JPS6236598A - 放射線増感スクリ−ンおよびその製造法並びに放射線像形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、放射線増感スクリーン、その製造法および放
射線像形成方法に関するものである。

［発明の技術的背景および従来技術］ 放射線増感スクリーンは、医療診断を目的とするＸ線撮
影等の医療用放射線撮影、物質の非破壊検査を目的とす
る工業用放射線撮影などの種々の分野における放射線写
真撮影において、撮影系の感度を向上させるために、放
射線写真フィルムの片面あるいは両面に密着させるよう
に重ね合わせて使用される。この放射線増感スクリーン
は、基本構造として、支持体とその片面に設けられた蛍
光体層とからなるものである。なお、この蛍光体層の支
持体とは反対側の表面（支持体に面していない側の表面
）には一般に、透明な保護膜が設けられていて、蛍光体
層を化学的な変質あるいは物理的な衝撃から保護してい
る。

蛍光体層は、蛍光体粒子を分散状態で含有支持する結合
剤からなるものであり、この蛍光体粒子は、Ｘ線等の放
射線によって励起された時に高輝度の発光を示す性質を
有するものである。従って、被検体を透過した放射線の
量に応じて蛍光体は高輝度の発光を示し、放射線増感ス
クリーンの蛍光体層の表面に接するようにして重ね合わ
せて置かれた放射線写真フィルムは、この蛍光体の発光
によっても感光するため、比較的少ない放射線量で写真
フィルムの充分な感光を達成することができる。

放射線写真撮影においては通常、放射線増感スクリーン
と放射線写真フィルムとの組合せからなるスクリーン拳
フィルム撮影系として、片面フィルムの感光層側に一枚
のスクリーンを配置してなる撮影系、もしくは両面フィ
ルムの両側に二枚のスクリーン（フロントおよびバック
スクリーン）をそれぞれ配置してなる撮影系が利用され
ている。ここにおいて、放射線写真フィルムは、基本構
造として、支持体と、その片面もしくは両面に設けられ
たハロゲン化銀を分散状態で含有支持する結合剤からな
る感光層とからなるものである。

上記の放射線増感スクリーンについては、感度が高いこ
とおよび画質（解像力、鮮鋭度、粒状性等）の良好な画
像を与えるものであることが望まれる。また、スクリー
ン・フィルム撮影系はできる限り少ない被曝線量で情報
量の豊富な画像を得るために、感度および得られる画像
の画質を向上させることが望まれている。

上記従来の放射線増感スクリーンにおいて、蛍光体粒子
は支持体上に設けられた蛍光体層中に分散状態で存在す
るために、被写体を透過したＸ線等の放射線は、増感ス
クリーンの蛍光体層に入射したのちその一部は蛍光体に
より吸収されて可視乃至赤外光に変換される。この蛍光
体から発せられた光には方向性がなく、光の一部は直接
に放射線写真フィルムの感光層に入射して画像形成に寄
与するが、残りは蛍光体層中で蛍光体粒子等によって散
乱されたり、スクリーンの支持体等で反射されたのちフ
ィルムの感光層に吸収されることになる。すなわち、蛍
光体層が横方向（放射線の入射方向に垂直な方向）に連
続であるために、蛍光が感光層に入射して画像を形成す
る前に蛍光体層中で広がってしまい、フィルム上には本
来の被写体の透過像に比べて解像力の劣ったぼやけた放
射線像が形成されることになる。

さらに放射線写真フィルムが両面フィルムである場合に
は、放射線フィルムに入射した蛍光の一部はフロントス
クリーン側の感光層に吸収されるが、残りはフィルムの
支持体を透過して（いわゆルクロスオーバー光）バック
スクリーン側の感光層に吸収されるために、感度は高ま
るものの放射線フィルム中での蛍光の広がりによって画
像はぼやけたものとなる。また、放射線の一部は、フロ
ントスクリーンおよび放射線フィルムを透過したのちバ
ックスクリーンの蛍光体層により吸収されて蛍光に変換
され、この蛍光もまた上記と同様の挙動をとるために、
フィルム上に形成された画像は解像力など画質の点で不
十分なものとなりがちであった。

放射線の可視乃至赤外光への変換効率を高めるために放
射線増感スクリーンの蛍光体層を厚くした場合には、蛍
光体層における光の散乱は一層増し、またフィルムの感
光層との距離が大きくなることにより光束の広がりが生
じて解像力の低下を期たすことになる。従って、感度と
解像力等の画質の両方を同時に高めることが困難であっ
た。

［発明の要旨］ 本発明は、画質、特に解像力の向上した画像を与える放
射線増感スクリーンおよびその製造法を提供することを
その目的とするものである。

また、本発明は、画質、特に解像力の向上した画像を与
えるスクリーン・フィルム撮影系を利用する放射線像形
成方法を提供することもその目的とするものである。

すなわち、本発明は、支持体の片面に規則正しく設けら
れた多数の凹部に蛍光体が充填された構造を有する放射
線増感スクリーンを提供するものである。

また、本発明は、支持体の表面に方向性ドライエツチン
グを行なうことにより支持体の片面に多数の凹部を規則
正しく形成したのち、この凹部に蛍光体を充填すること
からなる放射線増感スクリーンの製造法、および 基板の表面に方向性ドライエツチングを行なうことによ
り該基板に多数の空孔を規則正しく形成したのち、この
空孔に蛍光体を充填し、次いで該基板の片面に層を設け
ることからなる放射線増感スクリーンの製造法、 を提供するものである。

さらに、本発明は、放射線写真フィルムと放射線増感ス
クリーンとからなるスクリーン・フィルム撮影系を利用
する放射線像形成方法において、該放射線増感スクリー
ンが、支持体の片面に規則正しく設けられた多数の凹部
に蛍光体が充填された構造を有することを特徴とする放
射線像形成方法を提供するものである。

本発明は、放射線増感スクリーンにおいて従来の支持体
と蛍光体層とからなるａ成の代りに、支持体に一定形状
の凹部を多数形成し、この凹部のそれぞれに蛍光体を充
填した構成とすることにより、解像力など得られる画像
の画質の向上を実現するものである。

本発明の放射線増感スクリーンによれば、蛍光体粒子は
、従来のように層として存在するのではなく多数の凹部
（マイクロセル）に局在化して存在するために、マイク
ロセル中の蛍光体から発せられた光は該マイクロセル内
で散乱あるいは反射されてもそれ以上に広がりをもつこ
となく各マイクロセルから隣接する放射線フィルムに向
かって放射される。従って、増感スクリーンにおける蛍
光の横方向への広がりを顕著に防止することができ、高
解像力の画像を得ることができる。

特に、凹部の内面に光反射層を設けた場合には、より一
層各マイクロセル内に光が閉じ込められるために感度を
それほど低下させることなく上記効果を更に高めること
ができる。

また、本発明においては、スクリーン・フィルム撮影系
において放射線増感スクリーンのみならず、それと重ね
合わせて用いられる放射線写真フィルムをも感光要素が
充填された凹部を支持体表面に多数設けた構成とするこ
とにより、解像力など得られる画像の画質の一層の向上
を実現することができる。

すなわち、放射線フィルムに入射した光は各凹部（マイ
クロセル）の感光要素に吸収されて画像が形成されるの
であるが、この際にハロゲン化銀等の感光要素はマイク
ロセル単位で遮断されて独立に存在するために、蛍光が
放射線フィルム中で横方向に広がるのを防ぐことができ
る。

さらに、増感スクリーンおよび放射線フィルムの両表面
に設けられたマイクロセルの開口部の形状およびマイク
ロセルの配置を同一にし、かつ両者の位置を合わせて重
ね合わせることにより、スクリーン側のマイクロセル中
で発した蛍光はスクリーンおよびフィルムの一対のマイ
クロセルに閉じ込められるために、解像力等の画質を向
上させることができるのみならず感度をも高めることが
できる。

特に、放射線フィルム側のマイクロセル内面にも光反射
層を設けることにより、この効果を一層高めることがで
きる。フィルムの両面に光反射層を有するマイクロセル
が設けられている場合には、フィルムの支持体を透過し
たクロスオーバー光による感光を防止することができ、
この点でも画質を向上させることができる。

これらに加えて、マイクロセルを位置的に補間する関係
をもって放射線フィルムの両面に設けた場合には、撮影
系に入射した放射線の損失が少なく感度を一層高めるこ
とができ、かつ粒状消失による画質が一層向上する。

［発明の構成］ 以上述べたような好ましい特性を持った本発明の放射線
増感スクリーンは、たとえば、次に述べるような方法に
より製造することができる。

本発明において支持体を構成する基板は、Ｘ線などの放
射線に対する吸収率が低く、かつ加工性の優れたもので
あるのが望ましい、これにより支持体中での放射線の損
失を少なくし、そして支持体表面には多数の微小の凹部
を規則正しく形成することができる。更に放射線写真フ
ィルムとの位置合わせを要する場合には、凹部の位置が
温度変化によってずれることがないように線膨張率の小
さな材料を用いるのが好ましい。

そのような材料としては、たとえばセルロースアセテー
ト、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、
ポリプロピレン等の炭素、水素および窒素原子からなる
有機高分子物質を挙げることができる。更に詳しくは、
化学便覧、応用編。

第１０章ｒ高分子化学工業」、日本化学会編１９８０年
（丸首）に記載されており、これに記載の物質の中から
適当に選択して使用することができる。これら材料から
なるフィルムにはカーボンブラック、有機染料などの光
吸収性物質、あるいは二酸化チタンなどの光反射性物質
が練り込まれていてもよく、支持体自体を光吸収性また
は光反射性とすることもできる。

また、基板の材料としては、Ｍｇ、ＡＪＬ、Ｔｉ等の軽
金属；ＳｉＯ□、Ａ立２０３、ケイ酸アルミニウム等を
主成分とするガラスおよびセラミックスを挙げることが
できる。これらの材料はｘｍ吸収率および線膨張率が小
さいことに加えて光反射特性の点で優れており、凹部を
形成した場合にその内面を光反射性とすることができる
。このほかに、上記化学便覧、第６章ｒ窯業」に記載の
物質の中から適当に選択して使用することができる。

基板にはこれら材料の複合材料を用いることもできる。

たとえば、有機高分子物質からなる基板上に、二酸化チ
タンなどの光反射性物質からなる光反射層、もしくはカ
ーボンブラックなどの光吸収性物質からなる光吸収層を
設けたものであってもよい、Ａ体重には、ポリエチレン
テレフタレート上に二酸化チタンの光反射層を設け、こ
の光反射層に前記の凹部をうがつことにより自動的に光
反射層を凹部内部に設けることができる。

特に、蛍光の横方向への広がりを効果的に防止するため
には、有機染料等で着色された光吸収層をマイクロセル
の深さに応じた層厚で設けるのが好ましい、また、カー
ボンブラックが練り込まれた光吸収層は、帯電防止性能
をも具備する点で好ましい。

従って、本発明における支持体には、基板のみからなる
もの、および基板表面に光反射層、光吸収層など各種の
層が付設されたものが含まれる。

支持体の片面には、本発明の特徴的な要件である微小の
凹部（マイクロセル）が規則的に多数形成される。

第１図は１本発明の放射線増感スクリーンの典型的な実
施態様を示す、第１図において、増感スクリーンは支持
体（基板）１１からなり、その片面には蛍光体の充填さ
れた凹部（マイクロセル）１２が設けられている。

マイクロセルの開口部の形状としては、三乃至中角形、
円形、楕円形など任意の形状を選ぶことができる０本発
明においてマイクロセルは支持体表面に規則正しく配列
される。たとえば、第２図（ａ）に示すような整列であ
ってもよいし、あるいは（ｂ）に示すような一列おきに
半分ずらした（いわゆる絵素ずらし）配列であってもよ
い。

また、マイクロセルの断面形状は、正方形、長方形、台
形、半円形および半楕円形などのいずれであってもよい
、これらのうちで、マイクロセル内の蛍光体から発せら
れた光を効率良くマイクロセル外に放出（すなわち、隣
接する放射線フィルムに入射）させるためには、第３図
（ａ）に示すように、支持体３１ａ上に設けられたマイ
クロセル３２ａの開口部の口径ｄ１が底部の口径ｄ２よ
りも大きな台形、あるいは（ｂ）に示すように（３１ｂ
　：支持体、３２ｂ：マイクロセル）、半円形であるの
が好ましい、なお１本発明において開口部の口径とは、
開口部が円形である場合には直径を意味し、開口部が多
角形である場合には多角形の最大直線距離を意味する。

マイクロセルは、たとえば、型押加工、ウェットエツチ
ングおよびドライエツチングなどのリソグラフィーを利
用して支持体表面に形成することができる。具体的には
、セルロースアセテートフィルムなどのプラスチックフ
ィルムからなる支持体を適当な溶媒（ジクロルメタン：
エタノール＝８０　：　２０の容積比の混合溶媒）に数
秒間接触させて支持体を柔らかくした後、この支持体上
にマイクロセル形状にエツチングした銅板を押し付ける
ことにより、支持体上に多数のマイクロセルを形成する
ことができる。

あるいは、支持体上にクロム硬膜を塗布形成し、紫外線
等の電磁波で開口部の配列形状にパターン露光したのち
適当なエツチング液に浸漬することによりマイクロセル
形状にエツチングしてもよいし、ポジ型またはネガ型の
フォトレジスト膜を支持体上に形成してパターン露光し
た後エツチングを行なってもよい、エツチング液として
は硫酸／過酸化水素等を用いることができる。

さらに、半導体研究１４．「超ＬＳＩ技術微細加工Ｊ、
半導体研究振興会編（工業調査会発行）に記載されてい
る各種の方法を利用することができる。

これらのうちで、ドライエツチング法、フォトリングラ
フイー法、電子線リソグラフィー法およびＸＭリソグラ
フィー法が本発明に適している。

フォトレジストとしてはポジ型、ネガ型のいずれでも適
宜用いることができる。特に、開口部の口径が小さく、
深さが大きなマイクロセルを形成するためには、方向性
を有するドライエツチング法が好ましい。

具体的には、プラスチックフィルムからなる支持体上に
Ａｎ等の金属を蒸着してフォトリソグラフィー、ウェッ
トエツチング等により金属膜のパターン化を行なった後
、この金属膜をマスクにして０□ガス、ＣＣＩ　、ガス
等による反応性イオンエツチング（ＲＩ　Ｅ　；　ｒｅ
ａｃｔｉｖｅ　ｉＯｎ　ｅｔｃｈｉｎｇ）を行なう、た
とえば支持体が有機高分子物質からなる場合に、ＡＭと
有機高分子物質とのエツチング比（Ａ！Ｌ／有機高分子
物質）は約１／１０００であり、支持体のみをエツチン
グすることができる。また、有機高分子物質のエツチン
グ速度は該物質の温度上昇により加速され゛るから、支
持体を８０〜２００℃の温度範囲で加熱してエツチング
を行なうのがよい、たとえば、１００〜１５０℃の範囲
の温度であれば一般にエツチング速度は０．７ｇｒｎ１
分であり、１４０μｍの深さにエツチングするのに約２
００分を要する０反応ガスとしては少量（例えば、１０
−２〜２０モル％）のＣＦ４を含む０２ガスが好ましく
、ＣＦ４ガスプラズマにより該物質中に含まれる微量の
金属を除去することができる。この場合に、ＡｆＬマス
クはガスプラズマでは殆どエツチングされないので問題
ない。

なお、Ｌ記の反応性プラズマエツチングは電気回路等の
微細加工には利用されているが、本発明におけるような
画像記録媒体および画像形成材料の製造法に適用された
例はなく、公知の方法では不可能であった開口部の口径
が小さく、深さが大きなマイクロセルの形成が可能とな
るものである。また、電気回路等におけるようにエツチ
ングによりその機能が破壊されるとの問題もなく、本発
明においては反応性プラズマエツチングを好適に利用す
ることができる。

他の物質からなる支持体に対しても同様にして反応性プ
ラズマエツチングを行なうことができるが、その際のマ
スク材の選定については、例えば「半導体プラズマプロ
セス技術ｊ、菅野卓雄編、１９８０年版（産業図書）の
記載を参考にすることができる。たとえば、Ａｎからな
る支持体はマスクとしてＳ　ｉ０２を用い、反応ガスと
してＣＣ！２．４ガスを用いることによりエツチングす
ることができる。

Ｌ記の台形の断面形状にマイクロセルを形成するために
は、方向性ドライエツチング時における印加電圧を小さ
くして一定方向へのイオンの加速を弱めたり、ガス圧を
高くして一定方向に加速されたイオンの他のガス分子と
の衝突による散乱確率を増加させることにより、セル側
面に傾斜をつけることができる。あるいは、放電分離型
の方向性ドライエツチング法を利用してもよい、この場
合には、放電によりプラズマイオンを形成する電極とイ
オンに方向性を持たせるための電場を形成する電極とが
別であるために、プラズマイオン種の濃度とイオンを一
定方向に加速する加速電場とをそれぞれ任意に変化させ
ることができ、その選択範囲がより広くなる点で好まし
い、なお、放電分離型のものには、プラズマ発生部と方
向性イオンエツチング部とが位置的に離れているもの、
および両者は同一の場所にあるがプラズマ発生部の電極
対に直角に方向性イオンエツチング部の電極対が存在す
るものがある０両者の分離性の点からは前者の位置的に
離れたタイプの方が好ましい。

また、エツチングの方向性をコントロールするには平行
平板電極間に印加する電圧を変えたり、印加する時間と
印加しない時間の比（通常ｄｕｔｙ比という）を変えた
りすることが有効である。

なお、酸によるウェットエツチングでは酸溶液と接触し
た面が均等に浸食されるために、深さ方向に長いマイク
ロセル（例えば、開口部の口径が２０ｐｍ、深さが１０
１０Ｏ４を形成することは困難である。また、支持体と
してフォトレジスト層を形成し、マスクによりこのレジ
スト層をエツチングする場合には、マスクのパターンエ
ツジで回折された光が大きく広がるために深さ方向に均
等に露光されず、従って良好なエツチングが行なわれ難
い０層厚の薄いレジスト層の塗布形成およびパターニン
グ操作を繰り返す方法も可能であるが操作が煩雑になり
、またセル形状がいびつになりやすいとの欠点がある。

型押加工の場合には１０４ｍオーダーの微細加工は殆ど
不可能である。また、型押の金型はウェットエツチング
で作成されるが、この際に狭いセル間隔でエツチングす
ることは更に困難である。

上記方法については、ｒ半導体ハンドブック１第二版、
第１Ｏ１１１章、柳井久義！（オーム社）の記載を参考
にすることができる。

また、マイクロセルは第４図に示すように、基板４１を
貫通するように孔４２を形成してもよい、この場合には
、形成された空孔に蛍光体を充填したのち片面に光反射
層等の層４３を設けてセルの底部を形成する。従って、
マイクロセルは基板４１および層４３を壁面として形成
される。ここで、支持体は基板４１と層４３からなり、
このような構成のものも本発明の増感スクリーンに含ま
れる。この製造法によれば、セルを一定の深さにそろえ
ることができ、またセル中の空気等は他方の開口部より
排出されるのでこれらに妨害されずに蛍光体粒子を容易
かつ迅速に充填することができる。またバインダーの溶
媒が両方の開口部から蒸発するので充填後の乾燥性もよ
い、さらに、この方法では極部的な異常放電や、被エツ
チング材のチャンネリングと呼ばれる現象による局所的
なエツチング速度の上昇等によるエツチング深さのバラ
ツキといった問題が解消されるという利点がある。

このようにして形成されたマイクロセルは一般に、開口
部の口径（ｄ、）が１〜５００μｍの範囲にあり、セル
の深さくｈ）が１〜５００　μｍの範囲にある。好まし
くは、ｄ、が１〜５０μｍの範囲にあり、ｈが１〜２０
０７ｚｍの範囲にある。

セルの開口部の口径と深さとの比率は１：３．５乃至１
：３０の範囲にあるのが好ましい、また。

マイクロセルの断面形状が台形である場合には（第３図
（Ｌ）参照）、開口部の口径（ｄ、）と底部の口径（ｄ
２）との比率は通常１１：１０乃至４：１の範囲にあり
、好ましくは６：５乃至２：ｌである。

マイクロセルとマイクロセルとの間隔（ｄ、）は一般に
０．５〜３００μｍの範囲にあり、そしてセルの開口部
の面積の総和は支持体の表面積の５０〜９９％の範囲に
ある。好ましくは７０〜９０％である。

マイクロセルの内面には、第５図に示すように（５１：
基板、５２二マイクロセル、５３：光反射層または光吸
収層、５４：蛍光体）、画質および感度の向上の点から
は光反射層が設けられているのが好ましく、また鮮鋭度
等の画質の点からは光、吸収層ｂ＜設けられているのが
好ましい、光反射層の材料としては、可視乃至赤外光に
対する反射率の高い物質が用いられ、たとえばＡｇ、Ａ
ｎ、Ａｕ、Ｒｈ、Ｃｕ、Ｔｉ等の金属およびこれらの合
金、金属ケイ化物；ＴｉＯ２（ルチル型、アナターゼ型
）、硫化亜鉛、硫酸バリウム、ダイヤモンド粉、ＭｇＯ
等の白色顔料および有色顔料；マグネシア粉を挙げるこ
とができる。これらのうちで、Ｘ線等の放射線が入射す
る側（すなわち、フロントスクリーン側）の光反射層材
料としては、感度の点からＸ線吸収の少ない物質が好ま
しく。

原子番号の小さなＡｎ、Ｔｊ、ＴｉＯ２、ダイヤモンド
粉などが好ましい、また、Ｘ線の放出される側（バック
スクリーン側）の光反射層材料には特に制限はなく、高
反射性および製造性の点から選択される。

また、光吸収層の材料としては、′励起光に対する吸収
率が高くかつ輝尽光に対する吸収率が低い物質が好まし
い、たとえば、カーボンブラック。

および特開昭５５−１６３５００号公報、特開昭５７−
９６３００号公報等に記載されている励起光の波長領域
の光を選択的に吸収する有機染料および顔料が用いられ
る。光吸収層は特に、蛍光の横方向への広がりを防止す
る目的から、マイクロセルの側面部に設けられているの
が好ましい。

マイクロセル内面への光反射層および光吸収層の付設は
、通常の塗布方法により凹部内壁に塗布形成してもよい
し、前記のように基板上に一様な厚みの光反射層あるい
は光吸収層を設け、この光反射層あるいは光吸収層に規
則的に凹部をうがつ方法を用いてもよい、また、支持体
を構成する基板を貫通して空孔が設けられている場合に
は、基板表面に光反射性物質または光吸収性物質の分散
物を塗布した後、基板の片面を減圧状態にしておいて該
分散物を孔中を通過させることにより光反射層または光
吸収層を設けてもよいし、あるいは蒸着の際に気体状の
ＡＭ（例えば、抵抗加熱により蒸発させたＡＩＬ原子、
Ａｎｎ分子）を強制的に孔中を通過させることにより、
通常では困難な細孔内壁へのＡ文膜の形成を容易に行な
うことができる。この手法に関しては半導体ガスライン
に使われている半導体ガスライン用ミリポアフィルタ−
の方法を参考にすることができる。

本発明に用いられる蛍光体としては、放射線増感スクリ
ーン用の蛍光体として知られ“ている各種の蛍光体を用
いることができる。

たとえば、青色乃至緑色領域に発光を示す蛍光体として
、タングステン酸塩系蛍光体（ＣａＷＯａ　、　Ｍ　ｇ
　Ｗ　０４、ＣａＷＯ４：Ｐｂ等）、テルビウム賦活希
土類オキシハロゲン化物系蛍光体（ＬａＯＢｒ：Ｔｂ、
Ｌａ０ＣＪＬ：Ｔｂ、Ｇｄ０Ｂ　ｒ　：　Ｔｂ、Ｇｄ０
Ｃｕ　：　Ｔｂ等）、テルビウム賦活希土類酸硫化物系
蛍光体（Ｙ２Ｏ２Ｓ：Ｔ　ｂ　、　Ｇ　ｄ　２０２　Ｓ
　：　Ｔ　ｂ　、　Ｌ　ａ２０２　Ｓ　：　Ｔ　ｂ等）
硫酸バリウム系蛍光体（ＢａＳＯａ：Ｐｂ。

Ｂａ５Ｏａ　：　Ｅｕ”）、　二価ユーロピウム賦活ア
ルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系蛍光体（ＢａＦＢｒ
：Ｅｕ”　　、　　ＢａＦ２　　ｅＢａｃｉ２　　争　
ＫＣｌ：Ｅｕ２°）、テルビウム賦活希土類酸硫化物系
蛍光体（Ｙ２Ｏ２Ｓ：Ｔｂ、Ｇｄ２Ｏ２Ｓ：Ｔｂ、Ｌａ
２Ｏ２Ｓ二Ｔｂ等）などを挙げることができる。

また、ユーロピウム賦活希土類酸硫化物系蛍光体［Ｙ２
Ｏ２Ｓ：Ｅｕ、Ｇｄ２Ｏ２Ｓ：Ｅｕ、Ｌａ２Ｏ２Ｓ：Ｅ
ｕ、（Ｙ、Ｇｄ）２０２Ｓ：Ｅｕ等］、ユーロピウム賦
活希土類酸化物系蛍光体［Ｙ２Ｏ３：Ｅｕ、Ｇｄ２Ｏ，
：Ｅｕ、Ｌｕ２０．：Ｅｕ　　、　　　（Ｙ　　、　　
Ｇｄ）　　　２０３　　　：　　Ｅｕｌ　　　、　　−
２−−ロビウム賦活希土類燐酸塩系蛍光体（Ｙ　Ｐ　Ｏ
ａ：Ｅｕ、ＧｄＰＯ，：Ｅｕ、ＬａＰＯ４：Ｅｕ等）、
ユーロピウム賦活希土類バナジン酸塩系蛍光体［ＹＶＯ
４：　Ｅｕ、ＧｄＶＯ，：　Ｅｕ、ＬａＶＯ４：Ｅｕ、
（Ｙ　、Ｇｄ）ＶＯ４：　Ｅｕｌなどの本出願人による
特願昭５９−２０３４９８号明細書に記載されている赤
色領域に発光を示す蛍光体を挙げることができる。

マイクロセルへの蛍光体の充填は、たとえば以下のよう
にして行なうことができる。

上記蛍光体粒子と結合剤とを適当な溶剤（たとえば、低
級アルコール、塩素原子含有炭化水素、ケトン、エステ
ル、エーテル）に加え、これを充分に混合して、結合剤
溶液中に蛍光体が均一に分散した分散液を調製する。

結合剤の例としては、ゼラチン等の蛋白質、ポリ酢酸ビ
ニル、ニトロセルロース、ポリウレタン、ポリビニルア
ルコール、ポリアルキル（メタ）アクリレート、線状ポ
リエステルなどような合成高分子物質などにより代表さ
れる結合剤を挙げることができる。

分散液における結合剤と蛍光体との混合比は、通常はｌ
：８乃至１：４０（重量比）の範囲から選ばれる。この
分散液を支持体上に塗布することにより各マイクロセル
に充填したのち乾燥する。

あるいは、蛍光体粒子のみを直接にマイクロセルに充填
してもよいし、また蒸着法により充填してもよい。

なお、基板を突き抜けて空孔が設けられている場合に、
基板の片面を減圧状態にしておけば（例えば、上面圧／
下面圧く１．０〜１０４）、更に容易に蛍光体の充填を
行なうことができる。

第６図に示すように、さらに蛍光体層が１〜５０ｐｍの
範囲の層厚で設けられていてもよい（６１：基板、６２
：マイクロセル、６３：蛍光体層）、この場合には、上
記諸特性に加えて画像の粒状消失により画質を向上させ
ることができる。

蛍光体が充填された支持体（または蛍光体層）上には、
透明な保護膜が設けられていてもよい。

保護膜を設けることにより、蛍光体粒子をマイクロセル
中に安定に保持させ、かつ増感スクリーンを物理的およ
び化学的に保護することができる。

透明保護膜の材料の例としては、酢酸セルロース、ポリ
メチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレンを挙げることができる。また、前記支持体
の材料として述べた有機高分子物質および無機物質の中
から適宜選択してもよい、透明保護膜の膜厚は、通常約
３乃至２０ＩＬｍである。

画質を向上させるために、保護膜のマイクロセルとマイ
クロセルとの間に相当する部分を有機染料等の着色剤で
着色してもよい。

次に、本発明の放射線像形成方法に用いられる放射線写
真フィルムは、基本構造として、支持体とこの片面もし
くは両面に設けられた感光層とからなるものである。

支持体を構成する基板の材料としては、ポリエチレンテ
レフタレートなどの有機高分子物質が挙げられる。この
高分子物質からなるフィルムは、撮影系が両面フィルム
の両側にフロントおよびバックスクリーンを配置してな
る撮影系である場合には、クロスオーバー光を遮断して
画像の画質をより向上させるために、増感スクリーンに
含有されている蛍光体の発光波長領域の光を吸収する色
素などの着色剤によって着色されていてもよい。

また、クロスオーバー光を少なくするために基板上に光
反射層が設けられていてもよい、光反射層の材料として
は、Ａｇなどの前記増感スクリーンの光反射層用材料を
用いることができる。特に光反射層がＡｇからなる場合
には、Ｘ線等の放射線で露光して現像画像を形成したの
ち反転現像処理する際にこの光反射層が除去されるため
に、放射線像をそのままシャーカステン上で透過像とし
て観察できるとの利点がある。

また、光反射層がＡｇよりイオン化傾向の大きい金属か
らなる場合には、露光・現像の後Ａｇは酸化されないが
光反射層の金属は酸化されるような酸化還元電位の溶液
で処理すれば光反射層を除去することができる。

なお、放射線フィルムの支持体とは、基板もしくは、基
板表面に光反射層等の層が設けられる場合には該層を含
めた基板を意味する。

感光層は感光要素（感光剤）を分散状態で含有支持する
ゼラチンなどの結合剤からなるものである。

感光要素の例としては、ＡｇＣ文、ＡｇＢｒ、ＡｇＩお
よびこれらの混晶などのｌ＼ロゲン化銀を挙げることが
できる。ハロゲン化銀はレギュラー粒子（立方体、八面
体、十四面体、エビキシセル粒子）であってもよいし、
また非レギュラー粒子（平板状、ジャガイモ状）であっ
てもよい。／＼ロゲン化銀は一般に感光層の単位面積当
り１〜２０ｇ／ｒｎ’の範囲で含有される。

感光層は、たとえば、ハロゲン化銀の粒子を分散するゼ
ラチン溶液を支持体上に塗布、乾燥することにより形成
することができる。ゼラチン溶液中には、増感色素、カ
ップラーなどが適宜添加されてもよい、特に、平板状の
ハロゲン化銀粒子は比表面積が大きいためにハロゲン化
銀の固有減感を伴なわずに多量の増感色素を粒子表面に
吸着させることができる。この場合、増感色素の光吸収
係数はハロゲン化銀の間接遷移の光吸収係数より大きい
ために、蛍光体から発せられた光の殆どは色素で吸収さ
れるのでクロスオーバー光を非常に減少させることがで
き、特に好ましい、また平板状粒子は現像された時の銀
像のカバーリングパワーが大きいために、少ない銀量で
像を形成できる利点があり、その点からも好ましい、ま
た、これらの平板粒子は塗布し乾燥した時基板表面と平
行に配列するために、入射光を横方向へあまり散乱させ
ない、従って、感光層中での横方向への光の広がりが少
ないために特に好ましい。感光層は通常１〜５０ＩＬｍ
の範囲の層厚で支持体上に設けられる。

感光層の上には、感光層を物理的および化学的に保護す
るためにゼラチンなどからなる表面保護層が設けられて
いてもよい。

このようにして製造される放射線写真フィルムは、感光
層を支持体の片面にのみ有する片面フィルムであっても
よいし、あるいはさらに支持体のもう一方の面にも感光
層（および表面保護層）を同様にして設けることにより
両面フィルムとされていてもよい、これらの実施態様は
第１１図および第１２図に示されている。

また、本発明に用いられる放射線写真フィルムは、支持
体上に感光層を設ける代りに、支持体の片面もしくは両
面に、感光要素の充填された多数の凹部（マイクロセル
）が規則的に設けられた構成であってもよい（第１３図
す１、第１４図す。

参照）、撮影系において増感スクリーンのみならず放射
線フィルムをもマイクロセル構造とすることにより、放
射線フィルムの感光層中での光の広がりをも防止するこ
とができ、更に一層解像力など画質の優れた画像を得る
ことができる。

支持体上に形成されるマイクロセルの形状およびその形
成方法等は、前記増感スクリーンについて記載した形状
および形成方法等の中から適当に選択することができる
。ただし、マイクロセルの深さは通常１〜５０μｍの範
囲にあり、好ましくは１ＮｌＯルｍの範囲にある。

なお、マイクロセルに感光要素を充填するに際して充填
の容易さの点から、ゼラチン溶液は増粘剤を添加して増
粘するのではなく水分含量を通常より少なくして増粘す
るのが好ましい。

ゼラチンを含む感光要素は、現像処理工程において処理
時間を短縮化しようとすると一般に約１０倍に膨潤する
ため、各マイクロセルから感光要素が露出することにな
る。このＷ潤の際にマイクロセル支持体との接触面にお
いて感光要素にかかる力を低減するために、支持体と感
光要素との密着性を高めるための下塗処理はマイクロセ
ルの側面部については行なわないのが好ましい、また、
同様にマイクロセルの断面形状は半円形であるのが好ま
しい。

あるいは、第７図に示すように、基板上にゼラチン等の
水膨潤性高分子物質からなる層を設けてこの水膨潤性層
上にマイクロセルを形成してもよい。この場合にはハロ
ゲン化銀乳剤の充填、乾燥が容易にでき、かつ現像時の
乳剤のとび出しがなくなる。

第７図は、本発明に用いられる放射線写真フィルムの一
態様を示す。放射線フィルムは基板７１とこの上に設け
られたマイクロセルフ３を有する水膨潤性層７２とから
なる。マイクロセルフ３内には光反射層７４および感光
要素７５が設けられている。

これにより、現像時にマイクロセル水膨潤性層も一緒に
膨潤するため、感光要素にかかる力を顕著に低減するこ
とができる。水膨潤性高分子物質としては、ゼラチンの
他に吸水性および微細加工性の点からポリイミドが好ま
しい、さらに、マイクロセル内面に光反射層を設ける場
合には、光反射層の結合剤にもこの水膨潤性高分子物質
を用いることにより現像時に感光要素にかかる力を軽減
することができる。水膨潤性高分子物質については、化
学便覧、応用編、第１０章ｒ高分子化学工業ｊ、日本化
学全編１９８０年（丸首）の記載を参考にすることがで
きる。

画質および感度の点から、放射線フィルムにおけるマイ
クロセルの開口部の形状および配列は増感スクリーンと
一致しているのが好ましい（第１３図参照）、また、マ
イクロセルの断面形状はセル内面における光反射層形成
の容易さの点から、半円形であるのが好ましい、この場
合には、たとえば光反射層をＡｎを用いて真空蒸着によ
り形成する際にセルの内面に均一に蒸着させることがで
きる。

なお、支持体の両面に感光要素が充填されたマイクロセ
ルを形成することにより両面フィルムとする場合には、
第８図に示すように、支持体両面のマイクロセルが互い
に位置補間の関係にあり、かつ互いに一部が重なってい
るようにセルを配列してもよい、このようにすることに
より、粒状消失効果のために画像の粒状性を向上させる
ことができる。第８図は１本発明に係るマイクロセルの
配列を部分的に示すものであり、実線は両面フィルムの
一方の面上のセル配列を表わし、点線は他方の面上のセ
ル配列を表わしている。

あるいは、第９図に示すように、感光層は従来のように
連続層としたままでその層厚を増感スクリーン上のマイ
クロセルに対応する部分は厚くし、セルとセルの間に対
応する部分は薄くした、いわゆる波型の形状としてもよ
い［ａ４：増感スクリーン（９１：基板、９２：マイク
ロセル、９３：光反射層、９４：蛍光体）、ｂ４：放射
線フィルム（９５：ｌ板、９６：マイクロセル、９７：
光反射層、９８：感光層）］。

後述するように、放射線フィルムに光反射層等が設けら
れていてレーザー光を照射することにより可視画像を読
み取る場合には、フィルムの四隅に予め読取り座標を明
示するマークが付されていてもよい。

次に、本発明の放射線像形成方法について、両面フィル
ムと二枚の放射線増感スクリーンとの組合せの場合を例
に挙げて、添付図面を参照しながら説明する。第１０図
は、本発明の放射線像形成方法を概略的に示す図である
。

第１０図において、スクリーンφフィルム撮影系３は、
中央部に配置された放射線写真フィルムｂとその両側に
配置された二枚の放射線増感スクリーンａ、Ｃ（フロン
トスクリーンおよびバックスクリーン）とからなる、こ
の撮影系１０３は、スクリーンａ、Ｃおよびフィルムｂ
の面が放射線の入射方向に対して垂直となるように設置
されている。

撮影系１０３におけるスクリーンとフィルムの組合せと
しては、たとえば、第１１図に示すように、蛍光体が充
填されたマイクロセルを有するスクリーンａ１、Ｃ，と
従来の両面に感光層を有するフィルムｂ、とを、スクリ
ーンのマイクロセル側がフィルムに面するように重ね合
わせたものを用いることができる。スクリーンａ、およ
びＣ１において、基板１１１の片面に設けられたマイク
ロセル１１２の内面には光反射層１１３が設けられ、更
に蛍光体粒子を分散状態で含有支持する結合剤１１４が
マイクロセルに充填されている。また、フィルムｂ、は
、基板１１５とその両面に設けられた感光層１１６，１
１７とからなる。

別の実施態様として、第１２図に示すように、フロント
スクリーンａ２およびバックスクリーンＣ２に設けられ
たマイクロセルが互いに位置補間の関係となるように重
ね合わされてもよい［Ｃ２、Ｃ２：増感スクリーン（１
２１：基板、１２２：マイクロセル、１２３：光反射層
、１２４：蛍光体）、ｂ２：放射線フィルム（１２５：
基板、１２６．１２７：感光層、１２８，１２９．光反
射層）］、撮影系においてこのような配置とすることに
より粒状消失効果が得られ、画像の画質を高めることが
できる。この補間の関係は、予め両スクリーンを製造し
、出荷する際にマイクロセルの配置をそのように調整し
ておいてもよいし、あるいは放射線撮影の際に重ね合せ
て設定してもよい。

あるいは第１３図に示すように、マイクロセル構造のス
クリーンａ３、Ｃ，と感光要素が充填された同じくマイ
クロセル構造のフィルムｂ、とを、両者のマイクロセル
が互いに面するように重ね合わせたものを使用すること
もできる［ａａ。

Ｃコニ増感スクリーン（１３１：基板、１３２：マイク
ロセル、１３３：光反射層、１３４：蛍光体）、ｂ３：
放射線フィルム（１３５：基板、１３６：マイクロセル
、１３７：光反射層、１３８：感光要素）］、この場合
には、前述したようにスクリーンおよびフィルム上に形
成されたマイクロセルの開口部の形状および配列が同じ
であるのが好ましい、マイクロセルの位置合せは。

撮影において両者を重ね合せる時に行なってもよいし、
あるいは製品として出荷する際に予め設定しておいても
よい。

さらに、両スクリーンのマイクロセルの配置を位置補間
の関係とする場合には（第１２図参照）、対応するフィ
ルムもフィルム両面のマイクロセルの配列が同様に位置
補間の関係となるように（第８図参照）予め調整してお
く。

第１０図および第１１図において、線ｆｆ１１０１から
放射された放射線は被写体１０２を透過したのち、一部
はフロントスクリーンａ０のマイクロセル１１２中の蛍
光体１１４により吸収されて蛍光に変換され、各マイク
ロセルから発せられた可視乃至赤外光は隣接するフィル
ムｂ、の感光層１１Ｂを感光させる。ここでマイクロセ
ル１１２の内°面には光反射層１１３が設けられている
ので、各マイクロセル中で発生した光はセル内面で反射
されて最終的にフィルムｂ、の方向に放出される。従っ
て、蛍光はマイクロセルの開口部の口径以上には大きく
散乱されず、横方向への広がりを顕著に低減することが
でき、高画質の画像を得ることができる。同時に蛍光の
損失が少ないから高感度である。

また、スクリーンａ、およびフィルムｂ１を透過した残
りの放射線はスクリーンＣ，のマイクロセル中の蛍光体
により吸収されて蛍光に変換され、このマイクロセルか
らの光は隣接するフィルムｂ、の感光層１１７を感光さ
せる。

このようにして両面フィルムｂ、上には被写体の放射線
像が形成され、撮影後上記フィルムを現像、安定化処理
することにより、フィルム上には放射線像が得られる。

フィルムが第１２図および第１３図に示したように光反
射層を有する場合には、一般に画像をシャーカステンな
どで直接に観察することができず、適当な画像読取装置
を用いてフィルムにレーザービームを照射し、その反射
光（反射濃度）を読み取って画像化することにより可視
画像を得ることができる。この際に、反射光を一旦電気
信号に変換した段階で階調処理、参照画像とのサブトラ
クション処理など種々の画像処理を行なってもよい。

放射線フィルムから画像を読み取る方法については公知
の任意の方法および装置を用いて実施することができる
。

なお、スクリーン・フィルム撮影系が片面フィルムと一
枚の増感スクリーンとの組合せである場合には（第９図
、第１４図参照）、放射線はスクリーン側からでもある
いはフィルム側からでも入射させることが可能である。

次に本発明の実施例および比較例を記載する。

ただし、これらの各個は本発明を制限するものではない
。

［実施例１］ （１）放射線増感スクリーンの製造 ポリエチレンテレフタレートフィルム（基板、厚み：８
０ｐｍ）の上に、二酸化チタン（ＴｉＯ□）のゼラチン
分散液（硬膜剤、粘度調整剤。

界面活性剤等の添加剤を含む）を塗布し、乾燥して層厚
が約１２０ｐｍの光反射層を形成して支持体を得た。

光反射層上にＡｆＬを真空蒸着し、更にフォトレジス）
　（ＡＺ１３５０、シプレー社）をスピンコーティング
したのち紫外線により露光し、アルカリ溶液で現像処理
してレジスト層のバターニングを行なった０次いで、リ
ン酸：硝酸：酢酸：水＝７６：１３：１５：１６である
液で４分間エツチングしてＡｎ膜のバターニングを行な
った。このＡ文膜をマスクとして０□＋ＣＦ４　（２モ
ル％）プラズマによるＲＩＥドライエツチング法により
、開口部の形状が六角形で断面の形状が長方形の多数の
マイクロセル（第５図参照、開口部の一辺の長さ：２０
ｐｍ、深さ：約１１００ＪＬ、セル間隔：５μｍ）を光
反射層上に形成した。

ＲＩＥドライエツチングは、第１５図に示すような平行
電極型プラズマ装置を用いて行なった。まず、Ｉ上記Ａ
Ｍ膜の付設された基板（試料）１５０をプラズマ装置の
陰極１５１に設置し、リークバルブ１５３．１５４を開
いてｏ２ガスを矢印の方向に導入したのち高周波電力を
陰極１５１と陽極１５２の間にかけた。プラズマ中で発
生したカチオン種は陰極方向に加速されて直進して試料
１５０に垂直に入射し、基板上の光反射層はＡｆＬマス
クパターンに忠実にエツチングされた。

Ａｎと有機高分子物質（この場合はＴｉＯ２含有ゼラチ
ン）とのエツチング比は１／１０００程度であるから、
垂直な方向性をもってエツチングが行なわれた。なおこ
の時、ゼラチンは酸素と反応して二酸化炭素および水と
なる。また、Ａｎ膜表面は酸化アルミニウムとなるがエ
ツチングされることは殆どない。

次に、タングステン酸カルシウム蛍光体（ＣａＷＯ４）
の粒子と線状ポリエステル樹脂との混合物にメチルエチ
ルケトンを添加し、さらに硝化度１１．５％のニトロセ
ルロースを添加した後充分に攪拌混合して、蛍光体粒子
が均一に分散し、結合剤と蛍光体との混合比が１：２０
（重量比）、かつ粘度が２５〜３５ＰＳ（２５℃）の分
散液を調製し・た、この分散液を支持体上に塗布乾燥し
て各マイクロセルに蛍光体分散物を充填した。

このようにして、基板と蛍光体が充填されたマイクロセ
ルを有する光反射層とから構成された放射線増感スクリ
ーンを製造した。

（２）放射線写真フィルムの製造 下塗済みのポリエチレンテレフタレートフィルム（支持
体、厚み＋１０１００１Ｌの上に、ゼラチン（硬膜剤、
粘度調整剤、界面活性剤等の添加剤を含む）を塗布し、
乾燥して層厚が約５ｐｍの水膨潤性層を形成した。

この水膨潤性層の上に、上述と同様の方法によりＡｎ膜
を設けたのちバターニングをした０次いで上記のＲＩＥ
ドライエツチング法（ただし。

ｏ２プラズマ発生部とエツチング部は位置的に離れてお
り、エツチング部に印加する電圧は小さくしである）に
より、開口部の形状が六角形で断面の形状が半円形の多
数のマイクロセル（第７図参照、開口部の一辺の長さ：
２０２０℃深さ＝４４ｍ、セル間隔：５μｍ）を、増感
スクリーンと同じ配列で水膨潤性層上に形成した。

次に、ダブルジェット法により、ＫＢｒ８ｇ／見の存在
下で５０℃で沈澱した沃化銀を３モル％含む平板状沃臭
化銀粒子（平均粒子径：１．０％　ｍ　、アスペクト比
７）からなる乳剤を得た。この乳剤を常法により脱塩し
た後かぶり防止剤を加え、次に塩化金酸塩およびチオ硫
酸ナトリウムを加えて化学増感した。これに増感色素お
よび塗布助剤を加えた。調製された感光層用塗布液にお
けるハロゲン化銀およびゼラチンの含有量はそれぞれ、
１１．４重量％および７．６重量％であった。

別に、ゼラチン、サポニンおよび２，４−ジクコロ−６
−ヒドロキシーｓ−トリアジンからなる１０％のゼラチ
ン水溶液を調製し、表面保護層用塗布液とした。

次いで、ＴｉＯ□のゼラチン分散液、感光層用塗布液お
よび表面保護層用塗布液を通常の塗布法により重層塗布
して、各マイクロセル内に順に光反射層、感光層および
保護層を設けた。

このようにして、支持体とハロゲン化銀が充填されたマ
イクロセルを有する水膨潤性層とからなる放射線写真フ
ィルム（片面フィルム）を製造した。

（３）放射線写真撮影（放射線像の形成）得られた放射
線増感スクリーンと放射線写真フィルムとを、第１４図
に示すようにマイクロセルの位置合せをしてカセツテ内
で圧着したのち、前記第１０図の撮影系１０３に設置し
てＸ線撮影を行なった。撮影はスクリーン側からＸ線を
照射して行なった。なお、第１４図において、ａ％は増
感スクリーン、ｂ５は放射線ディルムである。

撮影後、写真フィルムを現像、定着、水洗、乾燥処理し
てＸ線写真を得た。

次いで、写真フィルムを画像読取装置に設置して半導体
レーザービームを照射してその反射濃度を読み取った。

得られた電気信号に画素補間処理（絵素間の信号をその
両隣接絵素信号で補う処理）を施したのち、可視画像化
した。

［比較例１］ （１）放射線増感スクリーンの製造 実施例１において、光反射層上にマイクロセルを形成す
る代りに蛍光体分散液を直接に塗布乾燥して、層厚が約
１００４ｍの蛍光体層を形成すること以外は実施例１の
方法と同様の操作を行なうことにより、支持体、光反射
層および蛍光体層から構成された放射線増感スクリーン
を製造した。

（２）放射線写真フィルムの製造 実施例１において、水膨潤性層上にマイクロセルを形成
する代りにＴ　ｉ　Ｏ２のゼラチン分散液、感光層用塗
布液および表面保護層用塗布液を直接に塗布乾燥して、
光反射層、感光層（層厚：４μｍ）および保護層を形成
すること以外は実施例１の方法と同様の操作を行なうこ
とにより、支持体、水膨潤性層、光反射層、感光層およ
び保護層から構成された放射線写真フィルムを製造した
。

（３）放射線写真撮影（放射線像の形成）得られた増感
スクリーンおよび放射線フィルムを用いること以外は実
施例１の方法と同様の操作を行なうことにより、Ｘ線撮
影を行なってフィルム上にＸ線写真を得た。

上記の各放射線写真撮影について、次に記載する解像力
試験により評価した。

鮮鋭度チャート（鉛製の５０ｐｍ厚のスリットチャート
板、化成オプトニクス社製）を用いてＸ線露光した。得
られた放射線フィルム上のｘ！！写真を顕微鏡で目視検
査し、ラインの判別が可能な位置を測定した。

その結果を相対感度とともに第１表に示す。

以下余白 第１表 解像力　　　　相対感度 （ＪＬｐ／ｍｍ） 実施例１　　　　９　　　　　　１２０比較例１　　　
　５　　　　　　　Ｚｏ。

第１表にまとめられた結果から明らかなように１本発明
の放射線増感スクリーンを用いた放射線像形成方法（実
施例１）は、従来の放射線増感スクリーンを用いた放射
線像形成方法（比較例１）と比較して、高感度であり、
かつ高解像の画像を与えた。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の放射線増感スクリーンの一態様を示
す部分断面図である。 第２図Ｃ＆）および（ｂ）は、本発明の放射線増感スク
リーンの二態様を示す部分平面図である。 第３図〜第６図はそれぞれ、本発明の放射線増感スクリ
ーンの別の実施態様を示す部分断面図である。 第７図は、本発明に用いられる放射線写真フィルムの一
態様を示す部分断面図である。 第８図は、本発明に用いられる絵素補間型放射線写真フ
ィルムおよび放射線増感スクリーンの一態様を示す部分
平面図である。 第９図および第１１図〜第１４図はそれぞれ、本発明の
放射線像形成方法に利用されるスクリーン會フィルム撮
影系の実施態様を示す部分断面図である。 第ｉｏ図は、本発明の放射線像形成方法を説明する概略
図である。 第１５図は、本発明に用いられる平行電極型プラズマ装
置の概略図である。 １１：支持体、１２二マイクロセル、 １０１：放射線発生装置、１０２：被写体、１０３ニス
クリーン・フィルム撮影系 ＆、Ｃ：放射線増感スクリーン、 ｂ：放射線写真フィルム、 １３１：支持体、１３２：マイクロセル、１３３：光反
射層、１３４：蛍光体、 １３５：支持体、１３６：マイクロセル、１３７：光反
射層、１３８：感光要素、１５０：試料、１５１：１！
！３極電極。 １５２：陰極電極、１５３，１５４：バルブ特許出願人
　富士写真フィルム株式会社代　理　人　弁理士　　柳
　川　泰　男第１図 第２ｒｊｉｆＪ　　　　第３図 第１０図 第１１図 第１２図 第４図　　　　　第５図 第６図　　　　　第７図 第８図　　　　　第９図 第１３図 第１４図 第１５図 １５２　　　　＋５０

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、支持体の片面に規則正しく設けられた多数の凹部に
   蛍光体が充填された構造を有する放射線増感スクリーン
   。 ２、上記凹部の開口部の口径が１乃至５００μｍの範囲
   にあり、そして凹部の深さが１乃至５００μｍの範囲に
   あることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の放射
   線増感スクリーン。 ３、上記凹部の開口部の口径と深さとの比率が１：３．
   ５乃至１：３０の範囲にあることを特徴とする特許請求
   の範囲第２項記載の放射線増感スクリーン。 ４、上記凹部の断面形状が、長方形、台形および半円形
   のうちのいずれかであることを特徴とする特許請求の範
   囲第１項乃至第３項のいずれかの項記載の放射線増感ス
   クリーン。 ５、上記凹部の断面形状が台形であって、凹部の開口部
   の口径と底部の口径との比率が１１：１０乃至４：１の
   範囲にあることを特徴とする特許請求の範囲第４項記載
   の放射線増感スクリーン。 ６、上記凹部の内面に光反射層もしくは光吸収層が設け
   られていることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
   の放射線増感スクリーン。 ７、支持体の表面に方向性ドライエッチングを行なうこ
   とにより支持体の片面に多数の凹部を規則正しく形成し
   たのち、この凹部に蛍光体を充填することからなる放射
   線増感スクリーンの製造法。 ８、基板の表面に方向性ドライエッチングを行なうこと
   により該基板に多数の空孔を規則正しく形成したのち、
   この空孔に螢光体を充填し、次いで該基板の片面に層を
   設けることからなる放射線増感スクリーンの製造法。 ９、放射線写真フィルムと放射線増感スクリーンとから
   なるスクリーン・フィルム撮影系を利用する放射線像形
   成方法において、該放射線増感スクリーンが、支持体の
   片面に規則正しく設けられた多数の凹部に蛍光体が充填
   された構造を有することを特徴とする放射線像形成方法
   。