JPS6246144A - クリ−ンル−ム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （技術分野〕 本発明は、クリーンルーム、特に、搬送領域の異物低減
技術に関Ｉし、例えば、半導体装置の製造工場に利用し
て有効なものに関する。

〔背景技術〕

半導体装置を製造するのに使用されるクリーンルームに
おいて、澱み層を無くすには全面垂直層流換気すること
が望ましい。

しかし、このように全面垂直層流換気するクリーンルー
ムにおいては、エネルギの消費が過大になるという問題
点がある。

一方、クリーンルームを循環する空気は電気炉周辺を除
いて全般には温度や湿度の変動が少ないため、全循環空
気を空気調和機に戻す必要はなく、温度および湿度調和
処理をせずに直ちにフィルタに供給しても差し支えない
。

そこで、このバイパス空気をクリーンルーム内に持ち込
むことにより、澱み層を無くしつつ、省エネルギを実現
するようにしたクリーントンネル方式と呼ばれるクリー
ンルームが提案された。

これは、一つの単位のクリーントンネルが中央の作業領
域とその両側に向かい合う処理領域、さらにその外側の
保全領域により構成されており、処理領域は作業領域よ
りも大きな換気回数で垂直層流を形成せしめ、床下へ下
りた空気の大部分は保全領域を空気の戻りダクトに利用
して空気調和機を通さず天井へ戻すようにしたものであ
る。

しかし、このようなりリーンルームにおいては、クリー
ンルームに隣接して設けられている搬送領域が塵埃の吹
き溜りとなるという問題点があることが、本発明者によ
って明らかにされた。

なお、異物低減技術を述べである例としては、日経マグ
ロウヒル社発行ｒＭＯ３ＬＳＩ製造技術」昭和６０年６
月２０日発行Ｐ１９２〜Ｐ１９９、がある。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、塵埃が搬送領域に吹き溜るのを防止す
ることができるクリーンルーム技術を提供することにあ
る。

本発明の前記ならびにその伯の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。

〔発明の概要〕

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。

垂直層流換気されているクリーントンネルに隣接して設
けられている搬送領域を垂直層流換気されるように構成
することにより、搬送領域に吹き込む塵埃を排気して、
塵埃の吹き溜りを防止するようにした。

〔実施例〕

第１図は本発明の一実施例であるクリーンルームを示す
一部切断部分斜視図、第２図はその概略平面図、第３図
はその概略部分縦断面図である。

本実施例において、このクリーンルーム１は複数のクリ
ーントンネル２が中央部の搬送領域３にそれぞれ隣接し
てペイ状に配置されており、作業者が何台もの装置を取
り扱うことができ、人の動きが少なくて済むレイアウト
になっている。

各クリーントンネル２は中央の作業領域４と、その両側
に向かい合う処理領域５．５と、さらにその外側の保全
領域６とによりそれぞれ構成されており、保全領域６は
隣りのクリーントンネル２と共用するように構成されて
いる。処理領域５には半導体装置を製造するための製造
装置７が複数台、それぞれ並べられて設置されており、
作業者（図示せず）が作業領域４において製造装置７を
操作するようになっている。

処理領域５および作業領域４の天井には第１および第２
吹出ダクト８．９がそれぞれ敷設されており、両ダクト
８．９の下面には第１および第２吹出口１０、工１が気
流を垂直下向きに吹き出せるようにそれぞれ開設されて
いる。そして、処理領域５における吹出口１０は作業領
域４の吹出口１１よりも低い位置に配設されている。処
理領域５の吹出ダクト８内の吹出口１０付近にはＨＥＰ
Ａ　（ｈｉｇｈ　　ｅｆ　ｆ　１ｃｉｅｎｃｙ　　ｐａ
ｒｔｉｃｕｌａｔｅ　　ａｉｒ）フィルタ１２が配設さ
れており、作業領域４の吹出ダクト９内にはＨＥＰＡフ
ィルタ１３が処理領域５の吹出ダクト８との境に配設さ
れている。

第１吹出ダクト８の吸込口１４には送風ｆｉ１５が設備
されておリシ送風機１５の吸引側には、新鮮な調和空気
（以下、エアという、）を供給するためのサプライダク
ト１６が接続されているとともに、保全領域６に接続さ
れている。サプライダクト１６は空気調和機１７に接続
されており、空気調和機１７は外気および循環エアを清
浄化するとともに、温度や湿度等をｔＪ！ｉ和するよう
に構成されている。

クリーンルーム１の床下にはリターンチャンバ１８が形
成されており、リターンチャンバ１８には吹出口を空気
調和機１７に接続されている（図示省略）リターンダク
ト１９が接続されている。

クリーントンネル２における作業領域４の床には吸込口
２０がリターンチャンバ１８に連通ずるように開設され
ており、吸込口２０にはグレーチング２１が建て込まれ
ている。

保全領域６の床にも吸込口２２がリターンチャンバ１８
に連通ずるように開設されており、この吸込口２２にも
グレーチング２３が建て込まれている。保全領域６と処
理領域５との仕切り２４にはルーバを育する連通口２５
が開設されている。

搬送領域３の床２６には吸込口２７がリターンチャンバ
１８に連通ずるように開設されており、吸込口２７には
グレーチング２８が建て込まれている。この吸込口２７
は搬送領域３の床２６の略中央部において略全長にわた
って細長く形成されており、その両脇の床上には台車や
作業者のための通路２９が実質的に構成されている。

搬送領域３の天井には第３の吹出ダクト３０が敷設され
ており、このダクト３０には吹出口３１が気流を垂直下
向きに吹き出せるように開設されている。第３吹出ダク
ト３０内の吹出口３１付近にはＨＥＰＡフィルタ３２が
配設されており、第３吹出ダクト３０の吸込口には、吸
引側を保全領域６に接続されている送風機が設備されて
いる（図示せず）。そして、この搬送領域３における内
圧がクリーントンネル２における内圧よりも若干低くな
るように、コントローラ（図示せず）は各吹出口および
各吸込口の風量等を制御する。

なお、第３図中、３３は一次更衣室、３４は二次更衣室
、３５は管理室、３６はマシン用エアシャワー室、３７
は受は入れ室である。

次に作用を説明する。

サブライダク）１６から供給されて来る新鮮なエアは送
風機１５を経て第１吹出ダクト８に流入する。第１吹出
ダクト８のエアの一部はＨＥＰＡフィルタ１２で除塵さ
れた後、第１吹出口１０から処理領域５に吹き出して垂
直層流を形成する。

また、第１吹出ダクト８のエアの一部は第２ＨＥＰＡフ
イルタ１３で除塵された後、第２吹出ダクト９に流入す
る。第２吹出ダクト９のエアはその吹出口１１から作業
領域４に吹き出して垂直層流を形成する。このとき、処
理領域５の垂直層流は作業領域４のそれよりも強（設定
される。

吹き出されたエアは作業領域４の吸込口２０から床下の
リターンチャンバ１８へ吸い込まれる。

リターンチャンバ１８に吸い込まれたエアの一部はリタ
ーンダクト１９を経て空気調和機１７に戻され、再空気
調和されて新鮮エアとしてサプライダクト１６に供給さ
れる。リターンチャンバ１８のエアの大部分は吸込口２
２から保全領域６に吸い込まれ、送風機１５を経て第１
吹出ダクト１６へ戻されて循環される。この循環により
、省工ぶルギが実現される。

ところで、搬送領域からクリーントンネルの塵埃の逆流
人を防止するため、搬送領域の内圧はクリーントンネル
の内圧よりも低圧に維持されている。このため、搬送領
域はクリーントンネルからエアが吹き込み、塵埃の吹き
溜りとなる。そして、搬送領域は作業者や物品の通過場
所であるため、ここに塵埃が吹き溜っていると、塵埃が
クリーントンネル内に持ち込まれる危険性がきわめて高
いことが、本発明者によって究明された。

本実施例においても、搬送領域３の内圧はクリーントン
ネル２の内圧よりも低圧に維持されているため、搬送領
域３にはクリーントンネル２からのエアが吹き込む。し
かし、この搬送領域３においては垂直層流換気が実施さ
れているため、塵埃の吹き溜りとなることはない。

すなわち、搬送領域３の天井に敷設されている第３吹出
ダクト３心には送風機により保全領域６またはサプライ
ダクト１６からのエアが供給される。このエアはＨＥＰ
Ａフィルタ３１で除塵された後、第３吹出口３２から搬
送領域３に吹き出して垂直層流を形成する。この垂直層
流により搬送領域３に吹き溜ろうとする塵埃は効果的に
排出されることになる。

搬送領域３に吹き出されたエアは吸込口２７から床下の
リターンチャンバ１８へ吸い込まれ、クリーントンネル
２からのエアと合流する。

搬送領域３では吸込口２７が床２６の略中央部に配され
てその両脇に通路２９が確保されているため、作業者の
歩行や物品搬送車の走行には支障が発生しない、また、
塵埃が吹き溜っていないため、作業者や搬送車等により
塵埃がクリーントンネル２内へ持ち運ばれることはない
。

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。

例えば、搬送領域の垂直層流に使用するエアはクリーン
トンネルのそれとは別の専用の換気系統により構成して
もよい。

搬送領域の通路は吸込口の両脇に配設するに限らず、吸
込口の片脇に配設してもよいし、床の全面に開設した吸
込口にグレーチングを建て込むことにより、グレーチン
グを通路として確保するようにしてもよい。

クリーントンネルおよび搬送領域のレイアウトはペイ方
式に限らない。

〔効果〕

（１）垂直層流換気されているクリーントンネルに隣接
して設けられている搬送領域を垂直層流換気されるよう
に構成することにより、搬送領域に吹き込む塵埃を排気
することができるため、吹き溜りを防止することができ
る。

（２）搬送領域に塵埃が吹き溜るのを防止することによ
り、塵埃がクリーントンネルに持ち込まれるのを抑制す
ることができるため、クリーントンネルの清浄度を高め
るとともに、クリーントンネルについての換気度を緩和
させることができ、省エネルギを促進することができる
。

（３１Ｗ！送領領域床に通路を確保することにより、作
業者や物品搬送車の通過に対する支障を回避することが
できるため、生産性の低下を防止することができる。

＋４）　　Ｉｌｌ送領域の垂直層流換気手段をクリーン
トンネルのそれに接続することにより、空気調和機等を
兼用することができるため、設備費用やランニングコス
ト等の増加を抑制することができる。

〔利用分野〕

以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である半導体装置の製造工
場におけるクリーンルームに通用した場合について説明
したが、それに限定されるものではなく、化学工場や医
療施設におけるクリーンルーム等にも通用することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例であるクリーンルームを示す
一部切断部分斜視図、 第２図はその概略平面図、 第３図はその概略部分縦断面図である。 １・・・クリーンルーム、２・・・クリーントンネル、
３・・・搬送領域、４・・・作業領域、５・・・処理領
域、６・・・保全領域、７・・・製造装置、８．９．３
０・・・吹出ダクト、１０．１１．３１・・・吹出口、
１２．１３．３２・・・ＨＥＰＡフィルタ、１６・・・
サプライダクト、１７・・・空気調和機、１８・・・リ
ターンチャンバ、１９・・・リターンダクト、２０．２
２．２７・・・吸込口、２１．２３．２８・・・グレー
チング、２４・・・仕切り、２５・・・連通口、２６・
・・床、２９・・・通路。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、垂直層流換気されているクリーントンネルに隣接し
   て設けられている搬送領域が垂直層流換気されるように
   構成されていることを特徴とするクリーンルーム。 ２、搬送領域が、クリーントンネルよりも低圧になるよ
   うに調整されていることを特徴とする特許請求の範囲第
   １項記載のクリーンルーム。 ３、搬送領域の床が、通路を確保するように構成されて
   いることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のクリ
   ーンルーム。 ４、搬送領域における垂直層流換気手段の吸込口が、床
   の略中央に配設されていることを特徴とする特許請求の
   範囲第１項記載のクリーンルーム。 ５、搬送領域における垂直層流換気手段が、クリーント
   ンネルの垂直層流換気手段に接続されていることを特徴
   とする特許請求の範囲第１項記載のクリーンルーム。