JPS58130176A - デザインタイルの装飾用施釉技法 - Google Patents
デザインタイルの装飾用施釉技法Info
- Publication number
- JPS58130176A JPS58130176A JP939782A JP939782A JPS58130176A JP S58130176 A JPS58130176 A JP S58130176A JP 939782 A JP939782 A JP 939782A JP 939782 A JP939782 A JP 939782A JP S58130176 A JPS58130176 A JP S58130176A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glaze
- paint
- parts
- base layer
- pigment
- Prior art date
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- Granted
Links
Landscapes
- Glass Compositions (AREA)
- Finishing Walls (AREA)
- Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、素焼されたタイル素地上に施釉した後、焼成
して任意の凹凸模様でタイル表面装飾に立体感をもたせ
ることを目的とする。
して任意の凹凸模様でタイル表面装飾に立体感をもたせ
ることを目的とする。
従来タイル表面の凹凸加飾方法は、表面に凹凸模様を加
工したタイル素地を作ることによって達成していたが、
該方法ではタイル素地表面にスクリーン印刷法や転写印
刷法等公知の給付方法は適用できなかった。その他の方
法として、特公昭５３−３７２４４号に、撥水性の絵具
をタイル素地へ印刷し全面へ施釉した後流水で撥水性絵
具上の釉薬を除去するいわゆる強撥水技法が開示されて
いるが、該方法では複雑な細かい鋭敏な線状凹凸模様を
施すのは難しく、また流水で撥水性絵具上の釉薬を完全
に除去することができなく釉とびを起すことがあった。
工したタイル素地を作ることによって達成していたが、
該方法ではタイル素地表面にスクリーン印刷法や転写印
刷法等公知の給付方法は適用できなかった。その他の方
法として、特公昭５３−３７２４４号に、撥水性の絵具
をタイル素地へ印刷し全面へ施釉した後流水で撥水性絵
具上の釉薬を除去するいわゆる強撥水技法が開示されて
いるが、該方法では複雑な細かい鋭敏な線状凹凸模様を
施すのは難しく、また流水で撥水性絵具上の釉薬を完全
に除去することができなく釉とびを起すことがあった。
本発明は上記した欠点を解消したデザインタイルの装飾
用施釉技法（以下施釉技法と略称する）であり、以下実
施例にそって説明する。本発明に係る施釉技法は、第１
．２図に示す如く素焼されたタイル素地１にまずＰｂＯ
系、ＭａＯ系又はＢａＯ系等のマット釉を施し基層２を
設け、該基層２上へ低温度で溶融する（ＫＮａ ）Ｏ、
Ｂ ２０３、Ｐｂ Ｏ等の成分を含み焼成時基層２と反
応することにより基１１２を浸蝕・陥没させ凹部３を形
成する絵具４をスクリーン印刷し、次に一部をボカシ模
様にするためスプレー掛けでボカシ施釉し、その後透明
なマット釉から成る表層５を流し掛けするものである。
用施釉技法（以下施釉技法と略称する）であり、以下実
施例にそって説明する。本発明に係る施釉技法は、第１
．２図に示す如く素焼されたタイル素地１にまずＰｂＯ
系、ＭａＯ系又はＢａＯ系等のマット釉を施し基層２を
設け、該基層２上へ低温度で溶融する（ＫＮａ ）Ｏ、
Ｂ ２０３、Ｐｂ Ｏ等の成分を含み焼成時基層２と反
応することにより基１１２を浸蝕・陥没させ凹部３を形
成する絵具４をスクリーン印刷し、次に一部をボカシ模
様にするためスプレー掛けでボカシ施釉し、その後透明
なマット釉から成る表層５を流し掛けするものである。
本発明の要点は、上記した基層２及び該基層２と反応し
基層２を浸蝕・陥没する絵具４にある。基層２はＰｂＯ
系、ＭｉＪ Ｏ系又はＢａＯ系等のマット釉から成るが
、その他ブライト釉 、半ブライト釉 、半マット釉
９強マット釉等の広い範囲にわたる通常の釉薬が使用で
きる。上記したように絵具４と反応し浸蝕・陥没を明瞭
に現出させるには、基層２の釉薬として、絵具４中の低
融点成分に浸蝕される程度の大きいマット釉、強マット
釉が適し、特に無公害で安定しかつマット化した時絵幕
４の発色をよくするＢａＯ系が適している。また基１ｉ
Ｉ２は着色を目的に通常の顔料を用い、乳濁剤として、
被覆効果９発色安定性のよいジルコンが適している。絵
具４はフリットと顔料とから成り、該フリットは絵具４
を低温で溶融させ基層２を浸蝕・陥没させるため低温度
（約５００〜７００℃）で軟化を始める（ＫＮａ ）０
、Ｂ ２０３．Ｐｂ Ｏ等の低融点成分を含む。また
顔料は絵具４による模様１発色を現出させるため必要で
通常の顔料が使用できる。本発明の施釉技法では、ボカ
シ模様のためボカシ施釉は必須でない。また透明なマッ
ト釉からなる表層５は、素地に施釉された施釉タイルを
匣鉢へ詰める作業で絵具４の面を保護するため、またス
クリーン印刷された絵具４上面へ再度−ね刷りする時プ
リント印刷用のマスクに絵具４が付着するのを防止する
ため施されるが、重ね刷りしない時また自動匣鉢詰めす
る時には必ずしも必要としない。表層５を透明釉とした
理由は、基層２及び絵具４の色又は印刷された模様を表
面から目視可能にするためであり、該透明釉の他有機物
から成る膜で釉面保護。
基層２を浸蝕・陥没する絵具４にある。基層２はＰｂＯ
系、ＭｉＪ Ｏ系又はＢａＯ系等のマット釉から成るが
、その他ブライト釉 、半ブライト釉 、半マット釉
９強マット釉等の広い範囲にわたる通常の釉薬が使用で
きる。上記したように絵具４と反応し浸蝕・陥没を明瞭
に現出させるには、基層２の釉薬として、絵具４中の低
融点成分に浸蝕される程度の大きいマット釉、強マット
釉が適し、特に無公害で安定しかつマット化した時絵幕
４の発色をよくするＢａＯ系が適している。また基１ｉ
Ｉ２は着色を目的に通常の顔料を用い、乳濁剤として、
被覆効果９発色安定性のよいジルコンが適している。絵
具４はフリットと顔料とから成り、該フリットは絵具４
を低温で溶融させ基層２を浸蝕・陥没させるため低温度
（約５００〜７００℃）で軟化を始める（ＫＮａ ）０
、Ｂ ２０３．Ｐｂ Ｏ等の低融点成分を含む。また
顔料は絵具４による模様１発色を現出させるため必要で
通常の顔料が使用できる。本発明の施釉技法では、ボカ
シ模様のためボカシ施釉は必須でない。また透明なマッ
ト釉からなる表層５は、素地に施釉された施釉タイルを
匣鉢へ詰める作業で絵具４の面を保護するため、またス
クリーン印刷された絵具４上面へ再度−ね刷りする時プ
リント印刷用のマスクに絵具４が付着するのを防止する
ため施されるが、重ね刷りしない時また自動匣鉢詰めす
る時には必ずしも必要としない。表層５を透明釉とした
理由は、基層２及び絵具４の色又は印刷された模様を表
面から目視可能にするためであり、該透明釉の他有機物
から成る膜で釉面保護。
重ね刷りを可能にするプイクシングメジウムが使用でき
る。本発明の施釉技法の変形例として、前述したボカシ
施釉を省略する方法、ボカシ施釉の前に絵具４とは別な
模様を印刷する工程又は表層５を施こした後新たな模様
を印刷する工程を付加することができる。
る。本発明の施釉技法の変形例として、前述したボカシ
施釉を省略する方法、ボカシ施釉の前に絵具４とは別な
模様を印刷する工程又は表層５を施こした後新たな模様
を印刷する工程を付加することができる。
実施例
調合例を記すと、
（１）基層２・・・長石、珪石５０部、粘土５部、フリ
ット１０部、顔料１０部、他に石灰、亜鉛華バリウム、
アルミナ等２５部から成るマット釉 （２）絵具４・・・フリット９０部、顔料１０部（３）
ボカシ釉・・・長石、珪石５０部、粘土８部、フリット
１０部、顔料１０部、他に石灰、亜鉛華、バリウム、ア
ルミナ等３０部 （４）表層５・・・長石、珪石５０部、粘土８部、フリ
ット１０部、他に石灰、亜鉛華、バリウム、アルミナ等
３０部から成る透明マット釉（ただし上記の部とはすべ
て重働部である。）製造工程 上記調合でもってまずタイル素地（大きさ１５０Ｘ１５
０＋＋＋ａ）上にマット釉を陽樹けし基層２を設け、次
に！１１１２の全面へ絵具４をマスクでスクリーン印刷
する。さらに透明マット釉を全面施釉する。このように
して施釉されたタイルを焼成炉にて約１０５０〜１２０
０℃で２０時間程度で焼成する。他条件によっては迅速
焼成も使用可能である。
ット１０部、顔料１０部、他に石灰、亜鉛華バリウム、
アルミナ等２５部から成るマット釉 （２）絵具４・・・フリット９０部、顔料１０部（３）
ボカシ釉・・・長石、珪石５０部、粘土８部、フリット
１０部、顔料１０部、他に石灰、亜鉛華、バリウム、ア
ルミナ等３０部 （４）表層５・・・長石、珪石５０部、粘土８部、フリ
ット１０部、他に石灰、亜鉛華、バリウム、アルミナ等
３０部から成る透明マット釉（ただし上記の部とはすべ
て重働部である。）製造工程 上記調合でもってまずタイル素地（大きさ１５０Ｘ１５
０＋＋＋ａ）上にマット釉を陽樹けし基層２を設け、次
に！１１１２の全面へ絵具４をマスクでスクリーン印刷
する。さらに透明マット釉を全面施釉する。このように
して施釉されたタイルを焼成炉にて約１０５０〜１２０
０℃で２０時間程度で焼成する。他条件によっては迅速
焼成も使用可能である。
以上のようにして得られたデザインタイルの表面装飾は
絵具が基層を浸蝕・陥没することにより、絵具の印刷模
様に対応して深くかつ鋭敏な線８曲線また複雑な形状の
模様を立体感をもたせ創作することができる。
絵具が基層を浸蝕・陥没することにより、絵具の印刷模
様に対応して深くかつ鋭敏な線８曲線また複雑な形状の
模様を立体感をもたせ創作することができる。
第１図はタイル素地へ施釉された状態を示すタイルの断
面図、第２図は焼成後のタイルの断面図１・・・タイル
素地、 ２・・・基層、 ３・・・凹部、４・・・絵具
、 ５・・・表層
面図、第２図は焼成後のタイルの断面図１・・・タイル
素地、 ２・・・基層、 ３・・・凹部、４・・・絵具
、 ５・・・表層
Claims (1)
- タイル素地に通常の釉薬と顔料から成る基層を設け、該
基層上へ通常の顔料及び低温度で溶融する＜ＫＮａ ）
Ｏ，８２０３等の成分を含むフリットからなり焼成時薇
層と反応することにより基層を浸蝕・陥没させる絵具を
施すことを特徴とするデザインタイルの装飾用施釉技法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP939782A JPS58130176A (ja) | 1982-01-22 | 1982-01-22 | デザインタイルの装飾用施釉技法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP939782A JPS58130176A (ja) | 1982-01-22 | 1982-01-22 | デザインタイルの装飾用施釉技法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58130176A true JPS58130176A (ja) | 1983-08-03 |
| JPS623800B2 JPS623800B2 (ja) | 1987-01-27 |
Family
ID=11719283
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP939782A Granted JPS58130176A (ja) | 1982-01-22 | 1982-01-22 | デザインタイルの装飾用施釉技法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58130176A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20180037927A1 (en) | 2016-08-05 | 2018-02-08 | Arkray, Inc. | Quantification Method for Ammonia, Quantification Reagent, Quantification Reagent Kit, Test Piece, and Ammonia Quantification Device |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5339312A (en) * | 1976-09-21 | 1978-04-11 | Matsushita Electric Works Ltd | Process for forming relief pattern in surface of enameled products |
| JPS53110618A (en) * | 1977-03-10 | 1978-09-27 | Kawatetsu Kinzoku Kogyo | Production of enameled decorative plate with concave patterns |
-
1982
- 1982-01-22 JP JP939782A patent/JPS58130176A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5339312A (en) * | 1976-09-21 | 1978-04-11 | Matsushita Electric Works Ltd | Process for forming relief pattern in surface of enameled products |
| JPS53110618A (en) * | 1977-03-10 | 1978-09-27 | Kawatetsu Kinzoku Kogyo | Production of enameled decorative plate with concave patterns |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS623800B2 (ja) | 1987-01-27 |
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