JPS6244322A - 紡糸ノズル板の製法 - Google Patents
紡糸ノズル板の製法Info
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- JPS6244322A JPS6244322A JP61158898A JP15889886A JPS6244322A JP S6244322 A JPS6244322 A JP S6244322A JP 61158898 A JP61158898 A JP 61158898A JP 15889886 A JP15889886 A JP 15889886A JP S6244322 A JPS6244322 A JP S6244322A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D1/00—Electroforming
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、グラビアリングラフイー及び電気メッキ法を
使用してホッパ状前通路と、それに引続いたノズルキャ
ピラルを有する紡糸ノズル板を製造する方法に関する。
使用してホッパ状前通路と、それに引続いたノズルキャ
ピラルを有する紡糸ノズル板を製造する方法に関する。
従来の技術
前記形式の方法は、西独国特許出願第P3517730
.6号明細書に開示されている。
.6号明細書に開示されている。
この種の紡糸ノズル板は繊維を製造するために利用され
、この場合には有機又は無機材料から成る出発物質は流
動性状態で板肉の多数の紡糸ノズル通路を貫流せしめら
れる。該紡糸ノズル通路は大抵の場合、材料が繊維とし
て押出されるノズルキャピラルと、紡糸すべき材料が供
給される実質的に別の前通路とから成る。前通路はしば
しばホッパの形を有し、該ホッパはノズルキャピラルに
向かって細くなり、最後にノズルキャピラルに移行する
。前通路及びノズルキャピラルを別々に製作する際には
、分離継目の移行部に好ましからぬずれが生じる危険が
ある。
、この場合には有機又は無機材料から成る出発物質は流
動性状態で板肉の多数の紡糸ノズル通路を貫流せしめら
れる。該紡糸ノズル通路は大抵の場合、材料が繊維とし
て押出されるノズルキャピラルと、紡糸すべき材料が供
給される実質的に別の前通路とから成る。前通路はしば
しばホッパの形を有し、該ホッパはノズルキャピラルに
向かって細くなり、最後にノズルキャピラルに移行する
。前通路及びノズルキャピラルを別々に製作する際には
、分離継目の移行部に好ましからぬずれが生じる危険が
ある。
発明が解決しようとする問題点
本発明の課題は、前記形式の方法において、前通路から
ノズルキャピラルへの連続的移行部を保証する方法を提
供することであった。
ノズルキャピラルへの連続的移行部を保証する方法を提
供することであった。
問題点を解決するための手段
前記課題は、本発明により、グラビアリソグラフィー及
び電気メッキ法を使用してホツパ状前通路と、それに引
続いたノズルキャピラルを有する紡糸ノズル板を製造す
る方法において、a)ホツパ状前通路144を備えた金
属板141を製造し、 b)高エネルギービームによってその特性が可変な材料
(レジスト材料)から成る層142を、前通路144の
先細の端部が開口する金属板141の面と結合させ、 C)層142をマスクとして金属板141を使用して高
エネルギービーム143で部分的に露光し、d、)ネガ
型レジスト材料を使用する際には、前通路144 vc
再び除去可能な充填材料152を充填しかつ層142の
露光しなかった領域を除去し、そうしてノズルキャピラ
ルの充填材料152と結合された雌型151を金属板1
41の上に形成させるか、又は d2)ポジ型レジスト材料を使用する際には、露光した
領域142bを層142aから除去しかつ除去された領
域及び前通路144に再び除去可能な充填材料152a
を充填しかつ引続き層142aの露光しなかった領域を
除去し、それにより同様にノズルキャピラルの雌型15
1aを金属板141上に形成させ、 e)ノズルキャピラルの雌型151を内包する電気メッ
キ層162を電気メッキ電極として役立つ金属板141
上に形成させ、電気メッキ層162を平担にし、かつ前
記d、1の場合には充填材料152及び雌型151を除
去し、又は前記d2)の場合には充填材料151a及び
152aを除去し、それによってホツ、6状前通路14
4を有する板141及びノズルキャピラル161を有す
る電気メッキ層162から成る紡糸ノズル板163を形
成させることにより解決される。
び電気メッキ法を使用してホツパ状前通路と、それに引
続いたノズルキャピラルを有する紡糸ノズル板を製造す
る方法において、a)ホツパ状前通路144を備えた金
属板141を製造し、 b)高エネルギービームによってその特性が可変な材料
(レジスト材料)から成る層142を、前通路144の
先細の端部が開口する金属板141の面と結合させ、 C)層142をマスクとして金属板141を使用して高
エネルギービーム143で部分的に露光し、d、)ネガ
型レジスト材料を使用する際には、前通路144 vc
再び除去可能な充填材料152を充填しかつ層142の
露光しなかった領域を除去し、そうしてノズルキャピラ
ルの充填材料152と結合された雌型151を金属板1
41の上に形成させるか、又は d2)ポジ型レジスト材料を使用する際には、露光した
領域142bを層142aから除去しかつ除去された領
域及び前通路144に再び除去可能な充填材料152a
を充填しかつ引続き層142aの露光しなかった領域を
除去し、それにより同様にノズルキャピラルの雌型15
1aを金属板141上に形成させ、 e)ノズルキャピラルの雌型151を内包する電気メッ
キ層162を電気メッキ電極として役立つ金属板141
上に形成させ、電気メッキ層162を平担にし、かつ前
記d、1の場合には充填材料152及び雌型151を除
去し、又は前記d2)の場合には充填材料151a及び
152aを除去し、それによってホツ、6状前通路14
4を有する板141及びノズルキャピラル161を有す
る電気メッキ層162から成る紡糸ノズル板163を形
成させることにより解決される。
発明の作用及び効果
露光マスクとしてホツパ状前通路を備えた金属板を使用
することにより、ずれの無い同一線上の移行部が達成さ
れ、この場合には感光性材料としてネガ型レジスト及び
ポジ型ンジストを使用することができる。特許請求の範
囲第2項の記載によれば、同じ溶解原理に基づき管状突
起物の形のノズルキャピラルを製造することもできる。
することにより、ずれの無い同一線上の移行部が達成さ
れ、この場合には感光性材料としてネガ型レジスト及び
ポジ型ンジストを使用することができる。特許請求の範
囲第2項の記載によれば、同じ溶解原理に基づき管状突
起物の形のノズルキャピラルを製造することもできる。
管状ノズルキャピラルを有する紡糸ノズル板は、中空繊
維又は多成分繊維を製造するための紡糸ノズル装置を製
造するだめの構成部材として特に有利に使用することが
できる。このような紡糸ノズル装置は一般に上下に重ね
合わされた紡糸ノズル板から成る。本発明による方法に
よれば、ノズルキャピラルはその個々の横断面において
並びにまたその、向かい側の位置で極めて高い精度及び
均一性をもって製作することができかつ紡糸ノズル装置
を組立てるために多数の比較的大きな紡糸ノズル板の向
かい合った整合が大きな問題点にならないので、任意の
横断面及び構造を有する中空繊維又は多成分繊維を製造
することが可能である。特許請求の範囲第3項は、ホッ
パ状前通路を有する金属板をグラビアリソグラフィー電
気メッキ法で製造すべき場合にはどのように実施すべき
かを示す。
維又は多成分繊維を製造するための紡糸ノズル装置を製
造するだめの構成部材として特に有利に使用することが
できる。このような紡糸ノズル装置は一般に上下に重ね
合わされた紡糸ノズル板から成る。本発明による方法に
よれば、ノズルキャピラルはその個々の横断面において
並びにまたその、向かい側の位置で極めて高い精度及び
均一性をもって製作することができかつ紡糸ノズル装置
を組立てるために多数の比較的大きな紡糸ノズル板の向
かい合った整合が大きな問題点にならないので、任意の
横断面及び構造を有する中空繊維又は多成分繊維を製造
することが可能である。特許請求の範囲第3項は、ホッ
パ状前通路を有する金属板をグラビアリソグラフィー電
気メッキ法で製造すべき場合にはどのように実施すべき
かを示す。
本発明で達成可能な、前通路からノズルキャピラルへの
連続的移行は、円形横断面においてだけではなく、また
ノズルキャピラルの成形された、例えば星形の横断面に
おいても可能である。
連続的移行は、円形横断面においてだけではなく、また
ノズルキャピラルの成形された、例えば星形の横断面に
おいても可能である。
実施例
次に図示の実施例につき本発明による個々の工程を説明
する。
する。
第1図は、ホッパ状前通路144を有する金属板を示す
。前通路144の細くなった端部が開口した板141の
面は、感光性ネガ型レジスト材料から成る層142と結
合されている。この層142に部分的に前通路144を
貫通して電子/ンクロトロンのX線を照射する、それに
よりその形がノズルキャピラルの形に相当する難溶性領
囲145が生成する。
。前通路144の細くなった端部が開口した板141の
面は、感光性ネガ型レジスト材料から成る層142と結
合されている。この層142に部分的に前通路144を
貫通して電子/ンクロトロンのX線を照射する、それに
よりその形がノズルキャピラルの形に相当する難溶性領
囲145が生成する。
その後、前通路144に再び除去可能な充填材料152
を充填し、該充填材料を領域145と結合する(第2図
)。層142の露光しなかった領域を現像液で除去した
後に、板141上にノズルキャピラルの柱状のネガ型1
51が形成される。次いで電気メッキ電極として役立つ
金属板141上に雌型151を包囲する電気メッキ層1
62を形成する。充填材料152及びノズルキャピラル
の雌型151を電気メッキ層162の平担化後に溶解除
去する、それによってノズルキャピラル161が継目無
くホッパ状前通路144に接続される(第4図)、部分
141及び162から成る紡糸ノズルが形成される。
を充填し、該充填材料を領域145と結合する(第2図
)。層142の露光しなかった領域を現像液で除去した
後に、板141上にノズルキャピラルの柱状のネガ型1
51が形成される。次いで電気メッキ電極として役立つ
金属板141上に雌型151を包囲する電気メッキ層1
62を形成する。充填材料152及びノズルキャピラル
の雌型151を電気メッキ層162の平担化後に溶解除
去する、それによってノズルキャピラル161が継目無
くホッパ状前通路144に接続される(第4図)、部分
141及び162から成る紡糸ノズルが形成される。
感光性層142aとしてポジ型レジスト材料を使用する
際には、まず露光した領域142bを現像液で除去しく
第2a図)かつ次いで除去された領域及び前通路144
に、層142a(第2b図)のポジ型レジスト材料より
も難溶性である再除去可能な充填材料を充填する。次い
で、層142aの露光しなかった領域を除去する、それ
によってこの場合も第2C図に相当して金属板141上
にノズルキャピラルの柱状雌型が形成される。
際には、まず露光した領域142bを現像液で除去しく
第2a図)かつ次いで除去された領域及び前通路144
に、層142a(第2b図)のポジ型レジスト材料より
も難溶性である再除去可能な充填材料を充填する。次い
で、層142aの露光しなかった領域を除去する、それ
によってこの場合も第2C図に相当して金属板141上
にノズルキャピラルの柱状雌型が形成される。
引続いての工程〔電気メッキ層162の製造及び平担化
(第3a図)、充填材料152aの除去〕は前記と同じ
である、従ってこの場合も、第4図に略示されているよ
うに、紡糸ノズル板163が形成される。
(第3a図)、充填材料152aの除去〕は前記と同じ
である、従ってこの場合も、第4図に略示されているよ
うに、紡糸ノズル板163が形成される。
本発明による方法は、管状ノズルキャピラルを有する紡
糸ノズル板を製造するために適用することもできる。こ
の場合も、前通路144を有する金属板141を露光マ
スクとして利用する(第5図)、次いで層142を再度
部分的に反対側から露光する。ネガ型レジスト材料を使
用する際には、高エネルギービーム181C第6図)で
露光するために、吸収体構造182がノズルキャピラル
の管状突起の外径に相当するマスクを利用する、従って
露光領域174及び175は層142の露光されない管
状領域183を包括しない。再除去可能な充填材料19
1を前通路144に充填した後に、露光しなかった管状
領域183を現像液で溶解除去する、それにより管状中
空192が形成される(第7図)。この中空室192内
で、電極として板141を使用して管状の金属製突起2
02の形の電気メッキ構造物を形成する(第8図)。次
いで、電気メッキ構造を平担化した後に層142の残留
レジスト材料及び充填材料191を除去する、その際ホ
ッパ状前通路144及び管状ノズルキャピラル202を
有する板から成る紡糸ノズルが形成される(第9図)。
糸ノズル板を製造するために適用することもできる。こ
の場合も、前通路144を有する金属板141を露光マ
スクとして利用する(第5図)、次いで層142を再度
部分的に反対側から露光する。ネガ型レジスト材料を使
用する際には、高エネルギービーム181C第6図)で
露光するために、吸収体構造182がノズルキャピラル
の管状突起の外径に相当するマスクを利用する、従って
露光領域174及び175は層142の露光されない管
状領域183を包括しない。再除去可能な充填材料19
1を前通路144に充填した後に、露光しなかった管状
領域183を現像液で溶解除去する、それにより管状中
空192が形成される(第7図)。この中空室192内
で、電極として板141を使用して管状の金属製突起2
02の形の電気メッキ構造物を形成する(第8図)。次
いで、電気メッキ構造を平担化した後に層142の残留
レジスト材料及び充填材料191を除去する、その際ホ
ッパ状前通路144及び管状ノズルキャピラル202を
有する板から成る紡糸ノズルが形成される(第9図)。
ポジ型レジスト材料を使用する際には、まずノズルキャ
ピラルの内部に相当する露光した領域を現像液で除去し
かつ非感光性充填材料191aと交換する。該材料は前
通路144にも充填する(第6a図)。次いで、層14
2aの再度の部分的露光は、高エネルギービームで用い
てマスクを介して行い、該マスクの吸収体、構造182
aは、ノズルキャピラルのための管状突起物の外径に相
当する貫通孔182bを有する。
ピラルの内部に相当する露光した領域を現像液で除去し
かつ非感光性充填材料191aと交換する。該材料は前
通路144にも充填する(第6a図)。次いで、層14
2aの再度の部分的露光は、高エネルギービームで用い
てマスクを介して行い、該マスクの吸収体、構造182
aは、ノズルキャピラルのための管状突起物の外径に相
当する貫通孔182bを有する。
このようにして、充填材料191aと層142aの露光
しなかったレジスト材料との間に管状の露光した領域1
83aが生じ、該領域を現像液で除去する、そうして管
状中空室192aが形成される(第7a図)。その後の
処理(電気メッキ202、電気メッキ構造の平担化、充
填材料191a及び残留レジスト材料142aの除去)
は、第8図及び第9図に関して記載に類似して行う。
しなかったレジスト材料との間に管状の露光した領域1
83aが生じ、該領域を現像液で除去する、そうして管
状中空室192aが形成される(第7a図)。その後の
処理(電気メッキ202、電気メッキ構造の平担化、充
填材料191a及び残留レジスト材料142aの除去)
は、第8図及び第9図に関して記載に類似して行う。
次に、第10図、第11図及び第12図につき、ホツパ
状前通路を有する金属板はグラビアリングラフイー−電
気メッキ法で製造することもできること示す。このため
には、電気メッキ電極として役立つ板12上にネガ型レ
ジスト材料から成る層121を施す。この層121に短
い距離に配置したマスク122を介して部分的に電子ン
ンクロトロンの平行X線123で露光する。露光中に、
マスク122、レジスト層121及び板12から成るユ
ニットを照射方向に対して反転運動(矢印)させる。マ
スク122の吸収体構造内の貫通口128は、ノズルキ
ャピラルの横断面に相当する横断面を有する。ビーム1
23により、レジスト層121内に板12に向かって拡
大するホウ・ξ状横断面を有する領域124が形成され
、該領域は露光に基づき層121の露光しなかった領域
に比較して難溶性である。レジスト層121の露光しな
かった領域を現像液で除去した後に、板10上にホウ・
ξ状前通路の雌型131が現われる。板12上に金属を
電気メッキで析出させかつこの電気メッキ層141(第
11図)を平担化した後、板12及び雌型131を除去
する、それにより第12図によるホッパ状前通路144
を備えた金属板141が得られる。
状前通路を有する金属板はグラビアリングラフイー−電
気メッキ法で製造することもできること示す。このため
には、電気メッキ電極として役立つ板12上にネガ型レ
ジスト材料から成る層121を施す。この層121に短
い距離に配置したマスク122を介して部分的に電子ン
ンクロトロンの平行X線123で露光する。露光中に、
マスク122、レジスト層121及び板12から成るユ
ニットを照射方向に対して反転運動(矢印)させる。マ
スク122の吸収体構造内の貫通口128は、ノズルキ
ャピラルの横断面に相当する横断面を有する。ビーム1
23により、レジスト層121内に板12に向かって拡
大するホウ・ξ状横断面を有する領域124が形成され
、該領域は露光に基づき層121の露光しなかった領域
に比較して難溶性である。レジスト層121の露光しな
かった領域を現像液で除去した後に、板10上にホウ・
ξ状前通路の雌型131が現われる。板12上に金属を
電気メッキで析出させかつこの電気メッキ層141(第
11図)を平担化した後、板12及び雌型131を除去
する、それにより第12図によるホッパ状前通路144
を備えた金属板141が得られる。
ホウ・ξ状前通路を有する金属板は、ポジ型レジスト層
を使用する際にもグラビアリングラフイー−電気メッキ
法で製造することができる。
を使用する際にもグラビアリングラフイー−電気メッキ
法で製造することができる。
この場合には、第10図に基づき転勤運動を伴いなから
露光する際に生じる領域を除去しかつ充填材料と交換す
る。こうして、残留レジスト材料を1種の現像剤で除去
した後に、充填材料から成るホッパ状の雌型が得られ、
該雌型を第11図及び第12図に相応して後処理する。
露光する際に生じる領域を除去しかつ充填材料と交換す
る。こうして、残留レジスト材料を1種の現像剤で除去
した後に、充填材料から成るホッパ状の雌型が得られ、
該雌型を第11図及び第12図に相応して後処理する。
台形状前通路の場合には、転勤運動の代りに傾斜運動を
実施することができる。
実施することができる。
前通路の品質に対する要求が低い場合には、転勤運動を
伴う処光を実施する代りに平面状光源の強分散性光線で
の露光を実施することができる。
伴う処光を実施する代りに平面状光源の強分散性光線で
の露光を実施することができる。
ポジ型レジスト材料としてはP’MMAを使用し、該P
MMAを露光後にブチルジグリコール、モルホリン、エ
タノール及び水から成る現像液中で溶解させる。該ネガ
チブ型−レシスト材料はポリスチレンをベースとして構
成されており、このために必要な現像剤はケトンと高級
アルコールの混合物から成る。金属の電気メッキ的析出
は、塩化物不含のスルファミン酸ニッケル浴中で52°
Cの温度で実施する。その他の浴成分はpH= 4で電
解液を緩衝するために役立つホウ酸及び穿孔予防のため
の湿潤剤である。X線マスクはX線に対して十分に透過
性の、厚さ約20μmのビリリウムから成るマスク支持
体と、X線に対して十分に不透過性の、約15μmの金
から成る吸収体とから成る。高エネルギービームとして
は、λc−0,2nmの特徴的波長を有するシンクロト
ロンビームを使用することができる。再び除去可能な非
感光性充填材料は、エポキシ樹脂と内部分離剤の混合物
から成る。
MMAを露光後にブチルジグリコール、モルホリン、エ
タノール及び水から成る現像液中で溶解させる。該ネガ
チブ型−レシスト材料はポリスチレンをベースとして構
成されており、このために必要な現像剤はケトンと高級
アルコールの混合物から成る。金属の電気メッキ的析出
は、塩化物不含のスルファミン酸ニッケル浴中で52°
Cの温度で実施する。その他の浴成分はpH= 4で電
解液を緩衝するために役立つホウ酸及び穿孔予防のため
の湿潤剤である。X線マスクはX線に対して十分に透過
性の、厚さ約20μmのビリリウムから成るマスク支持
体と、X線に対して十分に不透過性の、約15μmの金
から成る吸収体とから成る。高エネルギービームとして
は、λc−0,2nmの特徴的波長を有するシンクロト
ロンビームを使用することができる。再び除去可能な非
感光性充填材料は、エポキシ樹脂と内部分離剤の混合物
から成る。
第1図、第2図、第2a図、第2b図、第2C図、第3
図、第3a図、第4図は本発明の第1実施例の各工程に
おける紡糸ノズル板の断面図、第5図、第6図、第6a
図、第7図、第7a図、第8図、第9図、第10図、第
11図、第12図は別の実施例の各工程における紡糸ノ
ズル板の断面図である。 12 ・・電気メッキ電極、121・・レジスト層、1
22・・マスク、141・・金属板、142゜142a
、、感光層、142b、183a −・Xi、光領域、
123.143.181・・高エネルギービーム、14
4・・前通路、151.151a、131・・雌型、1
52 、152a。 191.191a ・・充填材料、162・・電気メ
ッキ層、163・・紡糸ノズル板、182.182a・
・吸収体構造、 182b・・貫通孔、183・・非
露光領域、192 、192a・・中空室、202・・
電気メッキ構造。 ↑ ↑ ↑ ↑ ↑ ↑
↑−−、−143 ?Ey工羊ル甲−ヒ゛−ム兇8図
図、第3a図、第4図は本発明の第1実施例の各工程に
おける紡糸ノズル板の断面図、第5図、第6図、第6a
図、第7図、第7a図、第8図、第9図、第10図、第
11図、第12図は別の実施例の各工程における紡糸ノ
ズル板の断面図である。 12 ・・電気メッキ電極、121・・レジスト層、1
22・・マスク、141・・金属板、142゜142a
、、感光層、142b、183a −・Xi、光領域、
123.143.181・・高エネルギービーム、14
4・・前通路、151.151a、131・・雌型、1
52 、152a。 191.191a ・・充填材料、162・・電気メ
ッキ層、163・・紡糸ノズル板、182.182a・
・吸収体構造、 182b・・貫通孔、183・・非
露光領域、192 、192a・・中空室、202・・
電気メッキ構造。 ↑ ↑ ↑ ↑ ↑ ↑
↑−−、−143 ?Ey工羊ル甲−ヒ゛−ム兇8図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、グラビアリソグラフィー及び電気メッキ法を使用し
てホツパ状前通路と、それに引続いたノズルキヤピラル
を有する紡糸ノズル板を製造する方法において、 a)ホツパ状前通路(144)を備えた金属板(141
)を製造し、 b)高エネルギービームによつてその特性が可変な材料
(レジスト材料)から成る層(142)を、前通路(1
44)の先細の端部が開口する金属板(141)の面と
結合させ、 c)層(142)をマスクとして金属板(141)を使
用して高エネルギービーム(143)で部分的に露光し
、 d_1)ネガ型レジスト材料を使用する際には、前通路
(144)に再び除去可能な充填材料(152)を充填
しかつ層(142)の露光しなかつた領域を除去し、そ
うしてノズルキヤピラルの充填材料(152)と結合さ
れた雌型(151)を金属板(141)の上に形成させ
るか、又は d_2)ポジ型レジスト材料を使用する際には、露光し
た領域(142b)を層(142a)から除去しかつ除
去された領域及び前通路(144)に再び除去可能な充
填材料(152a)を充填しかつ引続き層(142a)
の露光しなかつた領域を除去し、それにより同様にノズ
ルキヤピラルの雌型(151a)を金属板(141)上
に形成させ、 e)ノズルキヤピラルの雌型(151)を内包する電気
メッキ層(162)を電気メッキ電極として役立つ金属
板(141)上に形成させ、電気メッキ層(162)を
平坦にし、かつ前記d_1)の場合には充填材料(15
2)及び雌型(151)を除去し、又は前記d_2)の
場合には充填材(151a及び152a)を除去し、そ
れによつてホツパ状前通路(144)を有する板(14
1)及びノズルキヤピラル(161)を有する電気メッ
キ層(162)から成る紡糸ノズル板(163)を形成
させることを特徴とする紡糸ノズル板の製法。 2、工程c)の後に、 f_1)ネガ型レジスト材料を使用する際には、層(1
42)を高エネルギービーム(181)で、その吸収体
構造(182)がノズルキヤピラルの管状突起の外径に
相当するマスクの介在下に再度部分的に露光し、かつ前
通路(144)に再除去可能な充填材料(191)を充
填するか又は f_2)ポジ型レジスト材料を使用する際には、露光し
た領域を除去しかつ除去された領域及び前通路(144
)に再除去可能な非感光性充填材料(191a)を充填
し、層(142a)を、その吸収体構造(182a)が
ノズルキヤピラルの管状突起物の外径に相当する貫通口
(182b)を有するマスクの介在在下に再度部分的に
露光し、 g_1)f_1)の場合には、ネガ型レジスト材料から
成る層(142)の露光しなかつた領域(183)を除
去し、それにより管状中空室(192)を形成させるか
又は g_2)f_2)の場合には、ポジ型レジスト材料から
成る層(142a)の、マスクの介在下に露光した領域
(183a)を除去し、 h)管状中空室(192又は192a)内に電気メッキ
構造(202)を形成させ、該構造を平坦にしかつ工程
e)に相応して充填材料(191又は191a)及び残
りのレジスト材料(142又は142a)を除去し、そ
れによりホツパ状前通路(144)及び管状ノズルキヤ
ピラル(202)を有する板(141)から成る紡糸ノ
ズル板(211)を形成させる 特許請求の範囲第1項記載の方法。 3、ホッパ状前通路(144)を有する金属板(141
)を製造するに当ヤ同様にグラビアリソグラフィー−電
気メッキ法で、 i)高エネルギービームによつてその特性が可変な材料
(ネガ型レジスト材料)を充実性の電気メッキ電極(1
2)と結合させ、 j)マスク(122)を介して高エネルギービーム(1
23)でレジスト材料(121)を部分的に露光するこ
とによりホツパ状前通路の、充実性電気メッキ電極(1
2)と結合された雌型(131)を形成させ、その際マ
スク(122)、レジスト材料(121)及び充実性電
気メッキ電極(12)から成るユニットをビーム方向に
対して相対的な回転又は傾斜運動を実施させ、かつ露光
しなかつたレジスト材料(121)を除去し、 k)充実性電気メッキ電極(12)上にホツパ状前通路
の雌型(131)を内包する電気メッキ層(141)を
形成させ、電気メッキ層(141)を平坦にしかつ雌型
(131)を除去し、 l)充実性電気メッキ電極(12)を完全に又は部分的
に除去し、それによりホツパ状前通路(144)を有す
る金属板(141)を形成させる 特許請求の範囲第1項又は第2項記載の方法。 4、高エネルギービームとして電子シンクロトロンによ
つて発生せしめられたX線を使用する特許請求の範囲第
1項から第3項までのいずれか1項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19853524411 DE3524411A1 (de) | 1985-07-09 | 1985-07-09 | Verfahren zum herstellen von spinnduesenplatten |
DE3524411.9 | 1985-07-09 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6244322A true JPS6244322A (ja) | 1987-02-26 |
JPH0747249B2 JPH0747249B2 (ja) | 1995-05-24 |
Family
ID=6275266
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61158898A Expired - Lifetime JPH0747249B2 (ja) | 1985-07-09 | 1986-07-08 | 紡糸ノズル板の製法 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4694548A (ja) |
EP (1) | EP0209651B1 (ja) |
JP (1) | JPH0747249B2 (ja) |
AT (1) | ATE66254T1 (ja) |
AU (1) | AU585624B2 (ja) |
BR (1) | BR8603196A (ja) |
CA (1) | CA1258572A (ja) |
DE (2) | DE3524411A1 (ja) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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DE3841621A1 (de) * | 1988-12-10 | 1990-07-12 | Draegerwerk Ag | Elektrochemische messzelle mit mikrostrukturierten kapillaroeffnungen in der messelektrode |
US5119550A (en) * | 1989-07-03 | 1992-06-09 | Eastman Kodak Company | Method of making transfer apparatus having vacuum holes |
US5189777A (en) * | 1990-12-07 | 1993-03-02 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Method of producing micromachined differential pressure transducers |
DE4042125A1 (de) * | 1990-12-28 | 1992-07-02 | Maxs Ag | Verfahren zum herstellen eines mikrooeffnungen aufweisenden, verstaerkten flachen gegenstandes |
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US5190637A (en) * | 1992-04-24 | 1993-03-02 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Formation of microstructures by multiple level deep X-ray lithography with sacrificial metal layers |
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US5413668A (en) * | 1993-10-25 | 1995-05-09 | Ford Motor Company | Method for making mechanical and micro-electromechanical devices |
DE19530193A1 (de) * | 1995-08-17 | 1997-02-20 | Bosch Gmbh Robert | Düsenplatte, insbesondere für Kraftstoffeinspritzventile, und Verfahren zur Herstellung einer Düsenplatte |
AU7163596A (en) * | 1995-10-30 | 1997-05-22 | Kimberly-Clark Corporation | Fiber spin pack |
GB9623185D0 (en) * | 1996-11-09 | 1997-01-08 | Epigem Limited | Improved micro relief element and preparation thereof |
HUP0100051A3 (en) * | 1997-09-15 | 2002-08-28 | Procter & Gamble | Antimicrobial quinolones, their compositions and uses |
US6272275B1 (en) | 1999-06-25 | 2001-08-07 | Corning Incorporated | Print-molding for process for planar waveguides |
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DE10305425B4 (de) * | 2003-02-03 | 2006-04-27 | Siemens Ag | Herstellungsverfahren für eine Lochscheibe zum Ausstoßen eines Fluids |
CN111702323B (zh) * | 2020-06-30 | 2022-05-10 | 苏州锐涛光电科技有限公司 | 熔喷板模头喷丝孔的加工方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US4246076A (en) * | 1979-12-06 | 1981-01-20 | Xerox Corporation | Method for producing nozzles for ink jet printers |
US4430784A (en) * | 1980-02-22 | 1984-02-14 | Celanese Corporation | Manufacturing process for orifice nozzle devices for ink jet printing apparati |
DE3042483A1 (de) * | 1980-11-11 | 1982-06-16 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | Verfahren und anordnung zur herstellung einer duesenplatte fuer tintenstrahlschreibwerke |
DE3206820C2 (de) * | 1982-02-26 | 1984-02-09 | Kernforschungszentrum Karlsruhe Gmbh, 7500 Karlsruhe | Verfahren zum Herstellen von Trenndüsenelementen |
NL8203521A (nl) * | 1982-09-10 | 1984-04-02 | Philips Nv | Werkwijze voor het vervaardigen van een inrichting. |
US4552831A (en) * | 1984-02-06 | 1985-11-12 | International Business Machines Corporation | Fabrication method for controlled via hole process |
-
1985
- 1985-07-09 DE DE19853524411 patent/DE3524411A1/de active Granted
-
1986
- 1986-04-30 DE DE8686105992T patent/DE3680837D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1986-04-30 EP EP86105992A patent/EP0209651B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-04-30 AT AT86105992T patent/ATE66254T1/de not_active IP Right Cessation
- 1986-07-08 JP JP61158898A patent/JPH0747249B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1986-07-08 BR BR8603196A patent/BR8603196A/pt not_active IP Right Cessation
- 1986-07-08 CA CA000513271A patent/CA1258572A/en not_active Expired
- 1986-07-09 US US06/883,633 patent/US4694548A/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-07-09 AU AU59888/86A patent/AU585624B2/en not_active Ceased
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---|---|
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EP0209651A3 (en) | 1988-09-14 |
AU5988886A (en) | 1987-01-15 |
EP0209651B1 (de) | 1991-08-14 |
JPH0747249B2 (ja) | 1995-05-24 |
BR8603196A (pt) | 1987-02-24 |
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ATE66254T1 (de) | 1991-08-15 |
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