JPS623800B2 - - Google Patents
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- JPS623800B2 JPS623800B2 JP57009397A JP939782A JPS623800B2 JP S623800 B2 JPS623800 B2 JP S623800B2 JP 57009397 A JP57009397 A JP 57009397A JP 939782 A JP939782 A JP 939782A JP S623800 B2 JPS623800 B2 JP S623800B2
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- base layer
- glaze
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- tile
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、デザインタイルの装飾用施釉技法に
係り、特に、素焼きされたタイル素地上に施釉し
た後焼成して、任意の凹凸模様を形成することに
より、タイル表面に立体感のある装飾を施す方法
に関する。
係り、特に、素焼きされたタイル素地上に施釉し
た後焼成して、任意の凹凸模様を形成することに
より、タイル表面に立体感のある装飾を施す方法
に関する。
[従来の技術及び発明が解決しようとする問題
点] 従来、タイル表面の凹凸加飾方法としては、表
面に凹凸模様を加工したタイル素地を作る方法が
採用されていたが、この方法では、タイル素地表
面にスクリーン印刷法や転写印刷法等の公知の絵
付方法を適用することができないという欠点があ
る。
点] 従来、タイル表面の凹凸加飾方法としては、表
面に凹凸模様を加工したタイル素地を作る方法が
採用されていたが、この方法では、タイル素地表
面にスクリーン印刷法や転写印刷法等の公知の絵
付方法を適用することができないという欠点があ
る。
その他の方法として、特公昭53−37244号に、
撥水性の絵具をタイル素地へ印刷した後全面に施
釉し、次いで流水で撥水性絵具上の釉薬を除去す
るいわゆる強撥水技法が開示されている。しかし
ながら、この方法では、複雑な形状で細かく鋭敏
な線状凹凸模様を施すのは難しく、また流水で撥
水性絵具上の釉薬を完全に除去することは極めて
困難で、釉とびを起すなどの問題があつた。
撥水性の絵具をタイル素地へ印刷した後全面に施
釉し、次いで流水で撥水性絵具上の釉薬を除去す
るいわゆる強撥水技法が開示されている。しかし
ながら、この方法では、複雑な形状で細かく鋭敏
な線状凹凸模様を施すのは難しく、また流水で撥
水性絵具上の釉薬を完全に除去することは極めて
困難で、釉とびを起すなどの問題があつた。
本発明は、上記した従来の欠点を解消するデザ
インタイルの装飾用施釉技法(以下、「施釉技
法」と略称する)を提供するものである。
インタイルの装飾用施釉技法(以下、「施釉技
法」と略称する)を提供するものである。
[問題点を解決するための手段]
本発明のデザインタイルの装飾用施釉技法は、
タイル素地に釉薬と顔料を含む基層を設け、該基
層上の所望の部位に顔料及び低融点フリツトから
なる絵具を印刷した後、焼成して該絵具を基層と
反応させて基層を陥没させることを特徴とするも
のである。
タイル素地に釉薬と顔料を含む基層を設け、該基
層上の所望の部位に顔料及び低融点フリツトから
なる絵具を印刷した後、焼成して該絵具を基層と
反応させて基層を陥没させることを特徴とするも
のである。
以下、図面を参照して、本発明を詳細に説明す
る。
る。
本発明に係る施釉技法においては、第1図に示
す如く、素焼されたタイル素地1に、まずPbO
系、MgO系又はBaO系等のマツト釉等を施釉し
基層2を設ける。
す如く、素焼されたタイル素地1に、まずPbO
系、MgO系又はBaO系等のマツト釉等を施釉し
基層2を設ける。
基層2の釉薬としては、PbO系、MgO系又は
BaO系等のマツト釉の他、ブライト釉、半ブライ
ト釉、半マツト釉、強マツト釉等の広い範囲にわ
たる通常の釉薬が使用できる。。後述する絵具と
の反応により、凹陥を明瞭に現出させるために
は、基層2の釉薬としては、絵具中の低融点フリ
ツト成分に浸蝕させ易いマツト釉や強マツト釉が
適し、特に、無公害かつ安定であり、絵具の発色
をよくするBaO系のものが適している。
BaO系等のマツト釉の他、ブライト釉、半ブライ
ト釉、半マツト釉、強マツト釉等の広い範囲にわ
たる通常の釉薬が使用できる。。後述する絵具と
の反応により、凹陥を明瞭に現出させるために
は、基層2の釉薬としては、絵具中の低融点フリ
ツト成分に浸蝕させ易いマツト釉や強マツト釉が
適し、特に、無公害かつ安定であり、絵具の発色
をよくするBaO系のものが適している。
また、基層2の着色のために、これらの釉薬に
は通常の顔料を混合使用する。基層2に乳濁剤を
用いる場合には、被覆効果、発色安定性のよいジ
ルコンが適している。
は通常の顔料を混合使用する。基層2に乳濁剤を
用いる場合には、被覆効果、発色安定性のよいジ
ルコンが適している。
次いで、第1図bの如く、基層2上の所望の部
位に顔料及び低融点フリツトからなる絵具4を印
刷する。絵具4の顔料は、通常の顔料が使用でき
る。また、フリツトは、絵具を低温で溶融させ
て、基層2内に浸蝕・陥没させるために、低温
度、例えば約500〜700℃で軟化を始める成分、具
体的には(KNa)O、B2O3、PbO等の低融点成
分を含むものである。なお、絵具4の印刷はスク
リーン印刷等により行なうことができる。
位に顔料及び低融点フリツトからなる絵具4を印
刷する。絵具4の顔料は、通常の顔料が使用でき
る。また、フリツトは、絵具を低温で溶融させ
て、基層2内に浸蝕・陥没させるために、低温
度、例えば約500〜700℃で軟化を始める成分、具
体的には(KNa)O、B2O3、PbO等の低融点成
分を含むものである。なお、絵具4の印刷はスク
リーン印刷等により行なうことができる。
本発明においては、絵具4の塗着後、一部をボ
カシ模様にするために、スプレー掛けでボカシ施
釉を行なつても良い。もちろん、本発明の施釉技
法では、ボカシ施釉は必須ではない。
カシ模様にするために、スプレー掛けでボカシ施
釉を行なつても良い。もちろん、本発明の施釉技
法では、ボカシ施釉は必須ではない。
更に、必要に応じて、透明なマツト釉等から成
る表層5を流し掛けする。この透明なマツト釉等
からなる表層5は、素地1に施釉された施釉タイ
ルを匣鉢へ詰める作業で絵具4の面を保護するた
め、またスクリーン印刷された絵具4上面へ再度
重ね刷りする場合、プリント印刷用のマスクに絵
具4が付着するのを防止するなどの目的が施され
るが、重ね塗りをしない場合あるいは自動匣鉢詰
めする場合には必ずしも必要としない。
る表層5を流し掛けする。この透明なマツト釉等
からなる表層5は、素地1に施釉された施釉タイ
ルを匣鉢へ詰める作業で絵具4の面を保護するた
め、またスクリーン印刷された絵具4上面へ再度
重ね刷りする場合、プリント印刷用のマスクに絵
具4が付着するのを防止するなどの目的が施され
るが、重ね塗りをしない場合あるいは自動匣鉢詰
めする場合には必ずしも必要としない。
表層5を透明釉とする理由は、基層2及び絵具
4の色又は印刷された模様を表面から目視可能に
するためである。
4の色又は印刷された模様を表面から目視可能に
するためである。
なお、表層5はフイクシングメジウムで形成し
ても良い。この場合、釉面保護が図れると共に、
重ね刷りが可能である。
ても良い。この場合、釉面保護が図れると共に、
重ね刷りが可能である。
次いで、このようにタイル素地1の表面に基層
2、絵具4及び所望により表層5を設けた第1図
に示す如き施釉タイルを常法に従つて焼成する。
2、絵具4及び所望により表層5を設けた第1図
に示す如き施釉タイルを常法に従つて焼成する。
この焼成により、絵具4は基層2と反応して基
層2内に浸蝕・陥没する。即ち、絵具4中の低融
点フリツトは、焼成に際し速やかに溶融する。周
知の如く、低融点フリツトの融液は、低粘性でか
つ反応性の高いものである。そのため、絵具4中
のフリツトの融液は、未溶融状態にあるあるいは
溶融していても高粘性状態にある基層2を浸蝕
し、もしくは浸蝕と共に該基層2中に浸透する。
そのため、この低融点フリツトを含む絵具4を印
刷した部分では、第2図に示す如く選択的に陥没
して凹部3が形成されるようになるのである。
層2内に浸蝕・陥没する。即ち、絵具4中の低融
点フリツトは、焼成に際し速やかに溶融する。周
知の如く、低融点フリツトの融液は、低粘性でか
つ反応性の高いものである。そのため、絵具4中
のフリツトの融液は、未溶融状態にあるあるいは
溶融していても高粘性状態にある基層2を浸蝕
し、もしくは浸蝕と共に該基層2中に浸透する。
そのため、この低融点フリツトを含む絵具4を印
刷した部分では、第2図に示す如く選択的に陥没
して凹部3が形成されるようになるのである。
なお、本発明の施釉技法においては、前述の如
く、ボカシ施釉の採用、ボカシ施釉の前に絵具と
は別な模様を印刷する工程又は表層5を施した
後、新たな模様を印刷する工程を付加するなど、
様々な応用方法が採用可能である。
く、ボカシ施釉の採用、ボカシ施釉の前に絵具と
は別な模様を印刷する工程又は表層5を施した
後、新たな模様を印刷する工程を付加するなど、
様々な応用方法が採用可能である。
[実施例]
以下の調合仕様を採用し、後述する製造工程に
おいてデザインタイルの装飾施釉を行なつた。
おいてデザインタイルの装飾施釉を行なつた。
調合仕様
基層2…長石、珪石50部、粘土5部、フリツ
ト10部、顔料10部、他に石灰、亜鉛華、バリウ
ム、アルミナ等25部から成るマツト釉。
ト10部、顔料10部、他に石灰、亜鉛華、バリウ
ム、アルミナ等25部から成るマツト釉。
絵具4…(KNa)O、B2O3を含む低融点フ
リツト90部、顔料10部 ボカシ釉…長石、珪石50部、粘土8部、フリ
ツト10部、顔料10部、他に石灰、亜鉛華、バリ
ウム、アルミナ等30部 表層5…長石、珪石50部、粘土8部、フリツ
ト10部、他に石灰、亜鉛華、バリウム、アルミ
ナ等30部から成る透明マツト釉(ただし上記の
部とはすべて重量部である。) 製造工程 上記調合でもつてまずタイル素地(大きさ150
×150mm)上にマツト釉を膜掛けし基層2を設
け、次に基層2の全面へ絵具4をマスクでスクリ
ーン印刷する。さらにボカシ釉を施した後透明マ
ツト釉を全面施釉して表層5を形成する。このよ
うにして施釉されたタイルを、焼成炉にて約1050
〜1200℃で20時間程度焼成する。なお、この場
合、他条件によつては迅速焼成も採用可能であ
る。
リツト90部、顔料10部 ボカシ釉…長石、珪石50部、粘土8部、フリ
ツト10部、顔料10部、他に石灰、亜鉛華、バリ
ウム、アルミナ等30部 表層5…長石、珪石50部、粘土8部、フリツ
ト10部、他に石灰、亜鉛華、バリウム、アルミ
ナ等30部から成る透明マツト釉(ただし上記の
部とはすべて重量部である。) 製造工程 上記調合でもつてまずタイル素地(大きさ150
×150mm)上にマツト釉を膜掛けし基層2を設
け、次に基層2の全面へ絵具4をマスクでスクリ
ーン印刷する。さらにボカシ釉を施した後透明マ
ツト釉を全面施釉して表層5を形成する。このよ
うにして施釉されたタイルを、焼成炉にて約1050
〜1200℃で20時間程度焼成する。なお、この場
合、他条件によつては迅速焼成も採用可能であ
る。
得られたデザインタイルの表面には、絵具の印
刷模様に対応して、深くかつ鋭敏な線、曲線又は
複雑な形状の模様が形成されていた。このデザイ
ンタイルは、立体感を有し、装飾性に極めて優れ
たものであつた。
刷模様に対応して、深くかつ鋭敏な線、曲線又は
複雑な形状の模様が形成されていた。このデザイ
ンタイルは、立体感を有し、装飾性に極めて優れ
たものであつた。
[効果]
以上の通り、本発明によれば所望の凹凸模様を
有するデザインタイルが製造できる。
有するデザインタイルが製造できる。
第1図はタイル素地に施釉した状態を示すタイ
ルの断面図、第2図は焼成後のタイルの断面図で
ある。 1…タイル素地、2…基層、3…凹部、4…絵
具、5…表層。
ルの断面図、第2図は焼成後のタイルの断面図で
ある。 1…タイル素地、2…基層、3…凹部、4…絵
具、5…表層。
Claims (1)
- 1 タイル素地に釉薬と顔料を含む基層を設け、
該基層上の所望の部位に顔料及び低融点フリツト
からなる絵具を印刷した後、焼成して該絵具を基
層と反応させて基層を陥没させることを特徴とす
るデザインタイルの装飾用施釉技法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP939782A JPS58130176A (ja) | 1982-01-22 | 1982-01-22 | デザインタイルの装飾用施釉技法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP939782A JPS58130176A (ja) | 1982-01-22 | 1982-01-22 | デザインタイルの装飾用施釉技法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58130176A JPS58130176A (ja) | 1983-08-03 |
JPS623800B2 true JPS623800B2 (ja) | 1987-01-27 |
Family
ID=11719283
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP939782A Granted JPS58130176A (ja) | 1982-01-22 | 1982-01-22 | デザインタイルの装飾用施釉技法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58130176A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3279658A1 (en) | 2016-08-05 | 2018-02-07 | ARKRAY, Inc. | Quantification method for ammonia, quantification reagent, quantification reagent kit, and ammonia quantification device |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5339312A (en) * | 1976-09-21 | 1978-04-11 | Matsushita Electric Works Ltd | Process for forming relief pattern in surface of enameled products |
JPS53110618A (en) * | 1977-03-10 | 1978-09-27 | Kawatetsu Kinzoku Kogyo | Production of enameled decorative plate with concave patterns |
-
1982
- 1982-01-22 JP JP939782A patent/JPS58130176A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5339312A (en) * | 1976-09-21 | 1978-04-11 | Matsushita Electric Works Ltd | Process for forming relief pattern in surface of enameled products |
JPS53110618A (en) * | 1977-03-10 | 1978-09-27 | Kawatetsu Kinzoku Kogyo | Production of enameled decorative plate with concave patterns |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3279658A1 (en) | 2016-08-05 | 2018-02-07 | ARKRAY, Inc. | Quantification method for ammonia, quantification reagent, quantification reagent kit, and ammonia quantification device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58130176A (ja) | 1983-08-03 |
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