JPS6237038B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は新規なカルボン酸アミド誘導体に関す
る。 本発明のカルボン酸アミド誘導体は文献未載の
新規化合物であつて、下記一般式〔〕で表わさ
れる。 〔式中R¹は水素原子又はハロゲン原子を示す。R²
及びR³は同一又は異なつて水素原子、低級アル
キル基、シクロアルキル基、フエニル低級アルキ
ル基、低級アルケニル基、又はニトロ基、ハロゲ
ン原子、低級アルコキシ基、低級アルコキシカル
ボニル基、低級アルキル基及びハロゲン置換低級
アルキル基からなる群から選ばれた１〜３個の置
換基を有することのあるフエニル基を示す。Ｘは
フエニル基を置換基として有することのある低級
アルキレン基を示す。〕 上記一般式〔〕で表わされる本発明の化合物
は、優れた抗炎症作用、降圧作用、鎮痛作用、解
熱作用等を有し、抗炎症剤、降圧剤、鎮痛剤及び
解熱剤として有用である。 上記一般式〔〕において示される各基は具体
的にはそれぞれ以下の基を例示できる。 ハロゲン原子としては、例えば弗素原子、塩素
原子、臭素原子、沃素原子等を挙げることができ
る。 低級アルキル基としては、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、tert−ブ
チル、ペンチル、ヘキシル基等を挙げることがで
きる。 シクロアルキル基としては、例えばシクロプロ
ピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘ
キシル、シクロヘプチル、シクロオクチル基等を
挙げることができる。 フエニル低級アルキル基としては、例えばベン
ジル、α−フエネチル、β−フエネチル、３−フ
エニルプロピル、４−フエニルブチル、１・１−
ジメチル−２−フエニルエチル、５−フエニルペ
ンチル、６−フエニルヘキシル基等を挙げること
ができる。 低級アルケニル基としては、例えば２−プロペ
ニル、２−ブテニル、３−ブテニル、２−ペンテ
ニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、４−ヘ
キセニル基等を挙げることができる。 低級アルコキシ基としては、例えばメトキシ、
エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、tert−ブトキシ基等を挙げることができる。 低級アルコキシカルボニル基としては、例えば
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロ
ポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、
ブトキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニル
基等を挙げることができる。 ハロゲン置換低級アルキル基としては、例えば
トリフルオロメチル、トリクロロメチル、２・
２・２−トリフルオロエチル基等を挙げることが
できる。 ニトロ基、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、
低級アルコキシカルボニル基、低級アルキル基及
びハロゲン置換低級アルキル基からなる群から選
ばれた１〜３個の置換基を有することのあるフエ
ニル基としては、例えばフエニル、４−メチルフ
エニル、３−トリフルオロメチルフエニル、３・
４−ジメチルフエニル、３・４・５−トリメチル
フエニル、２−エチルフエニル、４−トリクロロ
メチルフエニル、２−メトキシフエニル、３・４
−ジメトキシフエニル、３・４・５−トリメトキ
シフエニル、３−エトキシフエニル、４−メトキ
シフエニル、４−クロロフエニル、２・４−ジク
ロロフエニル、２・６−ジクロロフエニル、３・
４・５−トリクロロフエニル、３・４−ジブロモ
フエニル、４−フルオロフエニル、２−フルオロ
フエニル、２−クロロフエニル、３・４−ジメト
キシ−２−クロロフエニル、４−ニトロフエニ
ル、２−ニトロフエニル、２−メトキシカルボニ
ルフエニル、４−エトキシカルボニルフエニル基
等を挙げることができる。 フエニル基を置換基として有することのある低
級アルキレン基としては、例えばメチレン、エチ
レン、プロピレン、イソプロピレン、ブチレン、
ペンタメチレン、ヘキサメチレン、メチルメチレ
ン、フエニルメチレン、１−フエニルエチレン、
２−フエニルエチレン、１−フエニルプロピレ
ン、２−フエニルプロピレン、３−フエニルプロ
ピレン、１−フエニルブチレン、２−フエニルブ
チレン、３−フエニルブチレン、４−フエニルブ
チレン、１−フエニルペンタメチレン、２−フエ
ニルペンタメチレン、３−フエニルペンタメチレ
ン、４−フエニルペンタメチレン、５−フエニル
ペンタメチレン、１−フエニルヘキサメチレン、
２−フエニルヘキサメチレン、３−フエニルヘキ
サメチレン、４−フエニルヘキサメチレン、５−
フエニルヘキサメチレン、６−フエニルヘキサメ
チレン基等を挙げることができる。 本発明の化合物は種々の方法により製造される
が、その好ましい一例を挙げれば例えば下記反応
式に示す如く、脱酸剤の存在下に一般式〔〕で
表わされる２−メルカプトチアゾロ〔５・４−
ｂ〕ピリジン誘導体と一般式〔〕で表わされる
ハロアミド誘導体とを反応させることにより製造
される。 反応式 〔式中Ｙは弗素、塩素、臭素、沃素原子等のハロ
ゲン原子を示す。R¹、R²、R³及びＸは前記に同
じ。〕 一般式〔〕の化合物と一般式〔〕の化合物
との反応において用いられる脱酸剤としては、従
来公知の塩基性化合物を広く使用でき、具体的に
はピリジン、トリエチルアミン、ジエチルアニリ
ン、Ｎ−メチルモルホリン、トリエチレンジアミ
ン等の有機塩基、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水素化ナトリウム、ナトリウムメトキ
シド、カリウムメトキシド、ナトリウムエトキシ
ド、カリウムエトキシド等の無機塩基等を例示で
きる。これらのうち脱酸剤として無機塩基を使用
するのが有利である。上記反応は一般には適当な
溶媒中にて行なわれる。溶媒としては反応に悪影
響を及ぼさない限り公知のものをいずれも使用で
き、具体的にはベンゼン、トルエン、キシレン、
石油エーテル等の芳香族ないし脂肪族炭化水素
類、エチルエーテル、メチルフエニルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン等の鎖状ないし
環状エーテル類、アセトン、メチルエチルケト
ン、アセトフエノン等のケトン類、メタノール、
エタノール、イソプロパノール等の低級アルコー
ル類等が、用いられる脱酸剤の種類、原料物質の
性状、その他の反応条件に応じて適宜選択使用さ
れる。該反応において、一般式〔〕の化合物の
うちＹが沃素原子以外のハロゲン原子を示す化合
物を出発原料として使用する場合は、反応系内に
沃化カリウム、沃化ナトリウム等の沃化アルカリ
金属化合物を存在させておくのが好適である。 上記反応において一般式〔〕の化合物と一般
式〔〕の化合物との使用割合としては特に限定
されず広い範囲内から適宜選択できるが、通常前
者に対して後者を等モル〜過剰量、好ましくは等
モル程度用いるのがよい。該反応は冷却下、室温
下及び加温下のいずれでも行なわれるが、通常は
室温〜溶媒の還流温度下にて行なうのがよい。該
反応は一般に３〜12時間程度で終了する。 斯くして得られる本発明の化合物は、慣用の分
離手段、例えば溶媒抽出、再結晶、カラムクロマ
トグラフイー、プレパラテイブ薄層クロマトグラ
フイー等により容易に単離精製される。 次に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説
明する。 実施例 １ Ｎ−メチル−α−クロロフエニル酢酸アミド
1.8ｇをアセトン30mlに溶解し、次いで沃化ナト
リウム1.5ｇを加え、３時間加熱還流する。放冷
後、撹拌下に２−メルカプトチアゾロ〔５・４−
ｂ〕ピリジン1.6ｇ及び無水炭酸ナトリウム1.0ｇ
を加え、再び６時間加熱還流する。放冷後、反応
混合物中に水100mlを加え、クロロホルムで抽出
する。ボウ硝上で乾燥後、溶媒を留去する。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフイー（クロロ
ホルム／メタノール（20：１）で溶出）に付し、
Ｎ−メチル−α−（チアゾロ〔５・４−ｂ〕ピリ
ジン−２−イル）チオフエニル酢酸アミドを得
た。ベンゼン−ｎ−ヘキサンより再結晶し、淡褐
色針状晶1.3ｇを得た。mp155.5〜157.0℃（分
解） 実施例 ２〜14 上記実施例１と同様にして下記第１表に記載の
各化合物を得る。

【表】

【表】

【表】

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中R¹は水素原子又はハロゲン原子を示す。R²
   及びR³は同一又は異なつて水素原子、低級アル
   キル基、シクロアルキル基、フエニル低級アルキ
   ル基、低級アルケニル基、又はニトロ基、ハロゲ
   ン原子、低級アルコキシ基、低級アルコキシカル
   ボニル基、低級アルキル基及びハロゲン置換低級
   アルキル基からなる群から選ばれた１〜３個の置
   換基を有することのあるフエニル基を示す。Ｘは
   フエニル基を置換基として有することのある低級
   アルキレン基を示す。〕 で表わされるカルボン酸アミド誘導体。