1 0□で濃度10%に希釈された5ill、にモル比12
%のBBrBとモル比6%のSiF4を混合して得られ
た混合ガスを、1400°Cに加熱した石英ガラスの反
応管中に導入し、ドープされたシリカを該管内壁に析出
させ、次いで加熱温度を約2000″Cまで徐々に上昇
させて装管の中空部をつぶし、屈折率測定用試料を得た
。ドープされた石英ガラスの屈折率は1.4520であ
った。
この試料を2000″Cに加熱後急冷して屈折率を測定
したところ、1.4520であり、さらに、この同じ試
料を800℃で2時間加熱後徐冷して屈折率を測定した
ところ、1.4520であって、熱処理による屈折率の
変化は認められなかった。
実施例2 内壁を清浄にした石英ガラス管(内径16fi)に高純
度合成石英ガラス俸(外径6簡)を同軸状に挿入し、ガ
ラス旋盤で毎分50回転させ、該石英ガラス管と該高純
度合成石英ガラス棒間の間隙にO7で濃度10%に希釈
した5iCj4を毎分850111供給した。酸水素バ
ーナーを該石英ガラス管に沿ってO3とSiC!14の
混合ガスの流れの方向に1分間7C11の速度で移動さ
せなから該石英ガラス管を1400″Cに加熱した。該
バーナーの移動を2回繰り返した後、0.と5i074
の混合ガスにBBr3とS i F、をSiCl4に対
するモル比でそれぞれ0.6%、0,3%混合し、該バ
ーナーの移動による加熱を2回繰り返した。
次いで、BBr3 とS、iF4の混合量を5iCt4
に対しそれぞれ10%、5%として上述と同様の加熱を
2回行ない、さらにBBr3とsir、の量を8i0j
4に対して30%、15%として上述と同様の加熱を5
回行なった後、湿度をさらに上げて骸骨と該棒間の空隙
をつぶして光伝送用素材を得た。
これを線引き装置によりコア径50μ間、外径125μ
諺の光ファイバとした後、光透過損失を測定したところ
3dB/Ks+であり、ドープされた石英ガラス層が光
伝送用ファイバのクラッドとして役立つことがs詔され
た。
実施例3 旋盤ニセットし毎分50回転させた石英ガラス管(内径
12+111)に、0!で濃度10%に希釈した8i0
14 と、8i0j4に対するモル比がそれぞれ20%
、10%のBBraと8iF4との混合ガスを毎分50
0111供給しておき、酸水素バーナーを該石英ガラス
管に沿って該混合ガスの流れの方向に1分間7CIKの
速度で移動しながら該石英ガラス管を1500°Cに力
a熱してクラッドとなるドープされたシリカを析出させ
た。酸水素バーナーによる加熱ゾーンの移動を20回繰
り返した後、加熱ならびに8r014の供給を止めて、
石英ガラス管中にOlのみをわずかに流した状態で、コ
アとなるべき高純度石英ガラス俸(外径6s$lI)を
該石英ガラス管の軸に合わせて挿入し、再び酸水素バー
ナーにより加熱して該石英ガラス管と挿入した高純度石
英ガラス欅を溶着させ、光伝送用素材を得た。ドープさ
れたクラッドの厚さは0、4 m、屈折率は1.451
3であり、これを温度2000’C,毎分5011で線
引きした後のドープされたクラッド層の屈折率は1.4
513であった。
(発明の効果) 以上説明した本発明の光伝送用素材の製造方法は、BB
r3とS i F4の同時添加により熱履歴による屈折
率変化のきわめて少ないドープされたシリカ層をクラッ
ドとする光伝送用素材の製造方法を提供するもので、さ
らに屈折率を下げるドーパントとしてのBと、膨張、収
縮による亀裂を防ぐためのFを異なるガスとして供給す
ることにより、容易にBとFの最適量を添加させること
ができるので、その工業的価値は高い。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実ffNの説FiA図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 高純度石英ガラスからなるコアとドープされ、た石英ガ
    ラスまたは高ケイ酸ガラスからなるクラッドの複合体を
    線引きすることにより光伝送用の素材を製造する方法に
    おいて、外部加熱によりBBr_3およびSiF_4を
    同時に添加したSiCl_4を酸化させ、ドープされた
    シリカを石英ガラスまたは高ケイ酸ガラスの管内壁もし
    くは石英ガラス棒の外側面に析出せしめ、この析出した
    シリカ層をクラッドとすることを特徴とする光伝送用素
    材の製造方法。
JP19238785A 1985-08-30 1985-08-30 光伝送用素材の製造方法 Pending JPS6252137A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1061054A1 (en) * 1999-06-18 2000-12-20 Lucent Technologies Inc. Method of making optical fiber by a rod-in tube process and fiber made by the method
CN102180584A (zh) * 2011-02-18 2011-09-14 银锐明 高纯石英砂生产中气液包裹体及杂质去除方法

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