JPS62293503A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS62293503A JPS62293503A JP13761586A JP13761586A JPS62293503A JP S62293503 A JPS62293503 A JP S62293503A JP 13761586 A JP13761586 A JP 13761586A JP 13761586 A JP13761586 A JP 13761586A JP S62293503 A JPS62293503 A JP S62293503A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
３、発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は高密度田気記碌技術分野における。磁気ディス
ク装置に用いられる薄膜磁気へラドスライダーの製造方
法に関する。
ク装置に用いられる薄膜磁気へラドスライダーの製造方
法に関する。
してけ、周知のとおりＡＩ−ｘｏｓ −’ｒｚ ｃ材の
基板表面上にバターニングによって形成された導１ｍ気
ヘッドを機械加工して行なわれろ。
基板表面上にバターニングによって形成された導１ｍ気
ヘッドを機械加工して行なわれろ。
この製造工程のなかで、特にギャップ深さけ薄膜磁気ヘ
ッドの性能を左右するもので、録再特性に犬夕〈影響す
るため、微少な冴が要求されている。
ッドの性能を左右するもので、録再特性に犬夕〈影響す
るため、微少な冴が要求されている。
一方、ギャップ深さの加工方法としては、薄膜磁気へラ
ドスライダーの浮動面をダイヤモンドやＡ４０．のよう
な遊離と粒を用いて研磨加工をすることによって行なわ
れる。
ドスライダーの浮動面をダイヤモンドやＡ４０．のよう
な遊離と粒を用いて研磨加工をすることによって行なわ
れる。
しかし、必要なメヤップ深さｂ′−数μ空で極めて浅い
ことから高精度な研磨加工が要求されている。
ことから高精度な研磨加工が要求されている。
そこで、従来では精度の高いギャップ深さを要求どおり
得るために基板上に研磨終了用のモニター（研磨マーク
）や研磨終了を検出する薄噂セン千−が形成されていて
研磨加工終了の判定をしていた。
得るために基板上に研磨終了用のモニター（研磨マーク
）や研磨終了を検出する薄噂セン千−が形成されていて
研磨加工終了の判定をしていた。
（、かじ、前述の従来技術では研磨用モニターな薄膜磁
気ヘッドスライダ−の側百に薄膜磁気ヘッド素子と同様
に、パターンニングによって形成した場合、膿の密着性
にバラツキが生じてしまうことによって、基板の切断・
研削・研磨等の機械加工の段階で研磨用モニターの膜ｈ
；けｈ電れてし重うという問題ｈ；ある。
気ヘッドスライダ−の側百に薄膜磁気ヘッド素子と同様
に、パターンニングによって形成した場合、膿の密着性
にバラツキが生じてしまうことによって、基板の切断・
研削・研磨等の機械加工の段階で研磨用モニターの膜ｈ
；けｈ電れてし重うという問題ｈ；ある。
また、喧述と同様に研磨用モニターを形成し之場合、そ
のスペース上の面からモニター形状を大きくすることｈ
’−できないため、研磨終了の判定／ｌ”−しにくいと
いう問題がある。
のスペース上の面からモニター形状を大きくすることｈ
’−できないため、研磨終了の判定／ｌ”−しにくいと
いう問題がある。
さらに、薄膜センサーを薄！１１磁気ヘッドスライダ−
の側面に薄膜磁気ヘッド素子と同様にパターンニングに
よって形成した場合、２種類のパターンが必要となり、
複雑なパターン形状てなることだよって薄ｌＩ＋！山気
ヘッドの歩留り低下の要因となるとい５間Ｑ＋’＋″−
ある。
の側面に薄膜磁気ヘッド素子と同様にパターンニングに
よって形成した場合、２種類のパターンが必要となり、
複雑なパターン形状てなることだよって薄ｌＩ＋！山気
ヘッドの歩留り低下の要因となるとい５間Ｑ＋’＋″−
ある。
そこで本発明はこの様な問題を解決するものでその目的
とするところは、精度が従来と同程度で製造コストの安
い薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供するところである。
とするところは、精度が従来と同程度で製造コストの安
い薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供するところである。
１）本発明は薄膜磁気ヘッドの製造工程において、基板
上にギャップ深さｓ′認用の溝を設けたことを特徴とす
る磁気へット°の製造方法。
上にギャップ深さｓ′認用の溝を設けたことを特徴とす
る磁気へット°の製造方法。
２）前記 １）項のギャップ深さ確認用溝の中にｓｉ
ｏ、やシ２０．ｈ４のセラミック材料ｈ；充填されてい
ることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
ｏ、やシ２０．ｈ４のセラミック材料ｈ；充填されてい
ることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
第１図は本発明の実施例における薄膜磁気ヘッドパター
ン形成図（平面図）である。
ン形成図（平面図）である。
第２図は第１図のＡ −Ａ’部分におけろ１つの薄膜磁
気ヘッドの断面図である。
気ヘッドの断面図である。
あらかじめ第２図の基板表面上＜、ｒｐ密なダイシング
Ｍ／ＣＶＣよって累積ピッチの少ない溝を所定の送りピ
ッチで溝加工をする。溝巾については薄膜磁気ヘッドパ
ターンの形状により任意に決めろ、ま友％辱深さについ
てけＳｉ ｏ、やＡ１２ｏ３のセラミック材料が充填さ
れる程度で良いのであまり深くしない方が良い。
Ｍ／ＣＶＣよって累積ピッチの少ない溝を所定の送りピ
ッチで溝加工をする。溝巾については薄膜磁気ヘッドパ
ターンの形状により任意に決めろ、ま友％辱深さについ
てけＳｉ ｏ、やＡ１２ｏ３のセラミック材料が充填さ
れる程度で良いのであまり深くしない方が良い。
次に、下保護膜をスパッタして前記の様に加工された溝
をうめ念後にその面を精密に研磨することによって基板
表面の平坦性、平面性を確僅する。
をうめ念後にその面を精密に研磨することによって基板
表面の平坦性、平面性を確僅する。
この様にして得られた基板表面上に、各種の薄膜を形成
し、薄膜磁気ヘッド素子を形成する。
し、薄膜磁気ヘッド素子を形成する。
この時、各種の薄膜は第１図の様に精密に加工された溝
の端面な基準だしてマスク合わせを行ない、第２図の様
だ下磁極１ｇヤヴプ、絶縁層、上磁極等の嘆を積層しｒ
（がら形成してい〈。
の端面な基準だしてマスク合わせを行ない、第２図の様
だ下磁極１ｇヤヴプ、絶縁層、上磁極等の嘆を積層しｒ
（がら形成してい〈。
次に、薄膜磁気へ１ドのスライ〃゛−加工については、
前記の溝を本草にして薄膜磁気ヘッド素子を精密切断し
ブロックに分割する。
前記の溝を本草にして薄膜磁気ヘッド素子を精密切断し
ブロックに分割する。
精密切断されたブロックは浮動面の巾規定の加工の後に
、ブリードスロ・ノド部の除去加工ｈ；行なわれる。
、ブリードスロ・ノド部の除去加工ｈ；行なわれる。
ギャップ深さについては、前述の溝を弓τにして研削と
研磨加工ｈ；精密に行なわれること（でなる。
研磨加工ｈ；精密に行なわれること（でなる。
この様にして、最終の研磨加工てよって前記の溝に充填
されたＳｊ ０２やｋ１２０ｓ等の七巧ミνり材料が無
くなったところで所定のギャップ深さ六−得られろこと
になる。
されたＳｊ ０２やｋ１２０ｓ等の七巧ミνり材料が無
くなったところで所定のギャップ深さ六−得られろこと
になる。
以上述べたように未発明によれば基板上ＶＣｉヤヴブ深
さ確認用の溝を設けたことによって、製造コストの安い
薄嘩ｍ気ヘッド特造工穆が得られろ。
さ確認用の溝を設けたことによって、製造コストの安い
薄嘩ｍ気ヘッド特造工穆が得られろ。
第１図は本発明の薄膜磁気ヘッドパターン形成図（平面
図）。 ＠２層は本発明の薄ＩＩＩ磁気ヘッドパターン形成図。 １・・・・・・基板 ２・・・・・・溝 ３・・・・・・下保！！１ ４・・・・・・下磁甑 ５・・・・・・ギャップ長 ６・・・・・・絶縁層 ７・・・・・・コイル ８・・・・・・上磁極 ９・・・・・・上保護嘆 １０・・・・・・ギャップ深さ 以 上第
２図
図）。 ＠２層は本発明の薄ＩＩＩ磁気ヘッドパターン形成図。 １・・・・・・基板 ２・・・・・・溝 ３・・・・・・下保！！１ ４・・・・・・下磁甑 ５・・・・・・ギャップ長 ６・・・・・・絶縁層 ７・・・・・・コイル ８・・・・・・上磁極 ９・・・・・・上保護嘆 １０・・・・・・ギャップ深さ 以 上第
２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）本発明は薄膜磁気ヘッドの製造工程において、基板
上にギャップ深さ確認用の溝を設けたことを特徴とする
磁気ヘッドの製造方法。 ２）ギャップ深さ確認用溝の中にＳｉＯ＿２やＡｌ＿２
Ｏ＿３のセラミック材料が充填されていることを特徴と
する特許請求の範囲第１項の磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13761586A JPS62293503A (ja) | 1986-06-13 | 1986-06-13 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13761586A JPS62293503A (ja) | 1986-06-13 | 1986-06-13 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62293503A true JPS62293503A (ja) | 1987-12-21 |
Family
ID=15202818
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13761586A Pending JPS62293503A (ja) | 1986-06-13 | 1986-06-13 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62293503A (ja) |
-
1986
- 1986-06-13 JP JP13761586A patent/JPS62293503A/ja active Pending
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