JPS6247473A - 貴金属被膜の形成方法 - Google Patents
貴金属被膜の形成方法Info
- Publication number
- JPS6247473A JPS6247473A JP18400985A JP18400985A JPS6247473A JP S6247473 A JPS6247473 A JP S6247473A JP 18400985 A JP18400985 A JP 18400985A JP 18400985 A JP18400985 A JP 18400985A JP S6247473 A JPS6247473 A JP S6247473A
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- JP
- Japan
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- metallic film
- film
- substrate
- thin film
- noble metallic
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、貴金属被膜の形成方法に関する。更に詳しく
は、気相法による基質上への貴金属被膜の形成方法に関
する。
は、気相法による基質上への貴金属被膜の形成方法に関
する。
〔従来の技術〕および〔発明が解決しようとする問題点
〕従来、ガラス、セラミックス、ステンレススチール、
アルミニウム、塩化ビニル樹脂、ポリイミド樹脂、Ｓｉ
Ｏ□、Ｓｉ３Ｎ、などの絶縁被膜を表面に形成させたシ
リコンウェハーなどの基板などよりなる各種基質上に、
スパッタリング法、イオンブレーティング法、蒸着法な
どの気相法により、貴金属被膜を形成させる場合には、
基質と貴金属被膜との間に密着性がないため、クロムな
どの基質に対して密着性の強い材料で中間薄膜層を一旦
形成させた後、この薄膜層を貴金属被膜で被覆する方法
が一般に用いられている。
〕従来、ガラス、セラミックス、ステンレススチール、
アルミニウム、塩化ビニル樹脂、ポリイミド樹脂、Ｓｉ
Ｏ□、Ｓｉ３Ｎ、などの絶縁被膜を表面に形成させたシ
リコンウェハーなどの基板などよりなる各種基質上に、
スパッタリング法、イオンブレーティング法、蒸着法な
どの気相法により、貴金属被膜を形成させる場合には、
基質と貴金属被膜との間に密着性がないため、クロムな
どの基質に対して密着性の強い材料で中間薄膜層を一旦
形成させた後、この薄膜層を貴金属被膜で被覆する方法
が一般に用いられている。
しかしながら、このような中間薄膜層を形成させても、
密着力はそれ程大きくなる訳ではないので、屈曲部分な
ど変形の大きい部分や摺動を伴なうような厳しい用途の
部分に用いられた場合には、剥離などが生ずるため寿命
が短かく、耐久性に欠けるという欠点がみられる。
密着力はそれ程大きくなる訳ではないので、屈曲部分な
ど変形の大きい部分や摺動を伴なうような厳しい用途の
部分に用いられた場合には、剥離などが生ずるため寿命
が短かく、耐久性に欠けるという欠点がみられる。
本発明者は、かかる課題の解決方法を求めて種々検討し
た結果、中間薄膜層としてクロムなどに代えてオルガノ
シリコンから形成させた薄膜を用いることにより、かか
る課題か効果的に解決されることを見出した。
た結果、中間薄膜層としてクロムなどに代えてオルガノ
シリコンから形成させた薄膜を用いることにより、かか
る課題か効果的に解決されることを見出した。
従って、本発明は貴金属被膜の形成方法に係り、貴金属
被膜の形成は、基質上にオルガノシリコン薄膜を形成さ
せた後、気相法により該薄膜を資金Ｊ１１被膜で被覆す
ることにより行われる。
被膜の形成は、基質上にオルガノシリコン薄膜を形成さ
せた後、気相法により該薄膜を資金Ｊ１１被膜で被覆す
ることにより行われる。
前述の如き各種基質上へのオルガノシリコン薄膜の形成
は、基質表面を洗剤、有機溶剤などを用いて洗浄した後
、一般にプラズマ重合反応によって行われる。プラズマ
重合されるオルガノシリコンとしては、例えばテトラエ
チルシラン、トリエチルシラン、テトラエチルシラン、
ヘキサメチルジシロキサン、１−リメチルシリルジメチ
ルアミン、１ヘリエチルシラザン、ヘキサメチルジシラ
ザン、ヘキサメチルシクロ１〜リシラザンなどが用いら
れるが、中でも含窒素オルガノシリコンが好んで用いら
れる。
は、基質表面を洗剤、有機溶剤などを用いて洗浄した後
、一般にプラズマ重合反応によって行われる。プラズマ
重合されるオルガノシリコンとしては、例えばテトラエ
チルシラン、トリエチルシラン、テトラエチルシラン、
ヘキサメチルジシロキサン、１−リメチルシリルジメチ
ルアミン、１ヘリエチルシラザン、ヘキサメチルジシラ
ザン、ヘキサメチルシクロ１〜リシラザンなどが用いら
れるが、中でも含窒素オルガノシリコンが好んで用いら
れる。
プラズマ重合は、通常用いられている重合反応条件に従
って行われ、厚さが約１００〜１００ＱＯ人程度のプラ
ズマ重合膜が、ピンホールなどがなく均一な状態で基質
上に形成される。
って行われ、厚さが約１００〜１００ＱＯ人程度のプラ
ズマ重合膜が、ピンホールなどがなく均一な状態で基質
上に形成される。
このようにして形成されたオルガノシリコン薄膜は、貴
金属被膜で被覆される。貴金属被膜の形成は、金、銀、
白金などの貴金属を前記した如き各種の気相法、好まし
くはスパッタリング法により、従来と同様にして行われ
る。この際、例えば電極を形成させる場合など必要な部
分にのみ被膜を形成させる場合には、他の部分をマスキ
ングしてスパッタリングが行われる。
金属被膜で被覆される。貴金属被膜の形成は、金、銀、
白金などの貴金属を前記した如き各種の気相法、好まし
くはスパッタリング法により、従来と同様にして行われ
る。この際、例えば電極を形成させる場合など必要な部
分にのみ被膜を形成させる場合には、他の部分をマスキ
ングしてスパッタリングが行われる。
各種基質上に貴金属被膜を形成させる際、それに先立っ
てオルガノシリコン薄膜をプラズマ重合法などによって
形成させることにより、高い密着力がそこに得られろ。
てオルガノシリコン薄膜をプラズマ重合法などによって
形成させることにより、高い密着力がそこに得られろ。
この結果、従来貴金属被覆を行なうことのできなかった
屈曲や摺動を伴なう部分にも本発明方法は有効に適用す
ることができ、例えばベローズや電気接点などに効果的
に適用することかできる。また、これ以外にも、前にも
言及した電極やガラス、陶器類などへの絵柄の形成の際
などにも、本発明方法は適用される。
屈曲や摺動を伴なう部分にも本発明方法は有効に適用す
ることができ、例えばベローズや電気接点などに効果的
に適用することかできる。また、これ以外にも、前にも
言及した電極やガラス、陶器類などへの絵柄の形成の際
などにも、本発明方法は適用される。
次に、実施例について本発明を説明する。
実施例１
ガラス板を中性洗剤およびインプロパツールでｌｆｆ１
’ｆ次洗浄した後、１〜リメチルシリルジメチルアミン
のプラズマ重合をモノマー圧力０ 、０５Ｔｏｒｒ、高
周波電力２０Ｗ、時間２分間の条件下で行ない、ガラス
板上に所定の厚さのプラズマ重合膜を形成させた。その
後、金のスパッタリングをアルゴン圧力５ Ｘ １０−
’Ｔｏｒｒ、放電圧力８ Ｘ １Ｏ−２Ｔｏｒｒ、高周
波電力２０Ｗ、時間１０分間の条件下で行ない、トリメ
チルシリルジメチルアミンのプラズマ重合膜を金の被膜
（膜厚１０００人）で被覆し、メンディングテープによ
る剥離試験を行なった。比較のために、プラズマ重合膜
を形成させなかったものおよびプラズマ重合１漠の代り
に従来法にならいクロム蒸着膜を中間薄膜層として形成
させたものについても、同様の剥離試験を行なった。得
られた結果は、次の表１に示される。
’ｆ次洗浄した後、１〜リメチルシリルジメチルアミン
のプラズマ重合をモノマー圧力０ 、０５Ｔｏｒｒ、高
周波電力２０Ｗ、時間２分間の条件下で行ない、ガラス
板上に所定の厚さのプラズマ重合膜を形成させた。その
後、金のスパッタリングをアルゴン圧力５ Ｘ １０−
’Ｔｏｒｒ、放電圧力８ Ｘ １Ｏ−２Ｔｏｒｒ、高周
波電力２０Ｗ、時間１０分間の条件下で行ない、トリメ
チルシリルジメチルアミンのプラズマ重合膜を金の被膜
（膜厚１０００人）で被覆し、メンディングテープによ
る剥離試験を行なった。比較のために、プラズマ重合膜
を形成させなかったものおよびプラズマ重合１漠の代り
に従来法にならいクロム蒸着膜を中間薄膜層として形成
させたものについても、同様の剥離試験を行なった。得
られた結果は、次の表１に示される。
表１
雁プラズマ重合膜（人）久巨Ａ履塵暖りひ 評価１
全面的に剥離３７
５０ 約５０％剥離 ４、 １０００５１００
剥離なし実施例２ 実施例１において、基質としてガラス板の代りにＳＵＳ
３０４板（厚さ０．１．ｍｍ）を用い、プラズマ重合
によるトリメチルシリルジメチルアミン重合膜の形成お
よびスパッタリング法による金被膜（膜厚１０００人）
の被覆を順次行ない、１８０°折り曲げによる屈曲試験
を実施した。得られた結果は、次の表２に示される。
全面的に剥離３７
５０ 約５０％剥離 ４、 １０００５１００
剥離なし実施例２ 実施例１において、基質としてガラス板の代りにＳＵＳ
３０４板（厚さ０．１．ｍｍ）を用い、プラズマ重合
によるトリメチルシリルジメチルアミン重合膜の形成お
よびスパッタリング法による金被膜（膜厚１０００人）
の被覆を順次行ない、１８０°折り曲げによる屈曲試験
を実施した。得られた結果は、次の表２に示される。
表２
欣プラズマ重合■別メ〕クロム人在臥すσ−」１帽−−
１剥離する ５１００ 剥離しない以上
の結果から、オルガノシリコンプラズマ重合膜の形成は
、その膜厚が非常に薄くとも、良好な密着性を与えるこ
とが分かる。
１剥離する ５１００ 剥離しない以上
の結果から、オルガノシリコンプラズマ重合膜の形成は
、その膜厚が非常に薄くとも、良好な密着性を与えるこ
とが分かる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、基質上にオルガノシリコン薄膜を形成させた後、気
相法により該薄膜を貴金属被膜で被覆することを特徴と
する貴金属被膜の形成方法。 ２、オルガノシリコン薄膜が含窒素オルガノシリコン薄
膜である特許請求の範囲第１項記載の貴金属被膜の形成
方法。 ３、オルガノシリコン薄膜の形成がプラズマ重合法によ
り行われる特許請求の範囲第１項または第２項記載の貴
金属被膜の形成方法。 ４、気相法による貴金属被膜の被覆がスパッタリング法
により行われる特許請求の範囲第１項記載の貴金属被膜
の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18400985A JPS6247473A (ja) | 1985-08-23 | 1985-08-23 | 貴金属被膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18400985A JPS6247473A (ja) | 1985-08-23 | 1985-08-23 | 貴金属被膜の形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6247473A true JPS6247473A (ja) | 1987-03-02 |
Family
ID=16145728
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18400985A Pending JPS6247473A (ja) | 1985-08-23 | 1985-08-23 | 貴金属被膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6247473A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5845735A (en) * | 1995-12-23 | 1998-12-08 | Daimler-Benz Ag | Control element arrangement for controlling the longitudinal movement and/or the lateral movement of a motor vehicle |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5541180A (en) * | 1978-09-19 | 1980-03-22 | Tokyo Electric Power Co | Device for searching loop time limit type accident |
| JPS5857508A (ja) * | 1981-09-24 | 1983-04-05 | アルトウロ・ギレルモ・バレラ・ヘルナンデヌ | ワイヤ−連結固定具 |
-
1985
- 1985-08-23 JP JP18400985A patent/JPS6247473A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5541180A (en) * | 1978-09-19 | 1980-03-22 | Tokyo Electric Power Co | Device for searching loop time limit type accident |
| JPS5857508A (ja) * | 1981-09-24 | 1983-04-05 | アルトウロ・ギレルモ・バレラ・ヘルナンデヌ | ワイヤ−連結固定具 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5845735A (en) * | 1995-12-23 | 1998-12-08 | Daimler-Benz Ag | Control element arrangement for controlling the longitudinal movement and/or the lateral movement of a motor vehicle |
| US6446747B1 (en) | 1995-12-23 | 2002-09-10 | Daimlerchrysler Ag | Control element arrangement for controlling the longitudinal movement and/or the lateral movement of a motor vehicle |
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