JPS6238287A - アルカリ廃液中のレジストの除去法 - Google Patents
アルカリ廃液中のレジストの除去法Info
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- JPS6238287A JPS6238287A JP17742285A JP17742285A JPS6238287A JP S6238287 A JPS6238287 A JP S6238287A JP 17742285 A JP17742285 A JP 17742285A JP 17742285 A JP17742285 A JP 17742285A JP S6238287 A JPS6238287 A JP S6238287A
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- solubility
- alkaline
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/42—Stripping or agents therefor
- G03F7/422—Stripping or agents therefor using liquids only
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、アルカリ廃液中のレジストの除去法に関し、
さらに詳しくはアルカリ現像形感光性レジストを用いて
印刷配線板の回路を形成する際に発生するアルカリ廃液
から効率よくレジストを除去する方法に関する。
さらに詳しくはアルカリ現像形感光性レジストを用いて
印刷配線板の回路を形成する際に発生するアルカリ廃液
から効率よくレジストを除去する方法に関する。
（従来の技術）
印刷配線板の製造、金属の精密加工等の分野において、
基材にエツチング、めっき等の化学的、電気的手法を施
す際に、感光性樹脂組成物またはこれを使用した感光性
エレメントを射光性レジストとして使用することが知ら
れている。この際感光性エレメントとしては、支持体上
に感光性樹脂組成物を積層したものが広く使用されてい
る。
基材にエツチング、めっき等の化学的、電気的手法を施
す際に、感光性樹脂組成物またはこれを使用した感光性
エレメントを射光性レジストとして使用することが知ら
れている。この際感光性エレメントとしては、支持体上
に感光性樹脂組成物を積層したものが広く使用されてい
る。
一方、印刷配線板の製造法としては、テンティング法と
めっき法の２法が知られているがテンティング法は、チ
ップ搭載のための銅スルホールをレジストで保護し、エ
ツチングおよびレジスト剥離を経て、電気回路の形成を
行なう方法である。
めっき法の２法が知られているがテンティング法は、チ
ップ搭載のための銅スルホールをレジストで保護し、エ
ツチングおよびレジスト剥離を経て、電気回路の形成を
行なう方法である。
この方法においては、レジスト保護膜を形成する際に、
銅張積層板の銅面をレジストで被覆し、原画を通して露
光した後、現像液による現像処理が行なわれ、次いで剥
離液による剥離処理が行なわれる。これらの現像液およ
び剥離液としては、アルカリ水溶液または溶剤が使用さ
れる。アルカリ水溶液を現像液または剥離液として使用
する場合には、使用中液中に感光性レジストが溶解およ
び分散し、次第に現像または剥離能力が低下し、約０．
５ｒｄ／ｌの感光性レジストを処理するごとに液を交換
する必要があり、また多量のアルカリ廃液が発生する。
銅張積層板の銅面をレジストで被覆し、原画を通して露
光した後、現像液による現像処理が行なわれ、次いで剥
離液による剥離処理が行なわれる。これらの現像液およ
び剥離液としては、アルカリ水溶液または溶剤が使用さ
れる。アルカリ水溶液を現像液または剥離液として使用
する場合には、使用中液中に感光性レジストが溶解およ
び分散し、次第に現像または剥離能力が低下し、約０．
５ｒｄ／ｌの感光性レジストを処理するごとに液を交換
する必要があり、また多量のアルカリ廃液が発生する。
従来、これらのアルカリ廃液は、ＣＯＤ （化学的酸素
要求量）の値が約５０００〜１０，０００であり、この
まま廃棄できないため、例えばｐｉ（が２〜３になるま
で酸を加え、必要に応じ凝集剤も加えて液中の感光性レ
ジストを凝集分離したり、中和後生物酸化法、活性汚泥
法、電気分解法等によりアルカリ廃液中の感光性レジス
トを除去する方法が行なわれている。しかしながら、こ
れらの方法には、処理後の廃液について各地域で規定さ
れている廃水基準に合格するか否かを確認し、基準に合
格しない場合には、基準に合格するまで清水で希釈した
後に廃棄が行なわれ、このため多量の水を必要とし、し
かも処理装置設置のために広大な場所を必要とする等の
問題点がある。
要求量）の値が約５０００〜１０，０００であり、この
まま廃棄できないため、例えばｐｉ（が２〜３になるま
で酸を加え、必要に応じ凝集剤も加えて液中の感光性レ
ジストを凝集分離したり、中和後生物酸化法、活性汚泥
法、電気分解法等によりアルカリ廃液中の感光性レジス
トを除去する方法が行なわれている。しかしながら、こ
れらの方法には、処理後の廃液について各地域で規定さ
れている廃水基準に合格するか否かを確認し、基準に合
格しない場合には、基準に合格するまで清水で希釈した
後に廃棄が行なわれ、このため多量の水を必要とし、し
かも処理装置設置のために広大な場所を必要とする等の
問題点がある。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明の目的は、前記従来技術の欠点を除去してアルカ
リ廃液から効率よくレジストを除去することのできるア
ルカリ廃液中のレジストの除去法を提供することにある
。
リ廃液から効率よくレジストを除去することのできるア
ルカリ廃液中のレジストの除去法を提供することにある
。
（問題点を解決するための手段）
本発明者らは、アルカリ廃液から感光性レジストを有機
溶剤で抽出処理することを考え、この際抽出後にアルカ
リ水溶液を分離するためにはアルカリ廃液と有機溶剤と
を混合後、アルカリ水溶液層と有機溶剤層とが２層に分
離すること、また廃液中に溶解または分散している感光
性レジストが有機溶剤に十分溶解することが必要であり
、これらの条件を満足する特定の有機溶剤を使用する必
要があることを見出して本発明に到達した。
溶剤で抽出処理することを考え、この際抽出後にアルカ
リ水溶液を分離するためにはアルカリ廃液と有機溶剤と
を混合後、アルカリ水溶液層と有機溶剤層とが２層に分
離すること、また廃液中に溶解または分散している感光
性レジストが有機溶剤に十分溶解することが必要であり
、これらの条件を満足する特定の有機溶剤を使用する必
要があることを見出して本発明に到達した。
本発明は、アルカリ現像形感光性レジストを用いて印刷
配線板の回路を形成する際に発生するアルカリ廃液を、
２０℃における水に対する溶解度が３０重量％以下で、
かつその溶解度パラメータが９．０−１１．５である有
機溶剤またはその混合物でアルカリ廃液中のレジストを
抽出して除去するアルカリ廃液中のレジストの除去法に
関する。
配線板の回路を形成する際に発生するアルカリ廃液を、
２０℃における水に対する溶解度が３０重量％以下で、
かつその溶解度パラメータが９．０−１１．５である有
機溶剤またはその混合物でアルカリ廃液中のレジストを
抽出して除去するアルカリ廃液中のレジストの除去法に
関する。
現像に用いられるアルカリ現像液としては、例えば１〜
２重量％の炭酸ソーダ水溶液が、またアルカリ剥離液と
しては、例えば１〜７重量％のカセイソーダまたはカセ
イカリ水溶液が使用される。
２重量％の炭酸ソーダ水溶液が、またアルカリ剥離液と
しては、例えば１〜７重量％のカセイソーダまたはカセ
イカリ水溶液が使用される。
また感光性レジストは、いずれも成膜性付与ポリマー、
光架橋剤、光重合開始剤を含み、さらに必要に応じて安
定剤、着色剤等の添加剤を含んでいる。成膜性付与ポリ
マーとしては、例えばメタクリル酸エステル、アクリル
酸エステル、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸等
の共重合体で、側鎖にカルボキシル基を有するポリマー
が、光架橋剤としては、例えばアクリロイル基またはメ
タクリロイル基を有する七ツマ−やオリゴマーが、光重
合開始剤としては、例えばアントラキノン類、ベンゾフ
ェノン、ベンゾインエーテル類等が、安定剤としては、
例えばハイドロキノン等が、着色剤としては、例えば青
や縁糸の染料等が使用される。
光架橋剤、光重合開始剤を含み、さらに必要に応じて安
定剤、着色剤等の添加剤を含んでいる。成膜性付与ポリ
マーとしては、例えばメタクリル酸エステル、アクリル
酸エステル、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸等
の共重合体で、側鎖にカルボキシル基を有するポリマー
が、光架橋剤としては、例えばアクリロイル基またはメ
タクリロイル基を有する七ツマ−やオリゴマーが、光重
合開始剤としては、例えばアントラキノン類、ベンゾフ
ェノン、ベンゾインエーテル類等が、安定剤としては、
例えばハイドロキノン等が、着色剤としては、例えば青
や縁糸の染料等が使用される。
アルカリ廃液において、前記感光性レジストの成分中、
成膜性付与ポリマーの大部分はアルカリ水溶液中に溶解
し、他の成分はアルカリ水溶液中に一部が溶解し、また
一部が分散している。
成膜性付与ポリマーの大部分はアルカリ水溶液中に溶解
し、他の成分はアルカリ水溶液中に一部が溶解し、また
一部が分散している。
このようなアルカリ廃液と混合した後、放置することに
より、２層に分離可能な有機溶剤としては、水に対する
溶解性の少ないものほど良好であり、本発明方法に使用
される有機溶剤は、２０℃における水に対する溶解度が
３０重量％以下のものとされる。２０℃における水に対
する溶解度が３０重量％を超える場合には、アルカリ廃
液と有ｍ溶剤とが均一に溶解し合い、その結果両者を分
離することができない。
より、２層に分離可能な有機溶剤としては、水に対する
溶解性の少ないものほど良好であり、本発明方法に使用
される有機溶剤は、２０℃における水に対する溶解度が
３０重量％以下のものとされる。２０℃における水に対
する溶解度が３０重量％を超える場合には、アルカリ廃
液と有ｍ溶剤とが均一に溶解し合い、その結果両者を分
離することができない。
また感光性レジストの溶解度パラメータは約１０〜１０
．５であるが、アルカリ廃液と有機溶剤とを混合する際
、感光性レジストを十分に有機溶剤に溶解させるために
は使用する有機溶剤は、感光性レジストと同程度の溶解
度パラメータを有するものほど好ましい。このため本発
明方法に使用される有機溶剤の溶解度パラメータは、９
．０〜１１゜５の範囲にされる。この範囲外の溶解度パ
ラメータを有する有機溶剤を使用する場合には、アルカ
リ廃液中の感光性レジストを十分溶解させることができ
ず、その結果処理後の廃液を再使用することができない
。
．５であるが、アルカリ廃液と有機溶剤とを混合する際
、感光性レジストを十分に有機溶剤に溶解させるために
は使用する有機溶剤は、感光性レジストと同程度の溶解
度パラメータを有するものほど好ましい。このため本発
明方法に使用される有機溶剤の溶解度パラメータは、９
．０〜１１゜５の範囲にされる。この範囲外の溶解度パ
ラメータを有する有機溶剤を使用する場合には、アルカ
リ廃液中の感光性レジストを十分溶解させることができ
ず、その結果処理後の廃液を再使用することができない
。
２０℃における水に対する溶解度が３０重量％以下でか
つその溶解度パラメータが９．０〜１１．５である有機
溶剤としては、例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、メチル
エチルケトン、メチルブチルケトン、塩化メチレン、１
，１．１−トリクロロエタン、トリクロロメタン、ベン
ゼン等が使用される。これらの有機溶剤は単独で、また
は２種以上の混合物として使用される。トルエン、キシ
レン等の単独では２０℃における水に対する溶解度およ
び溶解度パラメータが上記の範囲内に入らないものは、
溶解度パラメータの異なる他の溶剤と混合して、溶解度
および同パラメータが上記の範囲に入るように調整して
使用される。溶解度および溶解度パラメータは、例えば
実施例に示されるような文献により容易に求めることが
できる。
つその溶解度パラメータが９．０〜１１．５である有機
溶剤としては、例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、メチル
エチルケトン、メチルブチルケトン、塩化メチレン、１
，１．１−トリクロロエタン、トリクロロメタン、ベン
ゼン等が使用される。これらの有機溶剤は単独で、また
は２種以上の混合物として使用される。トルエン、キシ
レン等の単独では２０℃における水に対する溶解度およ
び溶解度パラメータが上記の範囲内に入らないものは、
溶解度パラメータの異なる他の溶剤と混合して、溶解度
および同パラメータが上記の範囲に入るように調整して
使用される。溶解度および溶解度パラメータは、例えば
実施例に示されるような文献により容易に求めることが
できる。
本発明になる方法においてアルカリ廃液を前記有機溶剤
を使用して抽出処理するに際しては、例えば１０００ｊ
！の槽中で、アルカリ廃液４００１および前記有機溶剤
４００１を攪拌混合し、次いで、混合液が２層に分離す
るまで放置後レジストが含まれる有機溶剤層を分離する
。伜のようにしてアルカリ廃液から効率よくレジストを
除去することができ、得られるアルカリ水溶液は、ｐＨ
を調整して再使用することができる。
を使用して抽出処理するに際しては、例えば１０００ｊ
！の槽中で、アルカリ廃液４００１および前記有機溶剤
４００１を攪拌混合し、次いで、混合液が２層に分離す
るまで放置後レジストが含まれる有機溶剤層を分離する
。伜のようにしてアルカリ廃液から効率よくレジストを
除去することができ、得られるアルカリ水溶液は、ｐＨ
を調整して再使用することができる。
（発明の効果）
本発明のアルカリ廃液中のレジストの除去法によれば、
アルカリ廃液を特定の有機溶剤またはその混合物で処理
することにより、廃液中の感光性レジストを効率よく除
去することができ、廃液を再使用することができる。こ
の結果、本発明になる方法によれば、アルカリ廃液を皆
無にすることができ、また多量の水を節約でき、さらに
廃液の処理装置設置のため広大な面積を必要としない等
の効果が得られる。
アルカリ廃液を特定の有機溶剤またはその混合物で処理
することにより、廃液中の感光性レジストを効率よく除
去することができ、廃液を再使用することができる。こ
の結果、本発明になる方法によれば、アルカリ廃液を皆
無にすることができ、また多量の水を節約でき、さらに
廃液の処理装置設置のため広大な面積を必要としない等
の効果が得られる。
（実施例）
製造例
アルカリ現像形感光性フィルムとして１．５ＭのＰＨＴ
−８６５ＡＦＴ−５０（日立化成工業（株）！りを２％
炭酸ソーダ水溶液５１に熔解し、アルカリ廃液（Ａ）を
得た。
−８６５ＡＦＴ−５０（日立化成工業（株）！りを２％
炭酸ソーダ水溶液５１に熔解し、アルカリ廃液（Ａ）を
得た。
同様にして、１．５ ｒｒｒのＰＨＴ−８６５ＡＦＴ−
５０を銅張積層板の銅面に貼り合わせて全面露光後、５
％カセイソーダ水溶液で剥離し、アルカリ廃液（Ｂ）を
得た。
５０を銅張積層板の銅面に貼り合わせて全面露光後、５
％カセイソーダ水溶液で剥離し、アルカリ廃液（Ｂ）を
得た。
実施例１〜５および比較例１〜７
製造例で得られたアルカリ廃液（Ａ）または（Ｂ）の５
０ｍ１に対し、第１表に示す有機溶剤をそれぞれ５０ｍ
１ずつ添加し、５分間攪拌混合した後、２４時間室温で
放置した。放置復液が水溶液層と有機溶剤層の２Ｎに分
離しているか、レジストが有機溶剤層に十分溶解してい
るかを目視で調べた。その結果を第１表に示す。
０ｍ１に対し、第１表に示す有機溶剤をそれぞれ５０ｍ
１ずつ添加し、５分間攪拌混合した後、２４時間室温で
放置した。放置復液が水溶液層と有機溶剤層の２Ｎに分
離しているか、レジストが有機溶剤層に十分溶解してい
るかを目視で調べた。その結果を第１表に示す。
第１表の結果から、比較例である、アセトン、エチルセ
ロソルブ、メチルセロソルブ、テトラヒドロフラン、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、メタノール等
の２０℃における水に対する溶解度が３０重量％を超え
る有機溶剤を使用する場合には、アルカリ廃液と混合復
液が分離しないことが示される。また比較例である溶解
度パラメータ（ＳＰ値）が９．０未満のトルエンおよび
溶解度パラメータが１１．５を超えるメタノールを使用
する場合には、廃液中の感光性レジストが溶解しないこ
とが示される。
ロソルブ、メチルセロソルブ、テトラヒドロフラン、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、メタノール等
の２０℃における水に対する溶解度が３０重量％を超え
る有機溶剤を使用する場合には、アルカリ廃液と混合復
液が分離しないことが示される。また比較例である溶解
度パラメータ（ＳＰ値）が９．０未満のトルエンおよび
溶解度パラメータが１１．５を超えるメタノールを使用
する場合には、廃液中の感光性レジストが溶解しないこ
とが示される。
一方、本発明の実施例である、２０℃における水に対す
る溶解度が３０重量％以下でかつ溶解度パラメータが９
．０〜１１．５である塩化メチレン、酢酸エチル、メチ
ルエチルケトン、トリクロロエタン、１，１．１−）リ
クロロメタンを使用する場合には、水溶液層と有機溶剤
層とが完全に分離し、しかも廃液中の感光性レジストが
有機溶剤層に十分熔解していることが示される。
る溶解度が３０重量％以下でかつ溶解度パラメータが９
．０〜１１．５である塩化メチレン、酢酸エチル、メチ
ルエチルケトン、トリクロロエタン、１，１．１−）リ
クロロメタンを使用する場合には、水溶液層と有機溶剤
層とが完全に分離し、しかも廃液中の感光性レジストが
有機溶剤層に十分熔解していることが示される。
以下余白
（註）放置後の液の分離性 ○：分離する×：分離
しない 感光性レジストの溶解性 ○：溶解する×：溶解しない ＊ 水に対する溶解度：「溶剤ポケットブック」 （
有機 合成化学協会編、 昭和４２年１１ 月発行）のデー タによる ＊＊ 溶解度パラメータ＝「実学高分子」（向井淳二他
著、 講談状サイエン ティフィク、１ ９８１年１０月 発行）のデータ による 試験例 実施例１〜５において、有機溶剤で処理して得られたア
ルカリ廃液から水溶液層を取出し、現像液の場合には、
炭酸ソーダでｐＨが１０〜１１になるように調整した後
、一方剥離液の場合にはそのままの状態で再使用し、ア
ルカリ現像形感光性フィルムとして、ＰＨＴ−８６５Ａ
ＦＴ−５０を用いて現像性、または剥離性を調べた。そ
の結果を第２表に示す。第２表の結果から、本発明の方
法における有機溶剤で処理した廃液は、全く問題なく再
使用できるものであることが示される。
しない 感光性レジストの溶解性 ○：溶解する×：溶解しない ＊ 水に対する溶解度：「溶剤ポケットブック」 （
有機 合成化学協会編、 昭和４２年１１ 月発行）のデー タによる ＊＊ 溶解度パラメータ＝「実学高分子」（向井淳二他
著、 講談状サイエン ティフィク、１ ９８１年１０月 発行）のデータ による 試験例 実施例１〜５において、有機溶剤で処理して得られたア
ルカリ廃液から水溶液層を取出し、現像液の場合には、
炭酸ソーダでｐＨが１０〜１１になるように調整した後
、一方剥離液の場合にはそのままの状態で再使用し、ア
ルカリ現像形感光性フィルムとして、ＰＨＴ−８６５Ａ
ＦＴ−５０を用いて現像性、または剥離性を調べた。そ
の結果を第２表に示す。第２表の結果から、本発明の方
法における有機溶剤で処理した廃液は、全く問題なく再
使用できるものであることが示される。
第 ２ 表
Claims (1)
- １、アルカリ現像形感光性レジストを用いて印刷配線板
の回路を形成する際に発生するアルカリ廃液を、２０℃
における水に対する溶解度が３０重量％以下で、かつそ
の溶解度パラメータが９．０〜１１．５である有機溶剤
またはその混合物でアルカリ廃液中のレジストを抽出し
て除去することを特徴とするアルカリ廃液中のレジスト
の除去法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17742285A JPS6238287A (ja) | 1985-08-12 | 1985-08-12 | アルカリ廃液中のレジストの除去法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17742285A JPS6238287A (ja) | 1985-08-12 | 1985-08-12 | アルカリ廃液中のレジストの除去法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6238287A true JPS6238287A (ja) | 1987-02-19 |
Family
ID=16030649
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17742285A Pending JPS6238287A (ja) | 1985-08-12 | 1985-08-12 | アルカリ廃液中のレジストの除去法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6238287A (ja) |
-
1985
- 1985-08-12 JP JP17742285A patent/JPS6238287A/ja active Pending
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