JPS62293533A - 光デイスクの作製方法 - Google Patents
光デイスクの作製方法Info
- Publication number
- JPS62293533A JPS62293533A JP13590486A JP13590486A JPS62293533A JP S62293533 A JPS62293533 A JP S62293533A JP 13590486 A JP13590486 A JP 13590486A JP 13590486 A JP13590486 A JP 13590486A JP S62293533 A JPS62293533 A JP S62293533A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- mask
- optical disk
- base
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 23
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 23
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 description 1
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
３、発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は光ディスクの作製方法に係り、特に高品質レプ
リカ作製に好適な複製方法に関するものである。
リカ作製に好適な複製方法に関するものである。
光ディスクの作製方法の中でＵＶレジンを用いる、いわ
ゆる２Ｐ法においては、その樹脂を硬化させる為に紫外
線を照射する工程がある。この時、硬化させたくない部
分には、マスクを置いて照射していた。従来の作製方法
におけるマスクは単に円形状のマスクを基板に重ね合せ
ていただけのものであった（特開昭６Ｏ−１３６９２８
） 、その為に、マスクがずれることにより、本来硬化
すべき部分が硬化しなかったり、その逆も起った。さら
に、硬化後母型から樹脂を剥離する際、未硬化の液体状
樹脂が、毛細管現象により光ディスクの転写面に付着す
るなどの不都合が発生していた。
ゆる２Ｐ法においては、その樹脂を硬化させる為に紫外
線を照射する工程がある。この時、硬化させたくない部
分には、マスクを置いて照射していた。従来の作製方法
におけるマスクは単に円形状のマスクを基板に重ね合せ
ていただけのものであった（特開昭６Ｏ−１３６９２８
） 、その為に、マスクがずれることにより、本来硬化
すべき部分が硬化しなかったり、その逆も起った。さら
に、硬化後母型から樹脂を剥離する際、未硬化の液体状
樹脂が、毛細管現象により光ディスクの転写面に付着す
るなどの不都合が発生していた。
上記従来技術は上述した問題点について配慮がなされて
おらず、品質の高い光デイスク作製の上で間層があった
。
おらず、品質の高い光デイスク作製の上で間層があった
。
本発明の目的は、前記マスクがずれることなく。
光デイスク作製が行なえる様にすることである。
上記目的は、マスクのリング状外周部分に段差を設けこ
の段差に、光デイスク基板の外周を合わせることにより
、達成される。
の段差に、光デイスク基板の外周を合わせることにより
、達成される。
本発明におけるマスクは段差を有しており、この段差の
部分に光デイスク基板の外周をあてる為。
部分に光デイスク基板の外周をあてる為。
マスクと基板の相対位置ずれがなくなる。
以下、本発明の一実施例を第１図により説明する。プリ
グループ及びトラックアドレスとセクターアドレス等の
プリフォーマットピットを凹凸パターンとして有するス
タンパ１の上にはＵＶレジン３があり、その上に光ディ
スクの基板２を重ねる。一基板の周囲にはマスク４を配
置した後、紫外線５を照射し、ＵＶレジン３を硬化させ
、マスク４を取り除くと、その下の部分にあったＵＶレ
ジンは硬化せず液体のまま残っている。これを適当な溶
剤、あるいはガーゼなどで拭き取った後、スタンパ１か
ら基板２を剥離するとＵＶレジン３は基板２に接着され
てスタンパ１のパターンを転写している。こうして光デ
イスク基板を大量複製できる。その光デイスク基板に所
望の記録膜を設けることにより、光ディスクが得られる
。
グループ及びトラックアドレスとセクターアドレス等の
プリフォーマットピットを凹凸パターンとして有するス
タンパ１の上にはＵＶレジン３があり、その上に光ディ
スクの基板２を重ねる。一基板の周囲にはマスク４を配
置した後、紫外線５を照射し、ＵＶレジン３を硬化させ
、マスク４を取り除くと、その下の部分にあったＵＶレ
ジンは硬化せず液体のまま残っている。これを適当な溶
剤、あるいはガーゼなどで拭き取った後、スタンパ１か
ら基板２を剥離するとＵＶレジン３は基板２に接着され
てスタンパ１のパターンを転写している。こうして光デ
イスク基板を大量複製できる。その光デイスク基板に所
望の記録膜を設けることにより、光ディスクが得られる
。
゛マスク４には段差６が設けられており、この部分に基
板３を合わせる為、マスク４と基板２との相対位置関係
はずれることがない。
板３を合わせる為、マスク４と基板２との相対位置関係
はずれることがない。
マスク４の形態として第２図に示す構造のものを使用し
ても先と同様に位置関係はずれることがない。第２図に
おいて、基板２の周囲にはマスクを分割した一片４−２
が配置されており、この上にその他の一片４−１がのせ
である。この４−１は基板２の上にのっており、その内
径Ａより大きい部分でマスクの役目を果している。内径
Ａは基板２の外径よりもわずかに小さく選定してあり、
基板下の未硬化ＵＶレジン部分を必要最小限にくいとめ
る役目を果し、剥離時にスタンパのパターン部分へのし
み込みを防止している。
ても先と同様に位置関係はずれることがない。第２図に
おいて、基板２の周囲にはマスクを分割した一片４−２
が配置されており、この上にその他の一片４−１がのせ
である。この４−１は基板２の上にのっており、その内
径Ａより大きい部分でマスクの役目を果している。内径
Ａは基板２の外径よりもわずかに小さく選定してあり、
基板下の未硬化ＵＶレジン部分を必要最小限にくいとめ
る役目を果し、剥離時にスタンパのパターン部分へのし
み込みを防止している。
また他のマスク構造として第３図がある。基板２の外周
には、マスク片４−３があり、基板をずれない様にして
いる。この上にマスク片４−４及び４−５が配置されて
いる。４−４は先の４−１と同じ機能を有しており、４
−５は基板の外にあふれ出たＵＶレジンを硬化させない
為のマスクである。
には、マスク片４−３があり、基板をずれない様にして
いる。この上にマスク片４−４及び４−５が配置されて
いる。４−４は先の４−１と同じ機能を有しており、４
−５は基板の外にあふれ出たＵＶレジンを硬化させない
為のマスクである。
以上述べたマスクの材質としては、紫外１ｔ！５を透過
させなくて、上述した構造をとりうる、金属あるいはプ
ラスチックスなどが使用できる。また熱膨張を考慮して
着色ガラスなども使用できる。
させなくて、上述した構造をとりうる、金属あるいはプ
ラスチックスなどが使用できる。また熱膨張を考慮して
着色ガラスなども使用できる。
本発明によれば、マスクにより、基板周囲及び基板周囲
にはみ出したＵＶレジンを硬化させることがなく、しか
も基板とマスクのずれが発生しない為、基板周囲にパリ
が出ない光ディスクを作製することができる。その為、
パリの再付着によるディスクエラー等の低下を防止でき
、また、光デイスク外周部分にわずかではあるが、ｔＪ
Ｖレジンのない基板を２枚組み合わせて、両面光ディス
クを構成した場合、その接着強度が充分に確保でき、し
かも水分の浸入のない寿命の長いものを作る上で効果が
ある。
にはみ出したＵＶレジンを硬化させることがなく、しか
も基板とマスクのずれが発生しない為、基板周囲にパリ
が出ない光ディスクを作製することができる。その為、
パリの再付着によるディスクエラー等の低下を防止でき
、また、光デイスク外周部分にわずかではあるが、ｔＪ
Ｖレジンのない基板を２枚組み合わせて、両面光ディス
クを構成した場合、その接着強度が充分に確保でき、し
かも水分の浸入のない寿命の長いものを作る上で効果が
ある。
第１図は本発明の光デイスク作製方法を示す断面図、第
２図及び第３図は、本発明のマスクを示す断面図である
。
２図及び第３図は、本発明のマスクを示す断面図である
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、光スポットを案内するための溝及び、トラックアド
レスとセクターアドレスをピット状の凹凸パターンとし
て有する母型（スタンパ）の上に紫外線硬化樹脂（ＵＶ
レジン）を塗布し、その上に光ディスクの基板となる円
板を押し付け、該樹脂を押し拡げた後、紫外線を照射し
て樹脂を硬化し、該スタンパから基板及びこれに付着し
た樹脂を共に剥離する光ディスクの作製方法において、
基板の外周縁に紫外線の透過を妨げるマスクを紫外線照
射時に設置したことを特徴とする光ディスクの作製方法
。 ２、特許請求の範囲第１項記載の光ディスクの作製方法
において、基板となる円板の外周縁に沿つて段差を有す
るマスクを使用したことを特徴とする光ディスクの作製
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13590486A JPS62293533A (ja) | 1986-06-13 | 1986-06-13 | 光デイスクの作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13590486A JPS62293533A (ja) | 1986-06-13 | 1986-06-13 | 光デイスクの作製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62293533A true JPS62293533A (ja) | 1987-12-21 |
Family
ID=15162542
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13590486A Pending JPS62293533A (ja) | 1986-06-13 | 1986-06-13 | 光デイスクの作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62293533A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008251116A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Origin Electric Co Ltd | 光ディスクの製造方法 |
-
1986
- 1986-06-13 JP JP13590486A patent/JPS62293533A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008251116A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Origin Electric Co Ltd | 光ディスクの製造方法 |
| JP4598794B2 (ja) * | 2007-03-30 | 2010-12-15 | オリジン電気株式会社 | 光ディスクの製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2000517091A (ja) | コンパクトディスクを仮付け硬化する組立ライン | |
| JPH02126434A (ja) | 光デイスク基板成形方法 | |
| JPS62293533A (ja) | 光デイスクの作製方法 | |
| JPH04370548A (ja) | 光記録ディスク用基体の製造方法およびそれを実施するための装置 | |
| JPS61213132A (ja) | 情報記録用デイスクの製造方法 | |
| JPS59111820A (ja) | 光情報担体デイスクの製造方法 | |
| JPS61213131A (ja) | 情報記録用デイスクの製造方法 | |
| JP2533182B2 (ja) | 光ディスクの製造方法 | |
| JPS60136929A (ja) | 光デイスクの製法 | |
| JPH039835A (ja) | 光ディスク基板の製造方法 | |
| JPH03173954A (ja) | 光ディスクの製造方法 | |
| JPS6218635A (ja) | 光記録媒体の複製方法 | |
| JPH0547045A (ja) | スタンパの固定方法 | |
| JPS6391846A (ja) | 情報記録デイスクの製造方法 | |
| JPS62167639A (ja) | 光デイスク転写型の製造方法 | |
| JPS59114032A (ja) | デイスクスタンプ盤の製造方法 | |
| JPH04324138A (ja) | スタンパ固定用治具 | |
| JPH01285040A (ja) | 光ディスク用基板の製造方法 | |
| JPH02249154A (ja) | 光ディスク原盤 | |
| JPS62267938A (ja) | 光デイスク基板の製造方法 | |
| JPS62164240A (ja) | 情報記録基板の製造方法 | |
| JPH01251449A (ja) | 光ディスク基板の製造法 | |
| JPH01236439A (ja) | 光学的記録媒体用基板の製造方法 | |
| JPS6391845A (ja) | 情報記録デイスクの製造方法 | |
| JPH01260651A (ja) | 光デイスク基板の製造方法 |