JPS625202Y2 - - Google Patents

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JPS625202Y2
JPS625202Y2 JP11141780U JP11141780U JPS625202Y2 JP S625202 Y2 JPS625202 Y2 JP S625202Y2 JP 11141780 U JP11141780 U JP 11141780U JP 11141780 U JP11141780 U JP 11141780U JP S625202 Y2 JPS625202 Y2 JP S625202Y2
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JP
Japan
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water
stop plate
tank
opening
inlet box
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Expired
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JP11141780U
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English (en)
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JPS5735832U (ja
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Publication date
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Publication of JPS625202Y2 publication Critical patent/JPS625202Y2/ja
Expired legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、直交型気液接触塔の充填物の上方に
配設された散水槽へ均等な給水を行なわせる目的
の給水装置に関するものである。
従来、クーリングタワー等の気液接触塔の散水
槽へ給水するには第3図に示す如き装置が使用さ
れている。同図において、10は充填物、11は
該充填物の上方に配設された散水槽、12は該散
水槽11の上方に垂直に設けた給水管、13は該
給水管12の口部を包囲した水入口ボツクス、1
4は該水入口ボツクス13内に給水管12の口部
から下方に間隔をおいて設けた止水板、15は該
止水板14の外周縁と水入口ボツクス13の内周
面との間に存する間隙、16は上記水入口ボツク
ス13の下辺に設けた開口部であつて、給水管1
2から落下する循環水は止水板14に衝突して周
方へ拡がり間隙15から開口部16を通過して散
水槽11に分布し底面の散水孔17から充填物1
0へ雨下する。
しかし、上記の給水管12から落下する循環水
の水勢は上記止水板14によつては効果的に弱め
られず、強い水勢を持つたまま間隙15から開口
部16へ直通的に流出するので、その強い水勢の
ため水面は波立ち、殊に散水槽の周辺部へ向つて
突進し周辺部では水面が盛り上つて水位が高くな
り、散水槽の諸所に水位の高低差が生じ、散水孔
17から流下する水量に差が生ずることは避け難
い。また循環水の水勢が強いまま前記の如く散水
槽へ給水されることによりこの水が散水槽底面を
走るためその流れの方向に水量が偏つて水位の差
を生ずることも避け難い。このような原因で循環
水の散布が不均一になることは免れ難い欠点で
る。
本考案は、如上の欠点に鑑み、そのような欠点
のない給水装置を提供すべくなしたもので、散水
槽の上方に設けた給水管の口部を包囲する水入口
ボツクス内に給水管の口部に対向して止水板を設
け、水入口ボツクスの下辺には開口部を設けると
ともに、散水槽底面から上記止水板周辺部までの
高さH1を散水槽底面から上記開口部の上縁まで
の高さH0よりも高くして上記止水板の周辺下方
に乱流スポツトを形成したことを特徴とする気液
接触塔の給水装置に関する。
以下、本考案を第1図及び第2図によつて説明
すると、両図の均等部分は同一符号で示され、1
は散水槽、2は給水管、3は水入口ボツクス、4
は止水板、5は該止水板4の周辺部下方に形成さ
れた乱流スポツト、6は上記水入口ボツクス3の
下辺に設けた通水用の開口部、7は散水槽底面の
散水孔である。
第1図では、止水板4の周辺部を水平板としそ
れより中央部に凹入部4′を形成し、この凹入部
4′の裏面を散水槽1の底面から適度に離して該
止水板4を給水管2の口部に対向して支持し、該
止水板4の外周縁と水入口ボツクス3の周壁内面
との間には適度の間隙5′を形成する。しかも、
散水槽1の底面から上記止水板4の周辺部までの
高さH1は散水槽1の底面から水入口ボツクス3
の上記開口部6の上縁までの高さH0よりも高く
して前記止水板4の周辺部下方に空間5を形成し
この空間を乱流スポツトとする。
この様に構成すると、給水管2から落下する循
環水は止水板4の凹部4′に溜り、該止水板周辺
の水平部を越えて間隙5′から下方の乱流スポツ
ト空間5に巻込まれて渦巻状の乱流を生じエネル
ギーを消費して水勢は充分に弱められて開口部6
から流出し、散水槽1に全面均等に分布して水面
Lに高低差が生じないから、循環水は散水槽底面
の各散水孔7から均等に流下し散布が均一に行な
われる。
第2図では、止水板4を平面板となし、その外
周縁と水入口ボツクス3の周壁内周面との間には
間隙5′を形成し、散水槽底面から上記止水板4
までの高さH1は散水槽底面から上記水入口ボツ
クス3の下辺に存する開口部6の上縁までの高さ
H0よりも高くして該止水板4の周辺部下方に乱
流スポツト5を形成し、更に上記開口部6の上縁
には内向縁6′を水平に設ける。なお止水板4の
中央部裏面と散水槽1の底面との間には網等の緩
衝材8を備える。
この様に構成すると、給水管2から落下する循
環水は止水板4の上面に衝突して四方へ流れ、間
隙5′から内向縁6′を介して止水板4の周辺部下
方の乱流スポツト5へ巻込まれる状態で流入し、
該空間において四方からの流入水が衝突し、渦を
生じ、乱流となり、エネルギーを消費して水勢は
充分に弱められ、その結果開口部6から散水槽へ
流出する循環水は全面に均等に分布し、水面の高
低差が生じないから、循環水は散水槽底面の各散
水孔7から均等に流下し散布が均一に行なわれ
る。
なお止水板4の中央部裏面と散水槽1の底面と
の間に緩衝材8を備えると、これに循環水が衝突
することにより、一層効果的に水勢を弱め散水を
均一にする効果多大である。
本考案は、以上の如く止水板の周辺部下方に乱
流スポツトを形成したので該止水板上に落下した
循環水の水勢を上記空間における乱流によつて弱
め、その結果散水槽へ供給される水面の波立ちや
水位の高低差を生ぜず、槽底面の各散水孔から流
下する水量は均等化し循環水の散布が均一に行な
われ、冷却性能を充分に発揮し、実用上の効果多
大である。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は本考案の二実施例を示す各
切断正面図、第3図は従来の例を示した切断正面
図である。 1は散水槽、2は給水管、3は水入口ボツク
ス、4は止水板、5は乱流スポツト、6は開口部
である。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 散水槽の上方に設けた給水管の口部を包囲する
    水入口ボツクス内に給水管の口部に対向して止水
    板を設け、水入口ボツクスの下辺には開口部を設
    けるとともに散水槽底面から上記止水板周辺部ま
    での高さH1を散水槽底面から上記開口部の上縁
    までの高さH0よりも高くして上記止水板の周辺
    下方に乱流スポツトを形成したことを特徴とする
    気液接触塔の給水装置。
JP11141780U 1980-08-06 1980-08-06 Expired JPS625202Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11141780U JPS625202Y2 (ja) 1980-08-06 1980-08-06

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11141780U JPS625202Y2 (ja) 1980-08-06 1980-08-06

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5735832U JPS5735832U (ja) 1982-02-25
JPS625202Y2 true JPS625202Y2 (ja) 1987-02-06

Family

ID=29472524

Family Applications (1)

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JP11141780U Expired JPS625202Y2 (ja) 1980-08-06 1980-08-06

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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59101195U (ja) * 1982-12-23 1984-07-07 日本碍子株式会社 窯業製品焼成用棚板
JP2512149Y2 (ja) * 1988-07-20 1996-09-25 日本電気株式会社 台 盤
JPH0645831Y2 (ja) * 1989-03-01 1994-11-24 日本碍子株式会社 匣 鉢
JP7243057B2 (ja) * 2018-07-12 2023-03-22 株式会社Ihi 気液接触装置

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JPS5735832U (ja) 1982-02-25

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