JPS623035A - 多孔質石英ガラス母材の製造方法 - Google Patents
多孔質石英ガラス母材の製造方法Info
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- JPS623035A JPS623035A JP14019285A JP14019285A JPS623035A JP S623035 A JPS623035 A JP S623035A JP 14019285 A JP14019285 A JP 14019285A JP 14019285 A JP14019285 A JP 14019285A JP S623035 A JPS623035 A JP S623035A
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/0144—Means for after-treatment or catching of worked reactant gases
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- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、気相反応合成法による多孔質石英ガラスｆｆ
ｆ 材の製造方法に関するものである。
ｆ 材の製造方法に関するものである。
［従来の技術］
従来より気相反応法による石英ガラスの合成は、珪素化
合物を酸水素炎中で加水分解して種棒上にシリカ微粒子
を堆積させて、これを焼成することによって行なわれて
いる。従来、このような多孔質石英ガラス母材を製造す
る場合、この反応を大気中で実施すると空気中の不純物
が石英ガラス母材中に混入するという不具合が生ずるた
め、通常は排気口を有するパイレックス製等の反応器内
に種棒を配置して、この種棒上にシリカ微粒子を吹付は
堆積させながら漸次種棒を引上げて多孔質石英ガラス母
材を成長させる方法が採用されてい条、この際、反応器
内の火炎が乱れると多孔質石英ガラス母材の形状が乱れ
てｆＩ）材を安定して製造できなくなるため、従来より
この乱れをなくすための提案がいくつかなされている。
合物を酸水素炎中で加水分解して種棒上にシリカ微粒子
を堆積させて、これを焼成することによって行なわれて
いる。従来、このような多孔質石英ガラス母材を製造す
る場合、この反応を大気中で実施すると空気中の不純物
が石英ガラス母材中に混入するという不具合が生ずるた
め、通常は排気口を有するパイレックス製等の反応器内
に種棒を配置して、この種棒上にシリカ微粒子を吹付は
堆積させながら漸次種棒を引上げて多孔質石英ガラス母
材を成長させる方法が採用されてい条、この際、反応器
内の火炎が乱れると多孔質石英ガラス母材の形状が乱れ
てｆＩ）材を安定して製造できなくなるため、従来より
この乱れをなくすための提案がいくつかなされている。
本発明者は、先にこの反応器内の前記の乱れを抑制する
ための改良された装置として、実願昭５９−１８７３２
号でば 多孔質石英ガラス母材と酸水素炎を囲、むよう
に反応器内に内筒を設置した二重構造の反応器を考案し
た。
ための改良された装置として、実願昭５９−１８７３２
号でば 多孔質石英ガラス母材と酸水素炎を囲、むよう
に反応器内に内筒を設置した二重構造の反応器を考案し
た。
また光フアイバー母材の製造などにおいては、特開昭５
７−８１８４１号に見られるように反応器と排気設備の
間に内部に水を充填したバッファタンクを設置する方法
や、特開昭５８−３２３４５号では、排気口内に回転体
を設置する方法等が提案されている。
７−８１８４１号に見られるように反応器と排気設備の
間に内部に水を充填したバッファタンクを設置する方法
や、特開昭５８−３２３４５号では、排気口内に回転体
を設置する方法等が提案されている。
［発明の解決しようとする問題点］
石英ガラスを例えばフォトマスク用の基板材料として利
用する場合、石英ガラス素材の大きさはかなりのものが
要求され、このため、気相反応合成法による多孔質石英
ガラス母材としては径が２８〜３０ｃｍで長さがＩＱＯ
ｃ層以上のものが必要となってくるが、こういった大口
径の長尺母材を製造しようとする大型の反応器を用いて
長時間（２４〜３０Ｈｒｓ）の運転を行なう必要がある
。
用する場合、石英ガラス素材の大きさはかなりのものが
要求され、このため、気相反応合成法による多孔質石英
ガラス母材としては径が２８〜３０ｃｍで長さがＩＱＯ
ｃ層以上のものが必要となってくるが、こういった大口
径の長尺母材を製造しようとする大型の反応器を用いて
長時間（２４〜３０Ｈｒｓ）の運転を行なう必要がある
。
しかしながら、従来提案されてきた様な製造方法で上記
の大口径の長尺母材を製造しようとすると１反応器の内
壁に時間の経過と共に付着・成長したシリカ微粒子が合
成途中で落下し母材が破損したり、時間の経過と共に反
応器の火炎流の乱れが大きくなり、ついには安定した多
孔質石英ガラス母材の合成が出来なくなる等の問題点が
見出された。かかる問題点の発生原因の一つとしては、
大型のしかも長尺の反応器においては、ドラフト作用に
より反応器内に不均一なガス流が生じやすく、従来の様
な方法では、反応器の内壁に構造的に崩れやすい不均一
な厚みのスケールが付着・成長し、これが限界厚みに達
すると器内のちょっとした圧変動に耐えられなくなり脱
落してしまうものと考えられる。さらに前述した様な大
型の母材を製造するためには相当量、例えば四塩化珪素
換算で１．８〜２．５ｋｇ／Ｈｒの珪素化合物を長時間
にわたって反応させていくことになるが、従来の方法で
は、この際配管内に逐次付着堆積していったシリカ微粒
子からなるスケールが短期的に脱落すること等によって
器内の圧力が大きく変動する原因になるものと思われる
。
の大口径の長尺母材を製造しようとすると１反応器の内
壁に時間の経過と共に付着・成長したシリカ微粒子が合
成途中で落下し母材が破損したり、時間の経過と共に反
応器の火炎流の乱れが大きくなり、ついには安定した多
孔質石英ガラス母材の合成が出来なくなる等の問題点が
見出された。かかる問題点の発生原因の一つとしては、
大型のしかも長尺の反応器においては、ドラフト作用に
より反応器内に不均一なガス流が生じやすく、従来の様
な方法では、反応器の内壁に構造的に崩れやすい不均一
な厚みのスケールが付着・成長し、これが限界厚みに達
すると器内のちょっとした圧変動に耐えられなくなり脱
落してしまうものと考えられる。さらに前述した様な大
型の母材を製造するためには相当量、例えば四塩化珪素
換算で１．８〜２．５ｋｇ／Ｈｒの珪素化合物を長時間
にわたって反応させていくことになるが、従来の方法で
は、この際配管内に逐次付着堆積していったシリカ微粒
子からなるスケールが短期的に脱落すること等によって
器内の圧力が大きく変動する原因になるものと思われる
。
本願発明は前記したかかる問題の発生を防止するもので
ある。
ある。
［問題点を解決するための手段］
本発明は、上記従来技術の問題点を解決し、大口径の長
尺母材を安定して製造する方法を提供するものであり、
その要旨は排気装置付排気口を有する反応器内に種棒を
配置し、珪素化合物を酸水素炎中で火炎加水分解して種
棒上にシリカ微粒子を堆積・成長させて大口径の長尺母
材を製造する方法において１反応器上部中央部に設けた
一定開度の２次空気導入口から空気を導入し、上下部複
数箇所に設けた排出口から反応ガスを排出することを特
徴とする多孔質石英ガラス母材の製造方法である。
尺母材を安定して製造する方法を提供するものであり、
その要旨は排気装置付排気口を有する反応器内に種棒を
配置し、珪素化合物を酸水素炎中で火炎加水分解して種
棒上にシリカ微粒子を堆積・成長させて大口径の長尺母
材を製造する方法において１反応器上部中央部に設けた
一定開度の２次空気導入口から空気を導入し、上下部複
数箇所に設けた排出口から反応ガスを排出することを特
徴とする多孔質石英ガラス母材の製造方法である。
本発明の多孔質石英ガラス母材の製造方法は、トリクロ
ロシラン、四塩化珪素、四臭化珪素等の珪素化合物を酸
水素炎中で加水分解して種棒上にシリカ微粒子を堆積さ
せて大口径で長尺な多孔質石英ガラス母材を形成させる
に際して、反応器上下複数箇所から反応生成ガスを排出
する一方、上部中央より内圧調整用の２次空気を導入し
てシリカ微粒子を含む火炎が母材外周面にそって上昇す
る流れを形成させながら、器内の温度を高めることによ
り珪素化合物の加水分解反応を促進させるようにした方
法である。
ロシラン、四塩化珪素、四臭化珪素等の珪素化合物を酸
水素炎中で加水分解して種棒上にシリカ微粒子を堆積さ
せて大口径で長尺な多孔質石英ガラス母材を形成させる
に際して、反応器上下複数箇所から反応生成ガスを排出
する一方、上部中央より内圧調整用の２次空気を導入し
てシリカ微粒子を含む火炎が母材外周面にそって上昇す
る流れを形成させながら、器内の温度を高めることによ
り珪素化合物の加水分解反応を促進させるようにした方
法である。
第１図は本発明を実施して多孔質石英ガラス母材を得る
ための装置の一例を示す説明図である。
ための装置の一例を示す説明図である。
本発明を図面によって説明すると、第１図においてポン
ベ１およびボンベ２から水素および酸素がマスフローコ
ントローラー５を通して多重管バーナ８に供給されて酸
水素炎を発生させる。この酸水素炎中に四塩化珪素、ト
リクロロシラン、四臭化珪素等の珪素化合物のガスが蒸
発器７を通して供給され、加水分解されて平均粒径０．
１〜０．２μｌ程度のシリカ微粒子が生成する。この加
水分解反応を珪素化合物が四塩化珪素の場合化学式で示
すと次の様になる。
ベ１およびボンベ２から水素および酸素がマスフローコ
ントローラー５を通して多重管バーナ８に供給されて酸
水素炎を発生させる。この酸水素炎中に四塩化珪素、ト
リクロロシラン、四臭化珪素等の珪素化合物のガスが蒸
発器７を通して供給され、加水分解されて平均粒径０．
１〜０．２μｌ程度のシリカ微粒子が生成する。この加
水分解反応を珪素化合物が四塩化珪素の場合化学式で示
すと次の様になる。
゛拍Ｃ１４、＋ ２Ｈ２０→ ５ｉ０２ ＋ ４
ＨＣＩそして、このシリカ微粒子がバイレックス製の反
応器ｌＯ中の石英からなる回転する種棒１２に付着し、
順次成長１．て多孔質石英ガラス母材１３が形成される
。この際に発生するｆ（ＣＩを含む排ガスは排気口１４
．１５から排出され、調整器１７を経由して除害塔１８
に導かれ、ここで苛性ソーダ水１８と向流接触し［＋が
除去されたのち、ブロワ−２０によって大気に放出され
る。
ＨＣＩそして、このシリカ微粒子がバイレックス製の反
応器ｌＯ中の石英からなる回転する種棒１２に付着し、
順次成長１．て多孔質石英ガラス母材１３が形成される
。この際に発生するｆ（ＣＩを含む排ガスは排気口１４
．１５から排出され、調整器１７を経由して除害塔１８
に導かれ、ここで苛性ソーダ水１８と向流接触し［＋が
除去されたのち、ブロワ−２０によって大気に放出され
る。
本発明の好ましい形態において、反応器１０の構造は下
部の径が太くＬ部がやや絞った構造になっており、その
寸法はＤ２／Ｄ＋＝０．８〜０．９゜Ｎ２．、／）ｌｌ
＝１．８〜２．０の範囲から選ばれ、バーナは反応器下
部から挿入されるようになっている。
部の径が太くＬ部がやや絞った構造になっており、その
寸法はＤ２／Ｄ＋＝０．８〜０．９゜Ｎ２．、／）ｌｌ
＝１．８〜２．０の範囲から選ばれ、バーナは反応器下
部から挿入されるようになっている。
上部排気口は［，２／ ０２−０ 、９〜１．１の位置
に、下部排気口はＬｌ／ＤＩ＝ ０．７５〜０，８５の
位置にそれぞれ設けするのが好ましい、下部排気口１４
の位置Ｌ＋／Ｄ＋が０．７５以下になるとバーナから出
た火炎８の乱れが大きくなリシリカ微粒子の付着効率が
悪くなる。又Ｌｌ）Ｄｌが０，８５以上になると雰囲気
中の未反誌りカ微粒子の排気が不規則になり反応器底部
内壁へのスケ゛−ル生成量が多くなるゆ 一方、ｈ ｖｉ！＋排気口１５の位置がに記範囲からは
ずれると反応器下部から上昇する気流と外部から導入さ
れる２次空気との排出バランスがくずれ反応器内の庄変
動が大きくなる。
に、下部排気口はＬｌ／ＤＩ＝ ０．７５〜０，８５の
位置にそれぞれ設けするのが好ましい、下部排気口１４
の位置Ｌ＋／Ｄ＋が０．７５以下になるとバーナから出
た火炎８の乱れが大きくなリシリカ微粒子の付着効率が
悪くなる。又Ｌｌ）Ｄｌが０，８５以上になると雰囲気
中の未反誌りカ微粒子の排気が不規則になり反応器底部
内壁へのスケ゛−ル生成量が多くなるゆ 一方、ｈ ｖｉ！＋排気口１５の位置がに記範囲からは
ずれると反応器下部から上昇する気流と外部から導入さ
れる２次空気との排出バランスがくずれ反応器内の庄変
動が大きくなる。
排気口及び２次空気導入口の大きさはＤ／ｌｈ−０，１
８〜０，２２、Ｉ１３／ Ｉｌｌ＋＝ Ｑ、１８〜０．
１８の範囲から選定するのが好ましい、この様にすれば
、反応器に人出するガス量は終始バランスが保たれ、反
応開始時に調整器１７を用いて排気条件を設定しておけ
ば合成終了時まで内部の雰囲気条件は、安定した状態で
保たれる。
８〜０，２２、Ｉ１３／ Ｉｌｌ＋＝ Ｑ、１８〜０．
１８の範囲から選定するのが好ましい、この様にすれば
、反応器に人出するガス量は終始バランスが保たれ、反
応開始時に調整器１７を用いて排気条件を設定しておけ
ば合成終了時まで内部の雰囲気条件は、安定した状態で
保たれる。
この際調整器１？を通過する排ガス量はバーナ８に供給
するガス量の８〜１５倍の範囲から選ばれる。′ａ常径
３０ｃｍ程度の多孔質石英ガラス母材を製造するために
は５〜６Ｎｍ’／Ｈｒの反応ガスを供給する必要があり
、従って毎時４０〜ＬＱＱＮｓ３のガスが調整器１７に
排出され、モの排出ガスはバーナ８によって強ｆｊＬ的
−に導入されるガス量と」二部開口部１Ｂに自然の流れ
によって導入されるガス量の和とほぼ等しくなる。排気
口１４．１５から排出したガスは調整器１７で外部より
導入される空気により２〜３倍に希釈されて除害塔１８
にはこばれる。
するガス量の８〜１５倍の範囲から選ばれる。′ａ常径
３０ｃｍ程度の多孔質石英ガラス母材を製造するために
は５〜６Ｎｍ’／Ｈｒの反応ガスを供給する必要があり
、従って毎時４０〜ＬＱＱＮｓ３のガスが調整器１７に
排出され、モの排出ガスはバーナ８によって強ｆｊＬ的
−に導入されるガス量と」二部開口部１Ｂに自然の流れ
によって導入されるガス量の和とほぼ等しくなる。排気
口１４．１５から排出したガスは調整器１７で外部より
導入される空気により２〜３倍に希釈されて除害塔１８
にはこばれる。
この様に反応器からの排出ガスを多量の空気で希釈する
ことによりガス中のダスト濃度が下がり排気管を閉塞さ
せることがなくなる。
ことによりガス中のダスト濃度が下がり排気管を閉塞さ
せることがなくなる。
本発明においては、反応器内の温度は３５０〜５５０℃
、好ましくは４５０〜５００℃の範囲に保つ必要がある
。大口径母材を合成する場合、通常火炎の中心部温度を
１１５０〜１２００℃（赤外線式温度計で測定）に高め
ることが好ましいが、反応器内の雰囲気温度が３５０℃
より低い温度でこの火炎温度を維持しようとすると多量
の水素ガスをバーナに供給する必要があり、この条件下
では合成に適した安定な火炎が得られなくなる。
、好ましくは４５０〜５００℃の範囲に保つ必要がある
。大口径母材を合成する場合、通常火炎の中心部温度を
１１５０〜１２００℃（赤外線式温度計で測定）に高め
ることが好ましいが、反応器内の雰囲気温度が３５０℃
より低い温度でこの火炎温度を維持しようとすると多量
の水素ガスをバーナに供給する必要があり、この条件下
では合成に適した安定な火炎が得られなくなる。
また、５５０℃より高い温度では下部のバーナ挿入部を
シールする材料等が熱で劣化して不純物が多孔質石英ガ
ラス附材中に薊沫する危険性があるため好ましくない。
シールする材料等が熱で劣化して不純物が多孔質石英ガ
ラス附材中に薊沫する危険性があるため好ましくない。
本発明の好ましい形態によれば、反応器１０は、その外
周部を断熱材等で保温し、この保温材の厚みを１簡する
ことにより、上記の雰囲気温度が保たれる様にする。
周部を断熱材等で保温し、この保温材の厚みを１簡する
ことにより、上記の雰囲気温度が保たれる様にする。
本発明において、排気口の数は下部が１ケ所、上部は少
なくとも２ケ所に設けることが好ましい。
なくとも２ケ所に設けることが好ましい。
［実施例］
第１図に示す装置を使用し、径６５謬腸の多重管バーナ
８にＮ２をキャリアガスとした５ｉＣ１４を１８００ｇ
／Ｈｒの割合で供給し、総量でＮ２−２．４ｍ’／Ｈｒ
、Ｎ２＝１．０ｍ３／）ｌｒ、０２＊２．８ｍ３／Ｈｒ
の割合になるようにＮ２ガス、ＮＺガス、Ｏｚガスを供
給して火炎加水分解反応を行わせシリカ微粒子を生成さ
せてこれを回転する出発部材である種棒の先端に堆積・
成長させた。この反応中、排気口１４．１５から排気さ
れる排ガスの総量が７０１／Ｈｒになるように調圧器１
７を設定した。また、この反応に先立ち１反応器の外周
を約５ＩｌｌＩ厚みの断熱材！、！（ファインフレック
ス：ニチアス社製）を用いて保温した。
８にＮ２をキャリアガスとした５ｉＣ１４を１８００ｇ
／Ｈｒの割合で供給し、総量でＮ２−２．４ｍ’／Ｈｒ
、Ｎ２＝１．０ｍ３／）ｌｒ、０２＊２．８ｍ３／Ｈｒ
の割合になるようにＮ２ガス、ＮＺガス、Ｏｚガスを供
給して火炎加水分解反応を行わせシリカ微粒子を生成さ
せてこれを回転する出発部材である種棒の先端に堆積・
成長させた。この反応中、排気口１４．１５から排気さ
れる排ガスの総量が７０１／Ｈｒになるように調圧器１
７を設定した。また、この反応に先立ち１反応器の外周
を約５ＩｌｌＩ厚みの断熱材！、！（ファインフレック
ス：ニチアス社製）を用いて保温した。
約２４時間かけて径２９ｃｍで長さ１．２ｍの形状の整
った多孔質石英ガラス母材が形成され、この際の平均付
着歩留は８１．５％であった０合成開始から終了するま
での間１反応器内の前記母材底部近傍に圧力センサーを
挿入し、内部の圧力を測定した結果、圧力は−１，２〜
−１，５ｍｍＡｑの変動範囲で極めて安定していた。ま
た合成終了後反応器内壁に付着したスケールをかき落し
その量を測定したところ、全量で約１８０ｇｒ程度であ
り、スケールの厚みも均一であった。
った多孔質石英ガラス母材が形成され、この際の平均付
着歩留は８１．５％であった０合成開始から終了するま
での間１反応器内の前記母材底部近傍に圧力センサーを
挿入し、内部の圧力を測定した結果、圧力は−１，２〜
−１，５ｍｍＡｑの変動範囲で極めて安定していた。ま
た合成終了後反応器内壁に付着したスケールをかき落し
その量を測定したところ、全量で約１８０ｇｒ程度であ
り、スケールの厚みも均一であった。
本発明を実施しない従来の方法によった場合、反応器内
の圧力は−３，０〜＋０．０１ｍ鳳Ａｑ程度に変動し、
前記本発明の方法による場合に比べて大きい。
の圧力は−３，０〜＋０．０１ｍ鳳Ａｑ程度に変動し、
前記本発明の方法による場合に比べて大きい。
［発明の効果］
以上説明した様に本発明によれば、反応器上部中央から
反応器内の圧力を調整する２次空気を要因し、反応器上
下方向の複数箇所から器内のガスを抜き去る様にしたの
で１反応器内で多孔質石英ガラス母材の外周面にそって
上昇する整流されたシリカ微粒子を含む火炎流が形成さ
れ、生成されたシリカ微粒子は効率良く多孔質石英ガラ
ス母材面に付着堆積する。また、圧力調整用の２次空気
を反応器上部より導入し、これを近接する排出口より抜
き去るようにしているので、反応器上方から下方に向っ
て流れる気流の形成が防止でき１反応器内の圧力変動が
極めて小さくなる。さらにまた反応器内の気流の乱れが
ないので内壁へのシリカ微粒子の付着が著しく低減され
合成時にスケールが落下して反応器内の圧力が大きく変
動するという問題が発生しにくい、また、反応器内の反
応温度を３５０〜５５０℃と高めているので５ｉｌ１４
等珪素化合物の加水分解反応が促進され高収率で大口径
な多孔質石英ガラス母材が得られる。さらに、反応器か
ら排出されるガスを多量のガスで希釈しているので排気
ダクト内にスケールが付着し、閉塞する等の欠−−ｉ＜
発生しにくい。
反応器内の圧力を調整する２次空気を要因し、反応器上
下方向の複数箇所から器内のガスを抜き去る様にしたの
で１反応器内で多孔質石英ガラス母材の外周面にそって
上昇する整流されたシリカ微粒子を含む火炎流が形成さ
れ、生成されたシリカ微粒子は効率良く多孔質石英ガラ
ス母材面に付着堆積する。また、圧力調整用の２次空気
を反応器上部より導入し、これを近接する排出口より抜
き去るようにしているので、反応器上方から下方に向っ
て流れる気流の形成が防止でき１反応器内の圧力変動が
極めて小さくなる。さらにまた反応器内の気流の乱れが
ないので内壁へのシリカ微粒子の付着が著しく低減され
合成時にスケールが落下して反応器内の圧力が大きく変
動するという問題が発生しにくい、また、反応器内の反
応温度を３５０〜５５０℃と高めているので５ｉｌ１４
等珪素化合物の加水分解反応が促進され高収率で大口径
な多孔質石英ガラス母材が得られる。さらに、反応器か
ら排出されるガスを多量のガスで希釈しているので排気
ダクト内にスケールが付着し、閉塞する等の欠−−ｉ＜
発生しにくい。
特に本発明はフォトマスク用等の大口径多孔質石英ガラ
ス母材を製造するのに適している。
ス母材を製造するのに適している。
第１図は本発明を実施している多孔質石英ガラス母材を
得るための装置の−・例を示す説明図である。 １・・・・水素ボンベ、 ２・・・・酸素ボンベ、３
・・・・窒素ボンベ、４・・・・四塩化珪素タンク、５
・・・・マスフローコントローラー、７・・・・蒸発器
、８・・・・多玉管バーナ、９・・・・シリカを含む火
炎、 １２・・・・種棒、１３・・・・多孔質石英ガラ
ス母材、１４・・・・下部排気口、１５・・・・上部排
気口。 １６・・・・上部間口部、１７・・・・調圧器、１８・
・・・除害塔、 １９・・・・ＮａＯＨ水、２０・・・
・ブロワー−Ｌニーニーニー１；
得るための装置の−・例を示す説明図である。 １・・・・水素ボンベ、 ２・・・・酸素ボンベ、３
・・・・窒素ボンベ、４・・・・四塩化珪素タンク、５
・・・・マスフローコントローラー、７・・・・蒸発器
、８・・・・多玉管バーナ、９・・・・シリカを含む火
炎、 １２・・・・種棒、１３・・・・多孔質石英ガラ
ス母材、１４・・・・下部排気口、１５・・・・上部排
気口。 １６・・・・上部間口部、１７・・・・調圧器、１８・
・・・除害塔、 １９・・・・ＮａＯＨ水、２０・・・
・ブロワー−Ｌニーニーニー１；
Claims (2)
- （１）排気装置付排気口を有する反応器内に種棒を配置
し、珪素化合物を酸水素炎中で火炎加水分解して種棒上
にシリカ微粒子を堆積・成長させて大口径の長尺母材を
製造する方法において、反応器上部中央部に設けた一定
開度の２次空気導入口から空気を導入し、上下部複数箇
所に設けた排出口から反応ガスを排出することを特徴と
する多孔質石英ガラス母材の製造方法 - （２）反応器内の雰囲気温度を３５０〜５５０℃に保つ
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の多孔質石
英ガラス母材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14019285A JPH0829958B2 (ja) | 1985-06-28 | 1985-06-28 | 多孔質石英ガラス母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14019285A JPH0829958B2 (ja) | 1985-06-28 | 1985-06-28 | 多孔質石英ガラス母材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS623035A true JPS623035A (ja) | 1987-01-09 |
| JPH0829958B2 JPH0829958B2 (ja) | 1996-03-27 |
Family
ID=15263049
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14019285A Expired - Fee Related JPH0829958B2 (ja) | 1985-06-28 | 1985-06-28 | 多孔質石英ガラス母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0829958B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0221194U (ja) * | 1988-07-29 | 1990-02-13 | ||
| JPH08326995A (ja) * | 1995-03-28 | 1996-12-10 | Nikon Corp | 逆拡散を防止した液体材料供給システム |
-
1985
- 1985-06-28 JP JP14019285A patent/JPH0829958B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0221194U (ja) * | 1988-07-29 | 1990-02-13 | ||
| JPH0547759Y2 (ja) * | 1988-07-29 | 1993-12-16 | ||
| JPH08326995A (ja) * | 1995-03-28 | 1996-12-10 | Nikon Corp | 逆拡散を防止した液体材料供給システム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0829958B2 (ja) | 1996-03-27 |
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