JPS624867A - 薄膜形成装置 - Google Patents
薄膜形成装置Info
- Publication number
- JPS624867A JPS624867A JP14427685A JP14427685A JPS624867A JP S624867 A JPS624867 A JP S624867A JP 14427685 A JP14427685 A JP 14427685A JP 14427685 A JP14427685 A JP 14427685A JP S624867 A JPS624867 A JP S624867A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rolls
- long
- roll
- thin film
- dust removal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は、スパッタリングや真空蒸着等を用いて長尺
フィルムに薄膜を形成する薄膜形成装置に関する。
フィルムに薄膜を形成する薄膜形成装置に関する。
（従来の技術）
従来、薄膜形成装置は、第３図に示すように送出しロー
ル３１に巻かれた長尺フィルム３２を回転ロール３３〜
３８を介して巻取リコール３Ｓで巻き取っていき、この
とき回転ロール３５の回転とともに走行しているフィル
ム上に、蒸発源４０から飛び出した粒子４１を飛着させ
て薄膜を形成させている。
ル３１に巻かれた長尺フィルム３２を回転ロール３３〜
３８を介して巻取リコール３Ｓで巻き取っていき、この
とき回転ロール３５の回転とともに走行しているフィル
ム上に、蒸発源４０から飛び出した粒子４１を飛着させ
て薄膜を形成させている。
そして前記粒子４１がフィルム３２以外に付着するのを
防止するために、防着板４２を蒸発源４０と回転ロール
３５との間に設けている。
防止するために、防着板４２を蒸発源４０と回転ロール
３５との間に設けている。
（本発明が解決しようとする問題点）
しかしながら、前記防着板４２では粒子４１がフィルム
３２以外に付着するのを完全に防止することができず、
このため長時間装置を稼動すると真空室の内壁（図示せ
ず）や回転ロール３３〜３８のフィルム３２が接してな
い部分に粒子が飛着し、次第に堆積して薄膜を形成する
。
３２以外に付着するのを完全に防止することができず、
このため長時間装置を稼動すると真空室の内壁（図示せ
ず）や回転ロール３３〜３８のフィルム３２が接してな
い部分に粒子が飛着し、次第に堆積して薄膜を形成する
。
一般に蒸発源４０から遠ざかるにしたかって粒子の温度
が下がるので、その薄膜の付着力が弱く、このため薄膜
は約０．５〜１００ ｇｍの大きさの微粉となって剥れ
脱落する。そしてその微粉が回転ロール３３〜３８等の
表面に付着して突起物となり、回転ロール３３〜３８に
よって走行される長尺フィルム３２の表面がその突起物
によって凹凸になり、品質が低下してしまう問題があっ
た。
が下がるので、その薄膜の付着力が弱く、このため薄膜
は約０．５〜１００ ｇｍの大きさの微粉となって剥れ
脱落する。そしてその微粉が回転ロール３３〜３８等の
表面に付着して突起物となり、回転ロール３３〜３８に
よって走行される長尺フィルム３２の表面がその突起物
によって凹凸になり、品質が低下してしまう問題があっ
た。
この発明は、上記問題を解消することのできる薄膜形成
装置を提供することを目的とする。
装置を提供することを目的とする。
（問題点を解決するための手段）
この発明は、上記の目的を達成するために、回転ロール
に付着した微粉を取り除く除塵手段を設けたものである
。
に付着した微粉を取り除く除塵手段を設けたものである
。
（本発明の作用）
回転ロールに付着した微粉が除塵手段によって取り除か
れる。
れる。
（本発明の効果）
回転ロールに付着した微粉が取り除かれるので、長尺フ
ィルムの表面に凹凸が生じない、したがって凹凸による
品質が低下してしまうことがない。
ィルムの表面に凹凸が生じない、したがって凹凸による
品質が低下してしまうことがない。
（本発明の実施例）
第１図において、ｌは送出しロールで、厚さ５０ルｍ１
幅５００ｍ層、長さ５２０ｍの長尺フィルム２が巻かれ
ている。３は巻取りロールで回転ロール４〜８を介して
長尺フィルム２を巻き取るようになっている。９〜１３
は粘若性除塵用ラバーをロール化した除塵ロールで、前
記回転ロール４〜８に当接してその回転ロールの回転と
ともに回転するように設置されている。 １４は蒸発源
、１５は防着板である。
幅５００ｍ層、長さ５２０ｍの長尺フィルム２が巻かれ
ている。３は巻取りロールで回転ロール４〜８を介して
長尺フィルム２を巻き取るようになっている。９〜１３
は粘若性除塵用ラバーをロール化した除塵ロールで、前
記回転ロール４〜８に当接してその回転ロールの回転と
ともに回転するように設置されている。 １４は蒸発源
、１５は防着板である。
いま長尺フィルム２を図示のようにセットし、巻取りロ
ール３で長尺フィルム２を巻きとりながら１例えばスパ
ッタによって蒸発源１４から粒子を飛ばして、Ａ部で薄
膜を形成させる。このとき回転ロール４〜８の回転によ
って除塵ロール９〜１３が回転し、回転ロール４〜８に
微粉が付着していれば、その微粉が除塵ロール９〜１３
に付着し１回転ロール４〜８から微粉が取り除かれる。
ール３で長尺フィルム２を巻きとりながら１例えばスパ
ッタによって蒸発源１４から粒子を飛ばして、Ａ部で薄
膜を形成させる。このとき回転ロール４〜８の回転によ
って除塵ロール９〜１３が回転し、回転ロール４〜８に
微粉が付着していれば、その微粉が除塵ロール９〜１３
に付着し１回転ロール４〜８から微粉が取り除かれる。
第２図は他の実施例を示したもので、２１〜２５は粘着
性除塵用ラバーで構成した無端ベルトで、一対のローラ
２８〜３０に巻回されて回転ロール４〜８に当接し、回
転ロール４〜８の回転とともに回転移動するようになっ
ている。無端ベルト２１〜２５の作用は上記と同様なの
でその説明は省略する。
性除塵用ラバーで構成した無端ベルトで、一対のローラ
２８〜３０に巻回されて回転ロール４〜８に当接し、回
転ロール４〜８の回転とともに回転移動するようになっ
ている。無端ベルト２１〜２５の作用は上記と同様なの
でその説明は省略する。
なお前記除塵ロール９〜１３はその表面だけを粘着性除
塵用ラバーで構成してもよく、また前記無端ベル）２１
〜２５を長尺ベルトにして、回転ロール４〜８の回転と
ともに走行するようにしてもよい、また除塵ロールと無
端ベルトとを混用してもよいことは勿論である。
塵用ラバーで構成してもよく、また前記無端ベル）２１
〜２５を長尺ベルトにして、回転ロール４〜８の回転と
ともに走行するようにしてもよい、また除塵ロールと無
端ベルトとを混用してもよいことは勿論である。
第１図はこの発明の実施例の概略図、第２図は他の実施
例の概略図、第３図は従来の薄膜形成装置の説明図であ
る。
例の概略図、第３図は従来の薄膜形成装置の説明図であ
る。
Claims (1)
- 真空室内で、送出しロールに巻かれた長尺フィルムを、
回転ロールを介して巻取りロールで巻き取りながら、蒸
発源から飛び出した粒子を前記長尺フィルム上に飛着さ
せて薄膜を形成させる装置において、前記回転ロールに
付着した微粉を取り除く除塵手段を設けたことを特徴と
する薄膜形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14427685A JPS624867A (ja) | 1985-07-01 | 1985-07-01 | 薄膜形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14427685A JPS624867A (ja) | 1985-07-01 | 1985-07-01 | 薄膜形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS624867A true JPS624867A (ja) | 1987-01-10 |
Family
ID=15358322
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14427685A Pending JPS624867A (ja) | 1985-07-01 | 1985-07-01 | 薄膜形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS624867A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021102792A (ja) * | 2019-12-24 | 2021-07-15 | 日立造船株式会社 | 蒸着装置、及び蒸着膜を形成した基材の製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5619626A (en) * | 1979-07-26 | 1981-02-24 | Toshiba Corp | Manufacture of semiconductor device |
-
1985
- 1985-07-01 JP JP14427685A patent/JPS624867A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5619626A (en) * | 1979-07-26 | 1981-02-24 | Toshiba Corp | Manufacture of semiconductor device |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021102792A (ja) * | 2019-12-24 | 2021-07-15 | 日立造船株式会社 | 蒸着装置、及び蒸着膜を形成した基材の製造方法 |
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