JPS623636A - ガスサンプリング装置 - Google Patents
ガスサンプリング装置Info
- Publication number
- JPS623636A JPS623636A JP60143536A JP14353685A JPS623636A JP S623636 A JPS623636 A JP S623636A JP 60143536 A JP60143536 A JP 60143536A JP 14353685 A JP14353685 A JP 14353685A JP S623636 A JPS623636 A JP S623636A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- flow path
- sampler
- valve
- inlet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Automatic Analysis And Handling Materials Therefor (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はガスのサンプリングを自動的におこなうガスサ
ンプリング装置に関する。
ンプリング装置に関する。
第2図(11、(blにガスの捕型1分析をおこなう従
来の装置を示す、サンプリング装置100には低濃度ガ
ス人口101と高m度ガス入口107が設けられている
。低11度ガス人口101には流路1021手動操作バ
ルブ103.流路104.試料採取口105がこの順で
設けられている。試料採取口105とガスサンプラ11
7は流j8106で接続されている。高m度ガス入口1
07には、流路108.試料採取口1o9゜流路110
2手動操作バルブ111.流路112.排気ポンプ11
3がこの順で設けられている。流路112からは流路1
14が分岐しており、この流路114にはT字型の手動
操作バルブ115を介して排気口119が接続されてい
る。この手動操作バルブ115とガスサンプラ117と
は流路116により接続されている。ガスサンプラ11
7には所定量のガスを計量する計量管118が設けられ
ている。
来の装置を示す、サンプリング装置100には低濃度ガ
ス人口101と高m度ガス入口107が設けられている
。低11度ガス人口101には流路1021手動操作バ
ルブ103.流路104.試料採取口105がこの順で
設けられている。試料採取口105とガスサンプラ11
7は流j8106で接続されている。高m度ガス入口1
07には、流路108.試料採取口1o9゜流路110
2手動操作バルブ111.流路112.排気ポンプ11
3がこの順で設けられている。流路112からは流路1
14が分岐しており、この流路114にはT字型の手動
操作バルブ115を介して排気口119が接続されてい
る。この手動操作バルブ115とガスサンプラ117と
は流路116により接続されている。ガスサンプラ11
7には所定量のガスを計量する計量管118が設けられ
ている。
ガスクロマトグラフ120にはチッ素ガス人口121と
、試料注入口128とが設けられている。チッ素ガス人
口121には、流路121.弁123.流路124、弁
125.流路126がこの順で設けられており、流路1
26はガスサンプラ117に接続されている。ガスサン
プラ117と試料注入口128とは流路127で接続さ
れている。試料注入口128には分離カラム129が接
続されており、この分離カラム129ニは電子捕獲型検
出器(Electron CaptureDetect
or (ECD) ) 130が接続されている。
、試料注入口128とが設けられている。チッ素ガス人
口121には、流路121.弁123.流路124、弁
125.流路126がこの順で設けられており、流路1
26はガスサンプラ117に接続されている。ガスサン
プラ117と試料注入口128とは流路127で接続さ
れている。試料注入口128には分離カラム129が接
続されており、この分離カラム129ニは電子捕獲型検
出器(Electron CaptureDetect
or (ECD) ) 130が接続されている。
この電子捕獲型検出器130には流路131を介して排
気口132が設けられている。を子補獲型検出器130
の検出信号は増幅器133で増幅され記録計134で記
録される。
気口132が設けられている。を子補獲型検出器130
の検出信号は増幅器133で増幅され記録計134で記
録される。
マグネチックスターチ150上にはガス稀釈のための稀
釈容器145が設けられている。稀釈容器145への試
料の注入および試料の採取は試料採取口144でなされ
る。また、稀釈容器145には流路146・2手動操作
バルブ147.流路149を介して排気ポンプ148が
接続されている。さらに、稀釈容器145には活性炭フ
ィルタ140.流路1411手動操作パルプ142.流
路143が設けられている。
釈容器145が設けられている。稀釈容器145への試
料の注入および試料の採取は試料採取口144でなされ
る。また、稀釈容器145には流路146・2手動操作
バルブ147.流路149を介して排気ポンプ148が
接続されている。さらに、稀釈容器145には活性炭フ
ィルタ140.流路1411手動操作パルプ142.流
路143が設けられている。
かかる従来の装置でガスのサンプリング、稀釈。
分析をおこなう場合には、注射器(図示せず)を用いて
オペレータがガスの採取、注入をおこなうとともに1手
動操作バルブ103 、111 、115 。
オペレータがガスの採取、注入をおこなうとともに1手
動操作バルブ103 、111 、115 。
142 、147を手動操作する6例えば、上流側の高
濃度ガスの分析をおこなう場合には次のような手順でお
こなう、まず1手動操作バルブ142 、147を開き
排気ポンプ148で排気して稀釈容器145をクリーニ
ングする6次に1手動操作バルブ111を開き排気ポン
プ113で高濃度ガスを吸引しながら試料採取口109
からガスを所定量(例えば1m1)注射器で採取する。
濃度ガスの分析をおこなう場合には次のような手順でお
こなう、まず1手動操作バルブ142 、147を開き
排気ポンプ148で排気して稀釈容器145をクリーニ
ングする6次に1手動操作バルブ111を開き排気ポン
プ113で高濃度ガスを吸引しながら試料採取口109
からガスを所定量(例えば1m1)注射器で採取する。
採取した高濃度ガスを試料採取口144から1手動操作
バルブ142 、147を閉じて密封された稀釈容器1
45中に注射器で注入する。
バルブ142 、147を閉じて密封された稀釈容器1
45中に注射器で注入する。
稀釈容器145では1mlの高濃度ガスを1例えば10
00倍に稀釈する0次に稀釈されたガスを試料採取口1
44から別の注射器で採取し、試料採取口105から所
定fiat(例えば20m1)注入する。これにより、
稀釈されたガスはガスサンプラ117の計量管118に
満たされる0次にガスサンプラ117を60度回転させ
、チッ素ガスを流入させることにより、計量管118中
の試料ガスをガスクロマトグラフ120に導入する。試
料ガスは分離カラム129を経て電子捕獲型検出器13
0で検出9分析され、そ後排気される。
00倍に稀釈する0次に稀釈されたガスを試料採取口1
44から別の注射器で採取し、試料採取口105から所
定fiat(例えば20m1)注入する。これにより、
稀釈されたガスはガスサンプラ117の計量管118に
満たされる0次にガスサンプラ117を60度回転させ
、チッ素ガスを流入させることにより、計量管118中
の試料ガスをガスクロマトグラフ120に導入する。試
料ガスは分離カラム129を経て電子捕獲型検出器13
0で検出9分析され、そ後排気される。
上記のような従来の装置では、注射器による試料の採取
、注入2手動操作バルブ103 、111 。
、注入2手動操作バルブ103 、111 。
115 、142 、147やガスサンプラ117の操
作は。
作は。
定められた順番に従ってオペレータがする必要がある。
しかしながら、これら操作は極めて複雑であり、熟練し
たオペレータでも操作ミスをすることがあり1作業効率
が悪いという問題点があった。
たオペレータでも操作ミスをすることがあり1作業効率
が悪いという問題点があった。
本発明は、かかる問題点を解決するためになされたもの
で、未熟なオペレニタでも簡単に操作でき1作業効率が
良いガスサンプリング装置を提供することを目的とする
。
で、未熟なオペレニタでも簡単に操作でき1作業効率が
良いガスサンプリング装置を提供することを目的とする
。
本発明によるガスサンプリング装置は、ガス入口から第
1の流路、調整バルブ、第2の流路、開閉バルブを経て
ガス吸引口に連結されるガス主系統と、このガス主系統
の第1の流路から分岐して。
1の流路、調整バルブ、第2の流路、開閉バルブを経て
ガス吸引口に連結されるガス主系統と、このガス主系統
の第1の流路から分岐して。
第3の流路、ガスサンプラの入口、計量管、ガスサンプ
ラの出口、第4の流路、流量計、第5の流路を経てガス
主系統の第2の流路に合流するガスサンプリング系統と
を設けたものである。
ラの出口、第4の流路、流量計、第5の流路を経てガス
主系統の第2の流路に合流するガスサンプリング系統と
を設けたものである。
本発明のガス稀釈装置においては、ガスのサンプリング
の操作がオペレータの操作を煩わせることなくすべて自
動的におこなわれる。これ1こより。
の操作がオペレータの操作を煩わせることなくすべて自
動的におこなわれる。これ1こより。
操作ミスがなくなるとともに作業効率も極めて上昇する
。
。
第1図に本発明の一実施例によるガスサンプリング装置
を高濃度ガスおよび低濃度ガスのサンプリングに用いた
ガス稀釈装置を示す、活性炭フィルタ上流側からの高濃
度ガス人口12にはエアフィルタ7−1が設けられ、こ
のエアフィルタ7−1からは流路50が延びている。流
路50は流路51と流路52fこ分岐し、流路51の下
流側には圧力調整のためのニードルバルブ10−1が設
けられている。ニードルバルブ10−1の下流側には流
路55を介して電磁弁9−1が設けられている。′cL
磁弁9−1を開閉するためにソレノイド21−1が設け
られている。II電磁弁−1は吸引ポンプ接続口15を
介して吸引ポンプ(図示せず)に接続されている。この
ように高濃度ガス人口12から吸引ポンプ接続口15に
至る高11度ガス主系統が形成されている。
を高濃度ガスおよび低濃度ガスのサンプリングに用いた
ガス稀釈装置を示す、活性炭フィルタ上流側からの高濃
度ガス人口12にはエアフィルタ7−1が設けられ、こ
のエアフィルタ7−1からは流路50が延びている。流
路50は流路51と流路52fこ分岐し、流路51の下
流側には圧力調整のためのニードルバルブ10−1が設
けられている。ニードルバルブ10−1の下流側には流
路55を介して電磁弁9−1が設けられている。′cL
磁弁9−1を開閉するためにソレノイド21−1が設け
られている。II電磁弁−1は吸引ポンプ接続口15を
介して吸引ポンプ(図示せず)に接続されている。この
ように高濃度ガス人口12から吸引ポンプ接続口15に
至る高11度ガス主系統が形成されている。
高濃度ガス主系統の流路50から分岐した高濃度ガスサ
ンプリング系統の流路52は自動ガスサンプラ1−1の
入口aに接続されている。自動ガスサンプラ1−1は、
3つの入口a、b、cと3つの出口d、e、fを有し、
さらIこ、これら人口a・。
ンプリング系統の流路52は自動ガスサンプラ1−1の
入口aに接続されている。自動ガスサンプラ1−1は、
3つの入口a、b、cと3つの出口d、e、fを有し、
さらIこ、これら人口a・。
b、cと出ロd、e、f間を連通させるための流路g
* h* iを有している。出口dと入口す間には、一
定量のガスを計量するための計量管20−1が設けられ
ている。流路g、h、iは一体的に回転可能であり、隣
接する任意の入口と出口間を連通させる。流路g g
h* iの回転は、全体の制御をつかさどるシーケンス
コントローラ(図示せず)からの指示により1図示しな
い駆動手段(こよりなされる、出口Cには流路53が接
続され、この流路53にはニードルバルブ付の流量計6
−1が設けられている。流量計6−1にはさらに流路騙
が設けられ、高濃度ガス主系統のニードルバルブ10−
1と電磁弁9−1間の流路55に合流している。
* h* iを有している。出口dと入口す間には、一
定量のガスを計量するための計量管20−1が設けられ
ている。流路g、h、iは一体的に回転可能であり、隣
接する任意の入口と出口間を連通させる。流路g g
h* iの回転は、全体の制御をつかさどるシーケンス
コントローラ(図示せず)からの指示により1図示しな
い駆動手段(こよりなされる、出口Cには流路53が接
続され、この流路53にはニードルバルブ付の流量計6
−1が設けられている。流量計6−1にはさらに流路騙
が設けられ、高濃度ガス主系統のニードルバルブ10−
1と電磁弁9−1間の流路55に合流している。
圧縮金気または圧縮ガスが流入する圧縮空気(または圧
縮ガス)入口14にはエアフィルタ7−2が設けられ、
このエアフィルタ7−2ζこは流路(イ)を経て減圧弁
11が設けられている。さらに、この減圧弁11には流
路61を経て活性炭フィルタ8−1が設けられており、
この活性炭フィルタ8−1には流路61を介して電磁弁
9−3が設けられている。ta弁9−3はソレノイド2
1−31こより開閉される。1!E磁弁9−3の下流側
には流路63が設けられ、この流路63は自動ガスサン
プラ1−1の第3の入口Cに接続されている。自動ガス
サンプラ1−1の第3の出口Cは流路64により稀釈容
器2の試料注入口3に接続されている。
縮ガス)入口14にはエアフィルタ7−2が設けられ、
このエアフィルタ7−2ζこは流路(イ)を経て減圧弁
11が設けられている。さらに、この減圧弁11には流
路61を経て活性炭フィルタ8−1が設けられており、
この活性炭フィルタ8−1には流路61を介して電磁弁
9−3が設けられている。ta弁9−3はソレノイド2
1−31こより開閉される。1!E磁弁9−3の下流側
には流路63が設けられ、この流路63は自動ガスサン
プラ1−1の第3の入口Cに接続されている。自動ガス
サンプラ1−1の第3の出口Cは流路64により稀釈容
器2の試料注入口3に接続されている。
稀釈容器2の下にはマグネチツクスターラ4が設けられ
ている。マグネチツクスターラ4は、モータ4aに直結
された磁石4bを回転させることにより、稀釈容器2中
の撹拌子2aを回転させて撹拌し、ガスを均一に稀釈す
る。稀釈容器21こは。
ている。マグネチツクスターラ4は、モータ4aに直結
された磁石4bを回転させることにより、稀釈容器2中
の撹拌子2aを回転させて撹拌し、ガスを均一に稀釈す
る。稀釈容器21こは。
さらに圧力変換器5が設けられる。この圧力変換器5は
稀釈容器2内の圧力を検出する。
稀釈容器2内の圧力を検出する。
稀釈容器2から下流側1こは流路65を経て電磁弁9−
4が設けられている。電磁弁9−4はソレノイド21−
4により開閉される。E磁弁9−4の乍流側には自動ガ
スナンプラ1−2が設けられている。を訊弁9−4と自
動ガスサンプラ1−2の入口eが流路66により接続さ
れている。自動ガスサンプラ1−2は入口(または出口
)a、b、c。
4が設けられている。電磁弁9−4はソレノイド21−
4により開閉される。E磁弁9−4の乍流側には自動ガ
スナンプラ1−2が設けられている。を訊弁9−4と自
動ガスサンプラ1−2の入口eが流路66により接続さ
れている。自動ガスサンプラ1−2は入口(または出口
)a、b、c。
d、e、fと流路g、h、iを有している6オた出口す
と入口4間には計量管20−2が設けられている。出口
aには流路67が接続され、流路67の下流側lこは活
性炭フィルタ8−2が設けられている。
と入口4間には計量管20−2が設けられている。出口
aには流路67が接続され、流路67の下流側lこは活
性炭フィルタ8−2が設けられている。
活性炭フィルタ8−2には排気口17が設けられている
。
。
活性炭フィルタ下流側よりの低1jガスが流入する低濃
度ガス人口13にはエアフィルタ7−3が設けられ、こ
のエアフィルタ7−3からは流路70が延びている。流
路70は流路71と流路76とに分岐し、流[71の下
流側には圧力調整のためのニード/L/ ハ/L/ )
lQ 2が設けられている。ニードルバルブ10−2
には流路72を介して電磁弁9−2が設けられている。
度ガス人口13にはエアフィルタ7−3が設けられ、こ
のエアフィルタ7−3からは流路70が延びている。流
路70は流路71と流路76とに分岐し、流[71の下
流側には圧力調整のためのニード/L/ ハ/L/ )
lQ 2が設けられている。ニードルバルブ10−2
には流路72を介して電磁弁9−2が設けられている。
−ta弁9−2はソレノイド21−2で開閉される。電
磁弁9−2は吸引ポンプ接続口[6を介して吸引ポンプ
(図示せず)に凄続されている。このように低濃度ガス
人口13から吸引ポンプ接続口16に至る低飛度ガス主
系統が形成されている。
磁弁9−2は吸引ポンプ接続口[6を介して吸引ポンプ
(図示せず)に凄続されている。このように低濃度ガス
人口13から吸引ポンプ接続口16に至る低飛度ガス主
系統が形成されている。
低濃度ガス主系統の流路70より分岐した低濃度ガスサ
ンプリング系統の流路76の下流側には自動ガスサンプ
ラ1−3が設けられている。流路76は自動ガスサンプ
ラ1−3の入口aに接続されている。自動ガスサンプラ
1−3は入口(または出口)a、b、c、d、e、fと
流路g −he ’を有し。
ンプリング系統の流路76の下流側には自動ガスサンプ
ラ1−3が設けられている。流路76は自動ガスサンプ
ラ1−3の入口aに接続されている。自動ガスサンプラ
1−3は入口(または出口)a、b、c、d、e、fと
流路g −he ’を有し。
出口dと入口す間には計量管20−3が設けられている
。出口eには流路77が接続され、この流路77にはニ
ードルバルブ付の流量計6−2が設けられている。流量
計6−2にはさらに流路78が設けられ、低濃度ガス主
系統のニードルバルブ10−2と電磁弁9−2間の流路
72に合流している。
。出口eには流路77が接続され、この流路77にはニ
ードルバルブ付の流量計6−2が設けられている。流量
計6−2にはさらに流路78が設けられ、低濃度ガス主
系統のニードルバルブ10−2と電磁弁9−2間の流路
72に合流している。
チッ素ガスを流入するチッ素ガス入口18は流路73を
経て、自動ガスサンプラ1−2の入口Cに接続されてい
る。自動ガスサンプラ1−2の出口fと自動ガスサンプ
ラ1−3の入口Cとは流路74で接続され、自動ガスサ
ンプラ1−3の出口fは流路75.チッ素ガス出口19
を経てガス分析をおこなうガスクロマトグラフ(図示せ
ず)に接続されている。
経て、自動ガスサンプラ1−2の入口Cに接続されてい
る。自動ガスサンプラ1−2の出口fと自動ガスサンプ
ラ1−3の入口Cとは流路74で接続され、自動ガスサ
ンプラ1−3の出口fは流路75.チッ素ガス出口19
を経てガス分析をおこなうガスクロマトグラフ(図示せ
ず)に接続されている。
電磁弁9−1.2,3.4のソレノイド21−1゜2.
3,4.自動ガスサンプラ1−1.2,3゜マグネテツ
クスターラ4のモータ4aは1図示しないシーケンスコ
ントローラの制御下におかれ。
3,4.自動ガスサンプラ1−1.2,3゜マグネテツ
クスターラ4のモータ4aは1図示しないシーケンスコ
ントローラの制御下におかれ。
所定のシーケンスでオン、オフ制御される。
次に動作を説明する。このガス稀釈装置には囚時期モー
ド、(B)上流測定モード、(C)下流測定モード、(
D)上流/下流交互測定モードI 、 (E)上流/下
流測定モード11.(F)校正モードの6つの運転モー
ドがある。以下これら各運転モードについて砕細に説明
する。
ド、(B)上流測定モード、(C)下流測定モード、(
D)上流/下流交互測定モードI 、 (E)上流/下
流測定モード11.(F)校正モードの6つの運転モー
ドがある。以下これら各運転モードについて砕細に説明
する。
(N時期モード
時期モードは、稀釈容器2のクリーニングをおこない、
他の運転モードに移るのを待っているモードである。
他の運転モードに移るのを待っているモードである。
ステップ人l
電磁弁9−3と9−4を開き、マグネチツクスターラ4
をオンにする。自動ガスサンプラ1−1゜2.3は第1
図の状態にする。これにより、圧縮空気が、圧縮空気人
口14→エアフイルタ7−2→流路60→減圧弁11→
流路61→活性炭フイルタ8−1→流路62→1磁弁9
−3→流路63→自動ガスサンプラ1−1(R路i)→
流路64→試料注入ロ3の経路により稀釈容器2に流入
する。活性炭フィルタ8−1で清浄にされた圧縮空気に
より稀釈容器2がクリーニングされる。クリーニング後
の圧縮空気は、稀釈容器2→流路65→電磁弁9−4→
流路66→自動ガスサンプラ1−2の流路h→計量管2
0−2→自動ガスサンプラ1−2の流路g→流路67→
活性炭フィルタ8−2→排気口17の経路により排気さ
れる。この稀釈容器2のクリーニングは約2分間おこな
われる。
をオンにする。自動ガスサンプラ1−1゜2.3は第1
図の状態にする。これにより、圧縮空気が、圧縮空気人
口14→エアフイルタ7−2→流路60→減圧弁11→
流路61→活性炭フイルタ8−1→流路62→1磁弁9
−3→流路63→自動ガスサンプラ1−1(R路i)→
流路64→試料注入ロ3の経路により稀釈容器2に流入
する。活性炭フィルタ8−1で清浄にされた圧縮空気に
より稀釈容器2がクリーニングされる。クリーニング後
の圧縮空気は、稀釈容器2→流路65→電磁弁9−4→
流路66→自動ガスサンプラ1−2の流路h→計量管2
0−2→自動ガスサンプラ1−2の流路g→流路67→
活性炭フィルタ8−2→排気口17の経路により排気さ
れる。この稀釈容器2のクリーニングは約2分間おこな
われる。
ステップA2
次に電磁弁9−3を閉じると、稀釈容器2内の圧力が徐
々に減少する。圧力変換器5で稀釈容器2内の圧力を検
出し、内圧がゼロになるのを待つ。
々に減少する。圧力変換器5で稀釈容器2内の圧力を検
出し、内圧がゼロになるのを待つ。
ステップA3
内圧がゼロになったことが検出されると、電磁弁9−4
を閉じるとともにマグネチツクスターラ4をオフにする
。これにより稀釈容器2がりIJ−ニングされ、他の運
転モードへ移る準備が完了する。
を閉じるとともにマグネチツクスターラ4をオフにする
。これにより稀釈容器2がりIJ−ニングされ、他の運
転モードへ移る準備が完了する。
(B)上流測定モード
上流測定モードは、活性炭フィルタ上流側からの高濃度
ガスを稀釈して繰り返し測定する運転モードである。ス
タートボタン手押すと、高濃度ガスを繰り返し測定し、
ストップボタンを押すとその回の測定を終了するととも
に停止する。
ガスを稀釈して繰り返し測定する運転モードである。ス
タートボタン手押すと、高濃度ガスを繰り返し測定し、
ストップボタンを押すとその回の測定を終了するととも
に停止する。
ステップB1
電磁弁9−3と9−4を閉じ、電磁弁9−1と9−2を
開く、これにより高!1度ガスが、高濃度ガス人口12
→エアフイルタ7−1→流路50→流路51→ニードル
バルブ10−1→流路55→電磁弁9−1→吸引ポンプ
接続口15の経路によりポンプ(図示せず)で吸引され
る。また、流路50から分岐された高濃度ガスは、流路
52→自動ガスサンプラ1−1の流路g→計量管20−
1→自動ガスサンプラ1−1の流路h→流路8→流量計
6−1→流路舛の経路により流路55に合流する。
開く、これにより高!1度ガスが、高濃度ガス人口12
→エアフイルタ7−1→流路50→流路51→ニードル
バルブ10−1→流路55→電磁弁9−1→吸引ポンプ
接続口15の経路によりポンプ(図示せず)で吸引され
る。また、流路50から分岐された高濃度ガスは、流路
52→自動ガスサンプラ1−1の流路g→計量管20−
1→自動ガスサンプラ1−1の流路h→流路8→流量計
6−1→流路舛の経路により流路55に合流する。
低濃度ガスは、低濃度ガス人口13→エアフイルタ7−
3→流路70→流路71→ニードルバルフ1〇−2→流
路72→を磁弁9−2→吸引ポンプ接続口16の経路に
より、ポンプ(図示せず)で吸引される。
3→流路70→流路71→ニードルバルフ1〇−2→流
路72→を磁弁9−2→吸引ポンプ接続口16の経路に
より、ポンプ(図示せず)で吸引される。
また、流路70から流路76に分岐された低!N度ガス
は、流路76→自動ガスサンプラ1−3の流路g→計量
管20−3→自動ガスサンプラ1−3の流路h→流路7
7→流量計6−2→流路78の経路により流路72に合
流する。
は、流路76→自動ガスサンプラ1−3の流路g→計量
管20−3→自動ガスサンプラ1−3の流路h→流路7
7→流量計6−2→流路78の経路により流路72に合
流する。
またチッ素ガスは、チッ素ガス人ロ18→流路73→自
動ガスサンプラ1−2の流路i→流路74→自動ガスサ
ンプラ1−3の流路i−+流路75→チッ素ガス出口1
9の経路により、ガスクロマトグラフへ送られている。
動ガスサンプラ1−2の流路i→流路74→自動ガスサ
ンプラ1−3の流路i−+流路75→チッ素ガス出口1
9の経路により、ガスクロマトグラフへ送られている。
なお、ニードルバルブ
スサンプラ1−1と1−3に適切な量(約50〜100
ml/11iR程度)の空気が流れるように調節して
いる。
ml/11iR程度)の空気が流れるように調節して
いる。
ステップB2
スタートボタンを押すと,電磁弁9−1が閉じる.自動
ガスサンプラ1−1の計量管20−1内の空気圧力が.
活性炭フィルタ上流側空気の圧力と等しくなるのを待つ
.かかる均圧化のためには。
ガスサンプラ1−1の計量管20−1内の空気圧力が.
活性炭フィルタ上流側空気の圧力と等しくなるのを待つ
.かかる均圧化のためには。
数秒から10秒程度の時間が必要である。
ステップB3
次に自動ガスサンプラ1−1を時計方向に60’回転さ
せ.流路gが入口Cと出口6間を接続し。
せ.流路gが入口Cと出口6間を接続し。
流路iが入口すと出口1間を接続する.すると。
流路63→自動ガスサンプラ1−1の流路g→計量管2
0−1→流路i→流路64の流通経路ができる。
0−1→流路i→流路64の流通経路ができる。
続いて電磁弁9−3を開き.計量管20−1中の高濃度
ガスを.活性炭フィルタ8−1で清浄にされた圧縮空気
で稀釈容器2へ送入する。
ガスを.活性炭フィルタ8−1で清浄にされた圧縮空気
で稀釈容器2へ送入する。
稀釈容器2内の圧力Pは圧力変換器5で検出され.この
Pが次の(1)式で示された値になるとti弁9−3を
閉じる.同時に.自動ガスサンプラ1−1を反時計方向
に60°回転させて第1図の状態にもどす。
Pが次の(1)式で示された値になるとti弁9−3を
閉じる.同時に.自動ガスサンプラ1−1を反時計方向
に60°回転させて第1図の状態にもどす。
ただし、P:稀釈容器2内の圧力(vg/α2G)d:
稀釈倍率 V:計量器20−1の容積( me )■=稀釈容器2
の容積(ml) ステップB4 マグネチツクスターラ4をオンし.稀釈容器2内の撹拌
子2aを回転させて.高濃度ガスと清浄空気を30秒′
8度混合する。
稀釈倍率 V:計量器20−1の容積( me )■=稀釈容器2
の容積(ml) ステップB4 マグネチツクスターラ4をオンし.稀釈容器2内の撹拌
子2aを回転させて.高濃度ガスと清浄空気を30秒′
8度混合する。
ステップB5
電磁弁9−4を開くと,稀釈容器2内の稀釈ガスは,流
路65→戒凪弁9−4→流路66→自動ガスサンプラ1
−2の流路h→計i!Lf20−2→自動ガスサンプラ
1−2の流路g→流路67→活性炭フィルタ8−2→排
気口17の経路を通って排出される。
路65→戒凪弁9−4→流路66→自動ガスサンプラ1
−2の流路h→計i!Lf20−2→自動ガスサンプラ
1−2の流路g→流路67→活性炭フィルタ8−2→排
気口17の経路を通って排出される。
そして、稀釈容器2の内圧がゼロになるまで待つ。
ステップB6
圧力変換器5により桁釈容器2内の圧力がゼロになると
.自動ガスサンプラ1−2が時計方向に60矩回転する
.すると、流路gが入口Cと出口6間を接続し.流路1
が入口すと出口1間を接続する.したがってチッ素ガス
人口18からのチツ累ガスが.流路73→自動ガスサン
プラ1−2の流路g→計量管20ー2→流路i→流路7
4→自動ガスサンプラ1−3の流路i→流路75→チッ
素ガス出口19の経路を流れ,計量管20−2中の試料
ガスをガスクロマトグラフに送り込む.ガスクロマトグ
ラフでは送り込まれたガスの分析がおこなわれる。
.自動ガスサンプラ1−2が時計方向に60矩回転する
.すると、流路gが入口Cと出口6間を接続し.流路1
が入口すと出口1間を接続する.したがってチッ素ガス
人口18からのチツ累ガスが.流路73→自動ガスサン
プラ1−2の流路g→計量管20ー2→流路i→流路7
4→自動ガスサンプラ1−3の流路i→流路75→チッ
素ガス出口19の経路を流れ,計量管20−2中の試料
ガスをガスクロマトグラフに送り込む.ガスクロマトグ
ラフでは送り込まれたガスの分析がおこなわれる。
ステップB7
自動ガスサンプラ1−2の計量管20−2中の試料ガス
がガスクロマトグラフに送り込まれた後。
がガスクロマトグラフに送り込まれた後。
自動ガスサンプラ1−2を反時計方向に60度回転して
第1図の状態にもどす.次に11t磁弁9−3を開くと
.ステップA1と同じ状態になり.稀釈容器2が清浄な
圧縮空気でクリーニングされる。
第1図の状態にもどす.次に11t磁弁9−3を開くと
.ステップA1と同じ状態になり.稀釈容器2が清浄な
圧縮空気でクリーニングされる。
ステップB8
分析所要時間(例えば2分間)を設定したタイマ(図示
せず)がタイムアツプすると.を磁弁9−3を閉じ(ス
テップAI )、m釈容器2中の内圧がゼロlどなるの
を待って電磁弁9−4を閉じる(ステップA2)。
せず)がタイムアツプすると.を磁弁9−3を閉じ(ス
テップAI )、m釈容器2中の内圧がゼロlどなるの
を待って電磁弁9−4を閉じる(ステップA2)。
ステップB9
スタートボタンが押されていればそのまま停止する.ス
トップボタンが押されていなければ再びステップB1か
らステップB8を繰り返し、高濃度ガスを測定する。
トップボタンが押されていなければ再びステップB1か
らステップB8を繰り返し、高濃度ガスを測定する。
(C)下流測定モード
下流測定モードは、活性炭フィルタ下流側からの低濃度
ガスを繰り返し測定する運転モードである。スタートボ
タンを押すと低濃度ガスを繰り返し測定し、ストップボ
タンを押すとその回の測定を終了するとともに停止する
。
ガスを繰り返し測定する運転モードである。スタートボ
タンを押すと低濃度ガスを繰り返し測定し、ストップボ
タンを押すとその回の測定を終了するとともに停止する
。
電磁弁9−3と9−4を閉じ、電磁弁9−1と9−2を
開く、これによりステップB1と同じ状態になる。
開く、これによりステップB1と同じ状態になる。
ステップC2
スタートボタンを押すと電磁弁9−2が閉じる。
自動ガスサンプラ1−3の計fIk管20−3内の空気
圧力が、活性炭フィルタ下流側空気の圧力と等しくなる
のを待つ、かかる均圧化のためには、数秒から10秒程
度の時間が必要である。
圧力が、活性炭フィルタ下流側空気の圧力と等しくなる
のを待つ、かかる均圧化のためには、数秒から10秒程
度の時間が必要である。
ステップC3
次に自動ガスサンプラ1−3を時計方向に60屁回転さ
せ、流路gが入口Cと出口6間を接続し。
せ、流路gが入口Cと出口6間を接続し。
流路iが入口すと出口1間を接続する。すると。
流路74→自動ガスサンプラ1−3の流路g→計量lW
2O−3→流路i→流路75の流通経路ができる。
2O−3→流路i→流路75の流通経路ができる。
したがってチッ素ガス人口18からのチッ素ガスが。
計量管20−3内の低濃度ガスをガスクロマトグラフに
送り込む、ガスクロマトグラフでは送り込まれたガスの
分析がおこなわれる。自動ガスサンプラ1−3の計量管
20−3中の試料ガスがガスクロマトグラフに送り込ま
れた後、自動ガスサンプラ1−3を反時計方向に印度回
転して第1図の状態にもどす。
送り込む、ガスクロマトグラフでは送り込まれたガスの
分析がおこなわれる。自動ガスサンプラ1−3の計量管
20−3中の試料ガスがガスクロマトグラフに送り込ま
れた後、自動ガスサンプラ1−3を反時計方向に印度回
転して第1図の状態にもどす。
ステップC4
ストップボタンが押されていればそのまま停止する。ス
トップボタンが押されていなければ再びステップC1か
らステップC3を繰り返し、低濃度ガスを測定する。
トップボタンが押されていなければ再びステップC1か
らステップC3を繰り返し、低濃度ガスを測定する。
(D)上流/下流交互測定モードI
上流/下流交互測定モード■は、上流側からの高濃度ガ
スの測定と下流側からの低濃度ガスの測定を交互におこ
なう運転モードである。ステップB1からステップB8
により高濃度ガスの採取。
スの測定と下流側からの低濃度ガスの測定を交互におこ
なう運転モードである。ステップB1からステップB8
により高濃度ガスの採取。
稀釈測定をした後、ステップC1からステップC3によ
り低濃度ガスの採取、測定をおこない、これを繰り返す
。
り低濃度ガスの採取、測定をおこない、これを繰り返す
。
(E)上流/下流交互測定モード■
上流/下流交互測定モード■と同様、上流側からの高濃
度ガスの測定と下流側からの低濃度ガスの測定を交互に
おこなう運転モードである。しかしこの運転モードでは
、ステップB1からステップB4により高濃度ガスの採
取、稀釈をおこなっている間に、ステップC1からステ
ップC3を実行して低濃度ガスの採取、測定をおこなう
、低濃度ガスの測定後、ステップB5からステップB8
を実行して高濃度ガスの測定をおこなう、この運転モー
ドは、先の上流/下流交互測定モード■より高速で測定
できる。
度ガスの測定と下流側からの低濃度ガスの測定を交互に
おこなう運転モードである。しかしこの運転モードでは
、ステップB1からステップB4により高濃度ガスの採
取、稀釈をおこなっている間に、ステップC1からステ
ップC3を実行して低濃度ガスの採取、測定をおこなう
、低濃度ガスの測定後、ステップB5からステップB8
を実行して高濃度ガスの測定をおこなう、この運転モー
ドは、先の上流/下流交互測定モード■より高速で測定
できる。
(F)校正モード
校正モードは、比較的高濃度の標準ガスサンプル、また
は液体サンプルを稀釈して測定する運転モードである。
は液体サンプルを稀釈して測定する運転モードである。
ステップF1
標準サンプルを注射器で稀釈容器2の試料注入口3から
注入する。なお、液体サンプルの場合。
注入する。なお、液体サンプルの場合。
試料注入口3を外側からヒータで加熱しておけば。
液体サンプルは気化されてガスになり稀釈容器2中に注
入可能となる。
入可能となる。
ステップF2
スタートボタンを押すと、標準サンプルは清浄な圧縮空
気で稀釈容器2中に送り込まれる。その後はステップB
3からステップB8により、標準サンプルの稀釈、採取
、測定をおこなう。
気で稀釈容器2中に送り込まれる。その後はステップB
3からステップB8により、標準サンプルの稀釈、採取
、測定をおこなう。
このような本実施例tこよれば、高濃度ガスの稀釈は稀
釈容器内で加圧状態で行なっているので。
釈容器内で加圧状態で行なっているので。
混合、稀釈後は稀釈容器の出口側の電磁弁を開くと稀釈
サンプルは内圧によって出てくる。したがって、稀釈後
のサンプルを吸引するための真空ポンプや注射器を必要
としない。
サンプルは内圧によって出てくる。したがって、稀釈後
のサンプルを吸引するための真空ポンプや注射器を必要
としない。
また、ガスの稀釈倍率は(1)式で決定されるので。
計量器の容積Vと稀釈容器の容積Vを変えなくとも、稀
釈容器内の圧力Pを変化させるだけで、稀釈倍率dを容
易に変更することができる。
釈容器内の圧力Pを変化させるだけで、稀釈倍率dを容
易に変更することができる。
したがって、稀釈圧力を検出する圧力変換器から信号を
ディジタルメータリレーを用いて数値変換をおこなえば
、稀釈倍率を直読することができる。
ディジタルメータリレーを用いて数値変換をおこなえば
、稀釈倍率を直読することができる。
また、モード選択スイッチにより選択するだけで、高濃
度ガス測定、低′a度ガス測定、高!i1度/低濃度ガ
ス交互測定等の運転モードを容易に変更することができ
る。
度ガス測定、低′a度ガス測定、高!i1度/低濃度ガ
ス交互測定等の運転モードを容易に変更することができ
る。
サラに、操作はシーケンスコントローラにより自動的に
おこなわれるので、オペレータによる操作ミスが発生せ
ず、高精度の測定をおこなうことができる。
おこなわれるので、オペレータによる操作ミスが発生せ
ず、高精度の測定をおこなうことができる。
なお1本発明は上記実施例に限定されず種々の変更が可
能である。
能である。
本発明は以上説明したとおり、ガスのサンプリング操作
をすべて自動的におこなうようにしたので、操作ミスが
なくなるとともに作業効率が極めて良くなるという優れ
た効果を奏する。
をすべて自動的におこなうようにしたので、操作ミスが
なくなるとともに作業効率が極めて良くなるという優れ
た効果を奏する。
第1図は本発明の一実施例によるガスサンプリング装置
を用いたガス稀釈装置の構成図、第2図(a) 、 (
blは従来のガス稀釈分析装置の構成図である。 図において、1−1〜3・・・自動ガスサンプラ。 2・・・稀釈容器、2a・・・撹拌子、3・・・試料注
入口。 4・・・マグネチツクスターラ、4a・・・モータ、4
b・・・磁石、5・・・圧力変換器、6−1.2・・・
ニードルバルブ付の流量計、7−1〜3・・・エアフィ
ルタ。 8−1.2・・・活性炭フィルタ、9−1〜4・・・電
磁弁、to−1,2・・・ニードルバルブ、11・・・
減圧弁。 12・・・高IIk度ガス入口、13・・・低濃度ガス
入0.14・・・圧縮空気(または圧縮ガス)入口、
15 、16・・・吸引ポンプ接続口、17・・・排気
口、18・・・チッ素ガス入口。 19・・・チッ素ガス出0.20−1〜3・・・計量管
、21−1〜4・・・ソレノイド、101・・・低濃度
ガス入口。 103 、111 、115・・・手動操作バルブ、
105 、109・・・試料採取0.107・・・高濃
度ガス入0.113・・・排気ポンプ、 117・・
・ガスサンプラ、118・・・計量管。 121・・・チッ素ガス入口、 123 、125・・
・弁、128・・・試料注入0.129・・・分離カラ
ム、130・・・電子捕獲型検出器、131・・・排気
口− 133・・・増幅器、134・・・記録針、14
0・・・活性炭フィルタ、 142 、147・・・
手動操作バルブ、144・・・試料採取0.145・・
・稀釈容器、148・・・排気ポンプ、150・・・マ
グネテイツクスターラである。
を用いたガス稀釈装置の構成図、第2図(a) 、 (
blは従来のガス稀釈分析装置の構成図である。 図において、1−1〜3・・・自動ガスサンプラ。 2・・・稀釈容器、2a・・・撹拌子、3・・・試料注
入口。 4・・・マグネチツクスターラ、4a・・・モータ、4
b・・・磁石、5・・・圧力変換器、6−1.2・・・
ニードルバルブ付の流量計、7−1〜3・・・エアフィ
ルタ。 8−1.2・・・活性炭フィルタ、9−1〜4・・・電
磁弁、to−1,2・・・ニードルバルブ、11・・・
減圧弁。 12・・・高IIk度ガス入口、13・・・低濃度ガス
入0.14・・・圧縮空気(または圧縮ガス)入口、
15 、16・・・吸引ポンプ接続口、17・・・排気
口、18・・・チッ素ガス入口。 19・・・チッ素ガス出0.20−1〜3・・・計量管
、21−1〜4・・・ソレノイド、101・・・低濃度
ガス入口。 103 、111 、115・・・手動操作バルブ、
105 、109・・・試料採取0.107・・・高濃
度ガス入0.113・・・排気ポンプ、 117・・
・ガスサンプラ、118・・・計量管。 121・・・チッ素ガス入口、 123 、125・・
・弁、128・・・試料注入0.129・・・分離カラ
ム、130・・・電子捕獲型検出器、131・・・排気
口− 133・・・増幅器、134・・・記録針、14
0・・・活性炭フィルタ、 142 、147・・・
手動操作バルブ、144・・・試料採取0.145・・
・稀釈容器、148・・・排気ポンプ、150・・・マ
グネテイツクスターラである。
Claims (1)
- サンプリングすべきガスが流入するガス入口と、このガ
ス入口に接続された第1の流路と、この第1の流路に接
続されて前記第1の流路に流れるガス流量を調整する調
整バルブと、この調整バルブに接続された第2の流路と
、この第2の流路に接続された開閉バルブと、この開閉
バルブに接続されてガスを吸引するガス吸引口とを有す
るガス主系統と、一定量のガスを計量するガス計量管と
、ガス入口およびガス出口を有し、これらガス入口およ
びガス出口を前記ガス計量管の両端口へ連結するガスサ
ンプラと、前記ガス主系統の前記第1の流路から分岐し
て前記ガスサンプラのガス入口に接続された第3の流路
と、前記ガスサンプラのガス出口に接続された第4の流
路と、この第4の流路に接続されたガス流量計と、この
ガス流量計に接続され前記ガス主系統の前記第2の流路
に合流する第5の流路とを有するガスサンプリング系統
とを備えたことを特徴とするガスサンプリング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60143536A JPS623636A (ja) | 1985-06-29 | 1985-06-29 | ガスサンプリング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60143536A JPS623636A (ja) | 1985-06-29 | 1985-06-29 | ガスサンプリング装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS623636A true JPS623636A (ja) | 1987-01-09 |
Family
ID=15341027
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60143536A Pending JPS623636A (ja) | 1985-06-29 | 1985-06-29 | ガスサンプリング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS623636A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02159538A (ja) * | 1988-12-13 | 1990-06-19 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 内容物検知装置 |
JPH0331766A (ja) * | 1989-06-29 | 1991-02-12 | Shimadzu Corp | 試料導入装置 |
-
1985
- 1985-06-29 JP JP60143536A patent/JPS623636A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02159538A (ja) * | 1988-12-13 | 1990-06-19 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 内容物検知装置 |
JPH0331766A (ja) * | 1989-06-29 | 1991-02-12 | Shimadzu Corp | 試料導入装置 |
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