JPS6233229B2 - - Google Patents

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JPS6233229B2
JPS6233229B2 JP53100420A JP10042078A JPS6233229B2 JP S6233229 B2 JPS6233229 B2 JP S6233229B2 JP 53100420 A JP53100420 A JP 53100420A JP 10042078 A JP10042078 A JP 10042078A JP S6233229 B2 JPS6233229 B2 JP S6233229B2
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JP
Japan
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hydrogen atom
group
formula
manufacturing
metal
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Application number
JP53100420A
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JPS5444672A (en
Inventor
Baderu Rorufu
Gingu Reohorudo
Uarudohoogeru Peteru
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Novartis AG
Original Assignee
Ciba Geigy AG
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Filing date
Publication date
Application filed by Ciba Geigy AG filed Critical Ciba Geigy AG
Publication of JPS5444672A publication Critical patent/JPS5444672A/ja
Publication of JPS6233229B2 publication Critical patent/JPS6233229B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D249/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D249/16—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D249/18—Benzotriazoles
    • C07D249/20—Benzotriazoles with aryl radicals directly attached in position 2

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はベンゾトリアゾール―Ｎ―オキシドま
たはＯ―ニトロ―アゾベンゼンからベンゾトリア
ゾールを製造する新規方法に関する。
ベンゾトリアゾールは公知であり、そして商業
上手に入れることができるポリマー用添加物特に
光安定剤または油添加物（例えば米国特許明細書
第3004896号を参照。）であり、そしてこのものは
従来、Ｏ―ニトロアゾベンゼンをアルコール性水
酸化ナトリウム溶液中の亜鉛で還元するか（例え
ば米国特許明細書第3072585号）、スルフイドまた
は亜鉛／塩酸で還元するか（例えば米国特許明細
書第2362988号）、電解還元するか（例えばケミカ
ルアブストラクト第24巻，第2060頁1930年）、ヒ
ドラジンで還元するか（米国特許明細書第
4001266号）、または接触水素添加よつて（米国特
許明細書第4001266号）製造される。しかしなが
らこれら公知の方法は、環境汚染及び廃水問題を
伴ない、あるいは還元反応の結果として分解生成
物を伴ない、そしてある場合には、脱ハロゲン化
現象を伴ない、あるいは一部分不十分な収量及び
不純な品質の生成物を与える。
ニトロベンゼンをアミノベンゼンに転化するた
めに、溶解性貴金属塩触媒、例えば塩化ルテニウ
ム、及び水素供与体としてのアミン例えばインド
リンからなる水素移動システムが知られている。
（Imai etal，J.Org.Chem.，1977，431―434，
Vol.42）このアミンは水素供与体としてこれらの
適応性にしたがつて選択され、そしてこの点で特
に、脱水素化の結果として容易に安定な芳香族化
合物に転化するところのインドリン及びテトラヒ
ドロキノリンが優れている。一方、脂肪族アミ
ン、例えばｎ―プロピルアミン、トリ―ｎ―プロ
ピルアミン、トリ―ｎ―オクチルアミンまたはシ
クロヘキシルアミン、またはＮ，Ｎ―ジメチルア
ニリン、インダン及びピリジンは実質的に水素供
与体の性質を有せずあるいは弱いまたは完全に不
適当な水素供与体である。アゾベンゼン及びヒド
ラゾベンゼンはニトロベンゼンのための条件と同
一の条件下で水素化によつて分解して相当するア
ミノベンゼンになる。
この先行技術から出発して、本発明は特に置換
されたニトロベンゼン、すなわちそれから得られ
るＯ―ニトロアゾベンゼンまたはベンゾトリアゾ
ール―Ｎ―オキシドが金属塩触媒なしにアミンで
特に上記の公知接触水素移動に不適当であるかま
たはわずかにほどよく適当であるアミンで環化す
ることによつて脱酸素化まれ得ることを示してい
る。本発明方法において、接触水素移動に不適当
であるかまたはわずかにほどよく適当であると述
べられているアミンを用いて、ニトロベンゼンの
場合にアミノベンゼンのために記載されたものよ
りも好収率でそして触媒の使用なしでも好収率で
得られるであろうということは予期されていなか
つた。
更に、本発明のＯ―ニトロアゾベンゼンの還元
でアゾベンゼン及びヒドラゾベンゼンの場合に生
じるような水素化による分解を生じないことも予
期されなかつた。おどろくべき現象としては、金
属化合物の存在が任意なものであるということの
みならずまた金属化合物が存在してもＯ―ニトロ
アゾベンゼンをアミノベンゼンに還元することに
よる公知の分解が生じないということである。ま
た、ベンゾトリアゾール―Ｎ―オキシドの本発明
による還元も先行技術から引き出し得ずそして、
またわずかな可能性しかない。したがつて、本発
明は、式： （式中、R1，R2，R3，R4及びR5は下記の意味
を有する。） で表わされるベンゾトリアゾール―Ｎ―オキシド
をアミンと20ないし150℃の温度で処理される
か；または式： （式中、R1，R2，R3，R4及びR5は下記の意味
を有する。） で表わされるＯ―ニトロアゾベンゼンをアミンと
20ないし150℃の温度で処理することからなる式
： （式中、 R1は水素原子を表わし、 R2は水素原子または塩素原子を表わし、 R3は炭素原子数１ないし12のアルキル基を表
わし、 R4は水素原子を表わし、及び R5は水素原子または炭素原子数１ないし12の
アルキル基を表わす。）で表わされるベンゾトリ
アゾールの製造方法に関する。
R3は炭素原子数１ないし12のアルキル基とし
て例えばエチル基、アミル基、第三オクチル基、
ｎ―ドデシル基または特にメチル基もしくは第三
ブチル基である。
R5は炭素原子数１ないし12のアルキル基とし
て例えば第三ブチル基、第三アミル基、第三オク
チル基、ｎ―ドデシル基または特にメチル基もし
くは第三ブチル基である。
特に好ましくは、R1が水素原子であり、 R2が水素原子または塩素原子であり、 R3がメチル基、第三ブチル基、第三アミル
基、第三オクチル基または第二ブチル基であり、 R4が水素原子であり、そして R5が水素原子、塩素原子、メチル基、第二ブ
チル基、第三ブチル基、第三アミル基または第三
オクチル基である。
本発明方法について適当なものとしては比較的
強塩基の反応性アミン特に第一または第二アミ
ン、なかんずく第一アミンである。第一アミンは
例えば炭素原子数１ないし18のアルキルアミンの
ようなアルキルアミン、例えばプロピルアミン、
炭素原子数６ないし20のアリールアミンのような
アリールアミン、例えば２，６―ジメチルアニリ
ンまたは２―メチル―６―エチル―アニリン、炭
素原子数５ないし８のシクロアルキルアミンのよ
うなシクロアルキルアミン、例えばシクロヘキシ
ルアミン、または炭素原子数２ないし18のアルキ
レンジアミンのようなアルキレンジアミン、例え
ばトリメチレンアミンである。
第二アミンは、例えば炭素原子数２ないし36の
ジアルキルアミンのようなジアルキルアミン、例
えばジプロピルアミン、炭素原子数６ないし10の
Ｎ―アリール―（炭素原子数１ないし18）―Ｎ―
アルキル―アミンのようなＮ―アリール―Ｎ―ア
ルキル―アミン、例えばＮ―メチルアニリン、ま
たは炭素原子数５ないし８のＮ―シクロアルキル
（炭素原子数１ないし18）―Ｎ―アルキルアミン
のようなＮ―シクロアルキル―Ｎ―アルキルアミ
ン、例えばＮ―メチル―シクロヘキシルアミン、
または同じ分子中に第１の基を有するアミン、例
えば式： H2N（CH2）ｎ―NH―（CH2）n―NH2 （式中ｎ及びｍは互に独立して２ないし６であ
る） で表わされるもの例えば、３，3′―ジアミノ―ジ
プロピルアミン、またはピロリジン、ピペリジ
ン、ピペラジンまたはモルホリンである。
第一アミン及びこれらの間でアルキルアミン及
びアルキレンジアミンは特に好ましい。またアミ
ン、特に上記アミンの混合物は有利に用いられ得
る。
アミンはＯ―ニトロアゾベンゼンまたはＮ―オ
キシド化合物の１モルあたり３ないし10モルの量
で用いられるのが好ましい。アミンは反応混合物
中始めから存在してもよく、または反応途中で加
えてもよい。
本発明方法の温度は、約20ないし150℃、特に
80ないし120℃であり、そして個々の場合によつ
て選択された反応物質場合により用いられる溶媒
及び反応容器に依存する。
空気を排除するために、不活性ガス雰囲気例え
ば窒素または希ガス、が有利である。
本発明方法が用いたアミン及び／または溶剤の
沸点以上の温度で行なわれる場合、反応が加圧下
で行うことができるようにクローズトシステムが
好ましい。
本発明方法を行う適当な方法において溶媒が用
いられるが、アミンは同時に溶媒の役割をするこ
とができる。溶媒の選択により、反応は一相また
は二相で達成され得る；一相では例えばアミンが
溶媒として作用する場合かまたは不活性有機溶媒
が用いられる場合であり、該溶媒としては、脂肪
族、脂環式または芳香族炭化水素のような炭化水
素、例えばヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサ
ン、ベンゼン、トルエンもしくはキシレン、また
はこれらの混合物、またはアルコールのような極
性不活性有機溶媒、例えばメタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、ｎ―プロパノール、ｎ―
ブタノールまたは２―メトキシエタノールのよう
なアルカノール、またはテトラヒドロフランジオ
キサンまたは１，２―ジメトキシエタンのような
エーテル、トリブチルホスフエートのようなトリ
アルキルホスフエート、交互にジアルキルホルム
アミドのようなアミド、例えばジメチルホルムア
ミドまたはジメチルアセトアミドがあげられる。
二相では、反応は水性有機性の溶媒例えば水／炭
化水素溶媒で行なわれるのが好ましく、上記した
ようにこの場合反応混合物を処理するのが特に有
利である。Ｏ―ニトロアゾベンゼンを溶媒に溶解
しているかまたは稀釈されててないいずれかの形
で、反応中に反応容器に調節された量で供給する
場合に本発明方法では好収率で有利に達成され
る。
好収量を得るために、しかしながら特に反応時
間を短縮するためには、触媒を添加することが有
利であることが証明された。これは周期律表の
Ｂ，Ｂ，Ｂ，Ｂ，Ｂ及び族から選ばれ
た金属及び金属化合物、特にＢ，Ｂ，Ｂ及
び、例えばCu，Ag，Au，Ｖ，Cr，Mo，Ｗ，
Fe，Ru，Os，Co，Rh，Ir，Ni，Pd及びPtであ
る。Fe，Co，Ni及び更に特にCuのような経済的
に有利な金属が特に好ましい。塩または錯体のよ
うな可溶性化合物の形での金属の使用が有利であ
る。弱有機酸の塩、例えば酢酸塩またはプロピオ
ネートが好ましい。
また、しかしながら、無機酸の塩、例えば炭酸
塩、または無機酸の塩基性塩例えばヒドロキシカ
ルボネートもまた適当である。
これらの金属の酸化物または水酸化物を用いる
こともまた可能である。錯体、例えばアセチルア
セトネートまたはサリチルアルジミネートを用い
ることもまた可能である。アセチルアセトネート
が好ましい。
更に、適当な溶媒はその場で金属塩とともに錯
体を形成し、そしてこの場合適当な触媒として行
動する。好ましくは、金属塩のような触媒は、化
学量論量以下、の量で特にＯ―ニトロアゾベンゼ
ンまたはＮ―オキシド化合物に対して１ないし
25mol％で用いられる。
本発明方法の利点は、高収率での純粋生成物の
製造、好ましくない副生産物の広範囲での回避、
そして廃水及び廃ガスに関係する問題が大いに除
去されることにある。
また、接触水素添加と比較して、脱ハロゲンは
それに関して生じない。クレゾールが副生産物と
して生成する場合、これは有利に分離され得そし
て再びＯ―ニトロアゾベンゼン（式）または該
Ｎ―オキシド（式）を製造するのに用いられ
る；それ故反応サイクルをそこなわない。更に、
ガス還元剤は必要なく、そして特に二相方法の場
合は、その反応媒体は再び利用され得る。
本発明の方法は、式で表わされるベンゾトリ
アゾール―Ｎ―オキシドの製造方法としても同様
に適当である；この方法は次式： （式中、R1，R2，R3，R4及びR5は上記の意味
を有する。） で表わされるＯ―ニトロアゾベンゼンをアミンと
20ないし150℃の温度にて処理することからな
る。
この反応は詳細に、ベンゾトリアゾールの製造
方法で上記した方法、特にその好ましい態様で行
なわれる。
場合によつては単離されたＮ―オキシドは、場
合によつては精製することなく、前記方法の出発
物質として有利に用いてもよく、またこの方法
は、式で表わされるＮ―オキシドを単離する必
要なく、Ｏ―ニトロアゾベンゼン（式）から直
接所望のベンゾトリアゾール（式）を生成でき
る。式で表わされるＮ―オキシドを得るため
に、反応はより短かい反応時間で特に早目に終了
させる。
出発物質は公知であり、特に前記先行技術で公
知であり、またはこの場合、これらが新規である
場合では、これらは公知方法と同様な方法で製造
され得る。
本発明を更に次の実施例で説明するが、この実
施例は決して本発明の範囲を制限しない。
実施例 １ 1.3―ジアミノプロパン150ml中の２―ニトロ―
2′―ヒドロキシ―5′―メチル―アゾベンゼン10ｇ
（0.04モル）を空気を排除して85ないし90℃にて
20時間加熱する。
１，３―ジアミノプロパンを留去しそして生成
した蒸留物を分析する。それは２―（2′―ヒドロ
キシ―5′―メチル―フエニル）―ベンゾトリアゾ
ールの理論量の40％程度からなる。副産物として
のｐ―クレゾールは理論量の34％程度で存在す
る。還元は下記のアミンを用いて同様な方法で行
われ同様な結果を得る； エチレンジアミン ３，3′―ジアミノジプロピルアミン １，６―ジアミノヘキサン シクロヘキシルアミン ベンジルアミン ジエチルアミン ピペリジン モルホリン、及び トリエチルアミン。
実施例 ２ １，３―ジアミノプロパン11.6ｇ（0.16モル）
及び酢酸銅（）２ｇ（0.01モル）を水50mlに加
え、そして全体を空気を排除し、撹拌しながら85
ないし90℃に加熱する。それから60℃に加熱され
たキシレン100ml中の２―ニトロ―2′―ヒドロキ
シ―5′―メチル―アゾベンゼン10ｇ（0.04モル）
溶液を加え、そして20時間後反応混合物を室温に
まで冷却する。水相を分離し、そして有機相は水
性塩酸で抽出し、それから中性になるまで水洗す
る。キシレンを留去すると粗生成物7.7ｇが残
る。LC（液体クロマトグラフイー）による粗生
成物の分析値は、２―（2′―ヒドロキシ―5′―メ
チルフエニル）―ベンゾトリアゾールの理論量の
86％を示す。
銅塩及びアミンを含有する水相は、二つの成分
が最初の値を示すように補給された後に、更に反
応のために用いてもよい。
実施例 ３ 本方法は、２―（2′―ヒドロキシ―5′―メチル
フエニル）―ベンゾトリアゾール―Ｎ―オキシド
9.4ｇを２―ニトロ―2′―ヒトロキシ―5′―メチル
―アゾベンゼンの代わりに用いる以外は実施例２
と同様にして行なう。粗生成物8.5ｇを得、そし
てこのLC分析値は２―（2′―ヒドロキシ―5′―
メチルフエニル）―ベンゾトリアゾールの理論量
の92.4％を示す。
実施例 ４ ピペリジン22.6ｇ（0.32モル）及び銅――ア
セチルアセトネート2.62ｇ（0.01モル）を水50ml
中に加え、そして全体を空気を排除して、85ない
し90℃にまで加熱する。その後60℃にまで加熱さ
れたキシレン100ml中の２―ニトロ―2′―ヒドロ
キシ―5′―メチル―アゾベンゼン10ｇ（0.04モ
ル）の溶液を加え、そして６時間後に反応は完了
する。実施例２に従つた方法で粗生成物8.37ｇを
生ずる。
２―（2′―ヒドロキシ―5′―メチルフエニル）
―ベンゾトリアゾールの収率は70％である。
実施例 ５ 本方法は銅――ヒドロキシカルボネートを酢
酸銅（）の代わりに用いる以外は実施例２に従
つて行われる。収率は２―（2′―ヒドロキシ―
5′―メチルフエニル）―ベンゾトリアゾール、64
％である。
実施例 ６ １，３―ジアミノプロパン11.6ｇ（0.16モル）
及び銅――アセチルアセトネート2.62ｇをジメ
チル―100ml中に加え、そして全体を不活性ガス
中で100℃にまで加熱する。それからジメチルホ
ルムアミド50ml中の２―ニトロ―2′―ヒドロキシ
―5′―メチルアゾベンゼン10ｇの溶液を加え、そ
して３時間後反応を終了する。２―（2′―ヒドロ
キシ―5′―メチルフエニル）―ベンゾトリアゾー
ルに転化すると64％の収率を示す。
実施例 ７ １，３―ジアミノプロパン11.6ｇ（0.16モル）
及び酢酸銅（）2.0ｇをメチルセルソルブ100ml
中に溶解し、該溶液を空気を排除して95℃に加熱
する。それから60℃に加熱されたメチルセルソル
ブ100ml中の２―ニトロ―2′―ヒドロキシ―5′―
メチル―アゾベンゼン10ｇの溶液を８時間続けて
滴加し、そして該混合物を続いて２時間反応させ
る。反応混合物の揮発成分を真空蒸留で除去し、
そして蒸留残留物をトルエン中に得る。
トルエン溶液を水性塩酸で抽出し、そして中性
になるまで水洗する。トルエンを留去すると２―
（2′―ヒドロキシ―5′―メチルフエニル）―ベン
ゾトリアゾール96.5％を含有する粗生成物8.31ｇ
が残る。２―（2′―ヒドロキシ―5′―メチルフエ
ニル）―ベンゾトリアゾールに転化すると92.3％
の収率を示す。
実施例 ８ ２―ニトロ―４―クロロ―2′―ヒドロキシ―
3′―第三ブチル―5′―メチル―アゾベンゼンを銅
――アセチルアセトネートと、実施例２に従つ
て反応させると２―（2′―ヒドロキシ―3′―第三
ブチル―5′―メチル―フエニル）―５―クロロベ
ンゾトリアゾールを生ずる；収率は理論量の70％
である。
実施例 ９ ２―ニトロ―４―クロロ―2′―ヒドロキシ―
3′，5′―ジ―第三ブチル―アゾベンゼンを、実施
例８に従つて反応させると、２―（2′―ヒドロキ
シ―3′，5′―ジ―第三ブチル―フエニル）―５―
クロロ―ベンゾトリアゾールを理論量の75％の収
率にて得る。
実施例 10 ２―ニトロ―2′―ヒドロキシ―3′，5′―ジ―第
三ブチル―アゾベンゼンを実施例８に従つて反応
させると、２―（2′―ヒドロキシ―3′，5′―ジ―
第三ブチル―フエニル）―ベンゾトリアゾールを
理論量の70％の収率にて得る。
実施例 11 ２―ニトロ―2′―ヒドロキシ―3′，5′―第三ペ
ンチル―アゾベンゼンを実施例８に従つて反応さ
せると、3′，５―ジ―第三ペンチル―フエニル）
―ベンゾトリアゾールを理論量の85％の収率にて
得る。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 式： （式中、R1，R2，R3，R4及びR5は下記の意味
    を有する。） で表わされるベンゾトリアゾール―Ｎ―オキシド
    をアミンと20ないし150℃の温度で処理すること
    からなる式： （式中、 R1は水素原子を表わし、 R2は水素原子または塩素原子を表わし、 R3は炭素原子数１ないし12のアルキル基を表
    わし、 R4は水素原子を表わし、及び R5は水素原子または炭素原子数１ないし12の
    アルキル基を表わす。）で表わされるベンゾトリ
    アゾールの製造方法。 ２ 式中、R1が水素原子であり、 R2が水素原子または塩素原子であり、 R3がメチル基、第三ブチル基、第三アミル
    基、第三オクチル基、第二ブチル基であり、 R4が水素原子であり、そして R5が水素原子、メチル基、第二ブチル基、第
    三ブチル基、第三アミル基または第三オクチル基
    である特許請求の範囲第１項記載の製造方法。 ３ 用いられるアミンが第一，第二または第三ア
    ミンである特許請求の範囲第１項記載の製造方
    法。 ４ アルキルアミン、アリールアミン、シクロア
    ルキルアミン、アルキレンジアミン、ジアルキル
    アミン、Ｎ―アリール―Ｎ―アルキルアミン、Ｎ
    ―シクロアルキル―Ｎ―アルキルアミン、ピロリ
    ジン、ピペリジンまたは３，3′―ジアミノ―ジプ
    ロピルアミンを使用する特許請求の範囲第３項記
    載の製造方法。 ５ 処理を50ないし150℃、特に80ないし120℃で
    行なう特許請求の範囲第１項記載の製造方法。 ６ 溶媒として不活性溶媒を用いる特許請求の範
    囲第１項記載の製造方法。 ７ 反応を金属触媒または金属化合物触媒の存在
    下で行なう特許請求の範囲第１項ないし第６項の
    いずれか１項に記載の製造方法。 ８ 金属または金属化合物の金属が、周期律表の
    Ｂ，Ｂ，Ｂ，Ｂまたは族から選ばれる
    特許請求の範囲第７項記載の製造方法。 ９ 金属または金属化合物が金属として銅を含有
    する特許請求の範囲第７項記載の製造方法。 １０ 式： （式中、R1，R2，R3，R4及びR5は下記の意味
    を有する。） で表わされるＯ―ニトロアゾベンゼンをアミンと
    20ないし150℃の温度で処理することからなる式
    ： 〔式中、 R1は水素原子を表わし、 R2は水素原子または塩素原子を表わし、 R3は炭素原子数１ないし12のアルキル基を表
    わし、 R4は水素原子を表わし、及び R5は水素原子または炭素原子数１ないし12の
    アルキル基を表わす。）で表わされるベンゾトリ
    アゾールの製造方法。 １１ 式中、R1が水素原子であり、 R2が水素原子または塩素原子であり、 R3がメチル基、第三ブチル基、第三アミル
    基、第三オクチル基、第二ブチル基であり、 R4が水素原子であり、そして R5が水素原子、メチル基、第二ブチル基、第
    三ブチル基、第三アミル基または第三オクチル基
    である特許請求の範囲第１０項記載の製造方法。 １２ 用いられるアミンが第一，第二または第三
    アミンである特許請求の範囲第１０項記載の製造
    方法。 １３ アルキルアミン、アリールアミン、シクロ
    アルキルアミン、アルキレンジアミン、ジアルキ
    ルアミン、Ｎ―アリール―Ｎ―アルキルアミン、
    Ｎ―シクロアルキル―Ｎ―アルキルアミン、ピロ
    リジン、ピペリジンまたは３，3′―ジアミノ―ジ
    プロピルアミンを使用する特許請求の範囲第１２
    項記載の製造方法。 １４ 処理を50ないし150℃、特に80ないし120℃
    で行なう特許請求の範囲第１０項記載の製造方
    法。 １５ 溶媒として不活性溶媒を用いる特許請求の
    範囲第１０項記載の製造方法。 １６ 反応を金属触媒または金属化合物触媒の存
    在下で行なう特許請求の範囲第１０項ないし第１
    ５項のいずれか１項に記載の製造方法。 １７ 金属または金属化合物の金属が、周期律表
    のＢ，Ｂ，Ｂ，Ｂまたは族から選ばれ
    る特許請求の範囲第１６項記載の製造方法。 １８ 金属または金属化合物が金属として銅を含
    有する特許請求の範囲第１６項記載の製造方法。 １９ 次式： （式中、R1，R2，R3，R4及びR5は下記の意味
    を有する。） で表わされるＯ―ニトロアゾベンゼンをアミンと
    20ないし150℃の温度にて処理し；そして更に反
    応が行われる前に後記Ｎ―オキシドを単離するこ
    とからなる式： 〔式中、 R1は水素原子を表わし、 R2は水素原子または塩素原子を表わし、 R3は炭素原子数１ないし12のアルキル基を表
    わし、 R4は水素原子を表わし、 R5は水素原子または炭素原子数１ないし12の
    アルキル基を表わす。〕で表わされるベンゾトリ
    アゾール―Ｎ―オキシドの製造方法。
JP10042078A 1977-08-17 1978-08-17 Manufacture of benzotriazole and benzotriazoleennoxide Granted JPS5444672A (en)

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