JPS6245398A - 廃水の高度処理装置 - Google Patents

廃水の高度処理装置

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JPS6245398A
JPS6245398A JP60186460A JP18646085A JPS6245398A JP S6245398 A JPS6245398 A JP S6245398A JP 60186460 A JP60186460 A JP 60186460A JP 18646085 A JP18646085 A JP 18646085A JP S6245398 A JPS6245398 A JP S6245398A
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JP
Japan
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ozone
treated water
treatment tank
ultrasonic treatment
tank
Prior art date
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Pending
Application number
JP60186460A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshihiro Iwabori
岩堀 恵祐
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Meidensha Electric Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Meidensha Electric Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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  • Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
  • Water Treatment By Sorption (AREA)
  • Physical Water Treatments (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 A 産業上の利用分野 本発明は、二次処理水に更に高次処理を!+u ”t−
、?:めの廃水の高度処理装置に関ずろ。
B1発明の概要 本発明は、二次処理水を高次処理するために濾過処理槽
と超音波処理槽とオゾン処理槽と吸着処理槽とから構成
した廃水の高度処理装置において、超音波処理槽とオゾ
ン処理槽とをひとつの槽にまとめろことにより、 装置をコンパクト化し、かつ廃水の処理性能を高めたも
のである。
C従来の技術 回転円板法や活性汚泥法を用いて処理された二次処理水
を工業用水として再利用したりあるい(ユ」−、、:r
’gを得ろにめに、近年二次処理水の高度処理が行なわ
れるようになってきた。
廃水を高度処理するにはいろいろな処理装置が考えられ
るが、その構成によって処理特性が異なるため単なる組
み合せ処理だけでは効率よくかつ安定して処理すること
ができない。
■) 発明が解決しようとする問題点 そこで本発明は、効率よく処理することのできろ廃水の
高度処理装置を提供することを目的とする。
l:I  問題点をill!i’決−4−ろための乎段
斯かる目的を達成するための本発明の構成は、二次処理
水を供給するための供給口を在するとと乙に15:′材
が交換可能な状態で収納されたろ過処理槽と、処理水に
オゾンを接触さけるためのオゾン接れ重器と超音波発生
器とが収納されろとともに水面下に役(jた越流部を介
して前記濾過処理槽と1事通し水面より上は密閉された
オゾン・超音波処理槽と、オゾン・超音波処理槽の水面
1でに設j士1こ越流部を介してオゾン・超音波処理槽
に連通されるとともに上部には処理水を散布ずろ散布ト
イを具え該散布トイの下に交換可能な状態でt材を具え
該P 44の下に排出口を具えた吸M t’ffと、1
7j記オゾン・超音波処理槽の外に具えられるとともに
オゾン供給管を介して前記オゾン接触器に接続されたオ
シ:/ 発、を器と、前1氾オゾン・超音波処理槽の上
1(に連通する排オブン処理器とから構成されることを
特(致とする。
12  作用 供給L1から二次処理水か供給されると、処理水は濾過
処理槽内のr+Aによって浮遊物質が除去されたのらに
オゾン・超音波処理槽内へはいる。オゾン・超音波処理
槽内で:よ、処理水がオゾン発生器から送り込まれるオ
ゾンとオゾン接触器を介して接触するとともに超音波発
生器によって超音波処理され、処理水中の高分子量物質
が低分子量物質に変わる。そのあと、処理水は吸着槽内
へはいり、散布トイからP材へ向かつて散布され、低分
子量物質が吸着除去されリド出口から排出される。
濾過処理槽からオゾン・超音波処理槽及びオゾン・超音
波処理槽から吸着1Iil’への処理水の移動は、越流
部を介して行なわれ、オゾン・超音波処理槽の七’lは
密閉されているので、処理水と接触した後のオゾンはオ
ゾン・超音波処理槽の上部に溜ま・〕、ここから徘オゾ
ン処理器へ導かれて処理された後に大気中へ放出されろ
G、実施例 以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて詳細に説明
する。
第1図に示すのは廃水の高度処理装置の断面図である。
図のように廃水の高度処理装置は濾過処理槽lとオゾン
・超音波処理槽2と吸着槽3とから構成されている。
濾過処理槽1は処理水に含まれている浮遊物質(SS)
を除去する目的で設けられており、下部で連通ずる二つ
の槽には袋に砂を詰め込んだP H4が、夫々の槽の二
部に設けた開閉自在の扁5を開(+ることによって交換
可能に夫々の槽内に収納されている。r材としてはSS
分を除去できればよいので、このほかにスポンジ、たイ
つし、カキ殻。
砕石等を金網等に入れて用いることができろ。1過処理
漕lの底には沈降したSS分をためるための排泥ピット
6が形成されており、排泥ピット6の下には弁7を介し
て逆洗ポンプ8が接続されている。逆洗ポンプ8は、P
材4がSS分によって閉塞しないように洗浄するために
設けられている。
図中、9はSS分を排出するための弁、10は二次処理
水を供給するための供給口である。なお、r[第4はい
ずれか−・方の漕へ入れるようにしてもよいが、その場
合はその後の処理に影響を与えないように図中右側の槽
へ人fするのが望ましいつオゾン・超音波処理槽2は、
オゾン処理と超音波処理とを同時に行な−)目的で設け
られており、L下で連通ずる二つの槽には処理水とオゾ
ンとを接触さ仕るためのオゾン接触器12を超音波発生
器11とか収納されている。
オゾン接触器12と超音波発生器11の構造を第2図に
示す。オゾン接触器12は、処理水とオゾンとが接触す
る機会をできるたけ多くするとともに超音波処理の効率
をより高めるために具えられている。オゾン接触器12
は、ラッパ状に形成された混A翼15を4本の支持棒1
3を介して連結するとともに該支持棒13を円盤状のベ
ース14に結合して構成されている。混合翼15は、第
3図のように板状(オを円錐台の外周面の如く巻いて図
中上部の開口部を塞ぎ、側面及び上面には内側から外側
へ貫通するジグザグ状のスリット16を形成したしので
ある。
混合翼15の下には散気板35が配置されており、散気
板35はオゾン供給管18を介してオゾン、超音波処理
槽2の外部に具えられたオゾン発生器17と接続されて
いる。そして、散気板35の上部中央に超音波発生器1
1が埋設されている。散気板35からオゾンが救出され
ろと処理水に一ヒ向流が生じるので、オゾン接触器12
の外側にラッパ状の筒や円筒を装着し、エアリフト効果
を発揮させてオゾンと処理水との接触の機会を増すよう
にしてもよい。オゾン・超音波処理槽2の上部は密閉さ
れており、この上部には弁19を介して排気ポンプ20
が接続され、更に該排気ポンプ20と排オゾン処理器2
1とオゾン発生器17とが三方弁22を介して接続され
ている。
なお、本実施例ではオゾン・超音波処理1−1! 2を
二槽式としてオゾン接触器等を二祖具えた場合について
示したか、処理水の全か少ない場合は一槽式吸着槽3は
、次の目的で設けられたしのであるう即ち、二次処理に
よって生成した高分子量物質かオゾン・超音波処理II
!’72で低分子化されるので、この低分子化された物
質を除去することにある。
吸着槽3の」二部には処理水を散布するための散布トイ
23が設けられ、散布トイ23の下にはf材24が配置
されている。r材24は低分子量物質を吸着する乙ので
あり、活性炭を用いるのが望ましいが、活性炭は高価な
ので鹿沼上、火山岩等の吸容能力を仔ずろらのを混合又
は階層化して用いると経済的である。戸材24の真下に
は消毒タンク25から伸びるバイブ26の先端か臨んで
おり、吸着槽3の底にはtit#Sピット27か形成さ
れ、弁28が取り付けられている。なお、29はP材2
4を交換するための羨、30は高度処理された処理水を
排出する排出口である。
[11f記のようにオゾン・超音波処理槽2はオゾンか
大気中へ放出されないように密閉構造とする必要かあり
、そのためにr過処理槽lとオゾン・超音波処理槽2と
吸着槽3とを連通させる目的で、水面より低い位置に越
流111531と32とを設けている。
次に、斯かる廃水の高度処理装置の作用を説明4゛る。
供給口10からr過処理槽I内へ二次処理された処理水
が流入し、P祠11の内部を流れることにより浮遊して
いるSS分か濾過されて除去される。
SS分か除去された処理水は越流部31からオゾン・超
音波処理1’!V 2内へ流入しオゾン処理及び超音波
処理される。オゾン発生器17からオゾン供給管18を
介して散気板35へ送られたオゾンは、散気板16から
処理水中を上昇して最下部の混合翼15の内側へはいり
、ノブザブに形成さイまたスリット16から外側へ出る
ときにスリット16によって分割され、処理水とよりよ
く接触して下から2段目の混合翼15の内側へと上界す
る。オゾンが夫々の混り翼15を通過する都度に前記の
ように処理水と接触し、それと同時に超音波発生器11
によって超音波処理される。これらの混合翼15のすべ
てを通過しノニオゾンは、オゾン・超音波処理槽2の上
部に1こまり、排気ポンプ20によって排すシン処理器
21に送られ処理後大気中へ放出されるか、又はオゾン
発生器17へと送られる。使用済みのオゾンを処理1、
て大気中へ放出するかそれともオゾン発生器17へ戻し
て再使用するかは、三方弁22の操作によって決まる。
っ上り、三方弁22は排気ポンプ2oと排すシン処理器
21又は排気ポンプ20とオゾン発生器17とを接続す
るものである。使用済みのオゾンが再使用できるので、
オゾンの無駄がなく、排オゾン処理器21の負担ら少な
い。二組のオゾン接触器12等によって、処理水はオゾ
ン処理及び超音波処理され、処理水に含まれている高分
子量物質(TOC成分)が低分子量物質となり、越流部
32から吸着槽3へと流入する。なお、処理水の量が少
ない場合は一方の槽のみを稼動させたり、他方の槽はオ
ゾン接触器12又は超音波発生器11のうちのいずれか
のみを稼動させたりすることもてきる。また、処理水が
連続して流入する場合はオゾン・超音波処理槽2の容積
と流入量との割合(水理学的滞留時間)に応じて間欠稼
動させ、処理水が間欠的に流入する場合は流入時のみ稼
動させ兄ようにしてもよい。
吸着槽3ては、処理水が散布トイ23からP材24へ向
かって散布され、オゾン・超音波処理槽2内において、
低分子化された処理水中の低分子量物質がt材24に吸
着され除去されろ。以上のようにして高度処理された処
理水は、必要に応じて消毒タンク25内の消毒液で消毒
され、排出口30より排出される。
排泥ビット6や27に沈降したSS分がたまった場合は
、これらを弁9や28を開いて排出すればよい。また、
長期間の運転によってt材4が目づまりをおこした場合
は、弁7を開いて逆洗ポンプ8を用い−Ct’材4を洗
浄し、1材4がら除去された88分等は弁9を開いて排
出すればよい。一方、PUlや24を長期間使用した後
は1yt5.29を開いて交換4”ればよい。
■1  発明の効果 以−に説明したように本発明によれば、オゾン処理と超
音波処理とを同時に行なうオゾン・超音波処理槽を具え
ているので、処理水のオゾン酸化と超音波処理が効率良
く行なわれる。また、濾過処理槽、オゾン・超音波処理
槽、吸着槽の順に処理水が流れて処理されるので、廃水
の高度処理性能が高いつ更に、オゾン・超音波処理槽に
オゾン接触器を具えているので、処理水の酸化が効率良
くイ丁 −よ 7つ 、し う つ
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による廃水の高度処理装置の実施例を示
を断面図、第2図はオゾン接触器等の説明図、第3図は
混合翼の説明図であ−る。 l ・、r過処理槽、2 オゾン・超音波処理槽、3 
・吸着槽、4 、24− P tオ、10  供給[]
、11  超音波発生器、12・オゾン接触器、17・
Aシン発(1−1器、18・オゾン供給管、21  リ
1オゾン処理器、3゜・排出(]、31.32  越流
部。 第 2 図 オソン操触Iの 第3図尾合翼・脆弱 乳帆図 −【′70−−−

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 二次処理水を供給するための供給口を有するとともにろ
    材が交換可能な状態で収納されたろ過処理槽と、処理水
    にオゾンを接触させるためのオゾン接触器と超音波発生
    器とが収納されるとともに水面下に設けた越流部を介し
    て前記ろ過処理槽と連通し水面より上は密閉されたオゾ
    ン・超音波処理槽と、オゾン・超音波処理槽の水面下に
    設けた越流部を介してオゾン・超音波処理槽に連通され
    るとともに上部には処理水を散布する散布トイを具え該
    散布トイの下に交換可能な状態でろ材を具え該ろ材の下
    に排出口を具えた吸着槽と、前記オゾン・超音波処理槽
    の外に具えられるとともにオゾン供給管を介して前記オ
    ゾン接触器に接続されたオゾン発生器と、前記オゾン・
    超音波処理槽の上部に連通する排オゾン処理器とから構
    成されることを特徴とする廃水の高度処理装置。
JP60186460A 1985-08-24 1985-08-24 廃水の高度処理装置 Pending JPS6245398A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4523671B1 (ja) * 2008-12-02 2010-08-11 昭三 片倉 汚水処理システム及び微細気泡発生器
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