JPS62286260A - 半導体装置の基板接続構造 - Google Patents
半導体装置の基板接続構造Info
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- JPS62286260A JPS62286260A JP12948986A JP12948986A JPS62286260A JP S62286260 A JPS62286260 A JP S62286260A JP 12948986 A JP12948986 A JP 12948986A JP 12948986 A JP12948986 A JP 12948986A JP S62286260 A JPS62286260 A JP S62286260A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
- H05K3/341—Surface mounted components
- H05K3/3431—Leadless components
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/4007—Surface contacts, e.g. bumps
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
3、発明の詳細な説明
(産業上の利用分野)
本発明は、リードレスパッケージに収納された半導体装
置の外部接続端子と回路基板上の接続電極とを接続する
ための半導体装置の基板接続構造に関するものでおる。
置の外部接続端子と回路基板上の接続電極とを接続する
ための半導体装置の基板接続構造に関するものでおる。
(従来の技術)
半導体素子搭載用のセラミックパッケージとしテハ、D
IP(Dual In1ine Package)形の
ものか一般的に知られている。この種のパッケージは、
カラスエポキシ、樹脂等で作られた回路基板上に実装す
るために、接続用の金属製リードピンが複数本設けられ
ている。リードピンはけラミックパッケージ本体に比べ
て大幅に小型化できないため、このリードピンの数が多
くなると、パッケージ本体の寸法が大きくなる結果、リ
ードピンの無いものと比較して、半導体素子とリードピ
ンを接続するリード線及びリードピン自体を含む導出部
か長くなり性能が劣化すること、故障の発生し易い接続
点が多く信頼性か低い等の欠点を有していた。これらの
欠点を解決したセラミックパッケージとしてデツプキャ
リヤ(CHip Carrier)パッケージと呼ばれ
るリードレパッケージが注目されている。
IP(Dual In1ine Package)形の
ものか一般的に知られている。この種のパッケージは、
カラスエポキシ、樹脂等で作られた回路基板上に実装す
るために、接続用の金属製リードピンが複数本設けられ
ている。リードピンはけラミックパッケージ本体に比べ
て大幅に小型化できないため、このリードピンの数が多
くなると、パッケージ本体の寸法が大きくなる結果、リ
ードピンの無いものと比較して、半導体素子とリードピ
ンを接続するリード線及びリードピン自体を含む導出部
か長くなり性能が劣化すること、故障の発生し易い接続
点が多く信頼性か低い等の欠点を有していた。これらの
欠点を解決したセラミックパッケージとしてデツプキャ
リヤ(CHip Carrier)パッケージと呼ばれ
るリードレパッケージが注目されている。
従来、この種のチンプキャリャパッケージを用いた半導
体装置としては、例えば第2図及び第3図のようなもの
がめった。以下、その構成を図を用いて説明する。
体装置としては、例えば第2図及び第3図のようなもの
がめった。以下、その構成を図を用いて説明する。
第2図は従来のチップキャリヤパッケージ型半導体装置
の縦断面図である。
の縦断面図である。
この半導体装置は3層のセラミック層からなるセラミッ
ク製パッケージ1を有し、そのパッケージ1のキャビテ
ィ2内にはメタライズ層からなる素子搭載部3が形成さ
れ、ざらにその素子搭載部3の周囲には外部引出し用の
導電性金属層4、その金属層4に接続されたスルホール
導体5、及びその導体5に接続された外部接続端子6が
設けられている。外部接続端子6はパッケージ1の底面
に52けられており、回路基板上の接続M#Aと半田付
は等によって接続される端子である。
ク製パッケージ1を有し、そのパッケージ1のキャビテ
ィ2内にはメタライズ層からなる素子搭載部3が形成さ
れ、ざらにその素子搭載部3の周囲には外部引出し用の
導電性金属層4、その金属層4に接続されたスルホール
導体5、及びその導体5に接続された外部接続端子6が
設けられている。外部接続端子6はパッケージ1の底面
に52けられており、回路基板上の接続M#Aと半田付
は等によって接続される端子である。
キャビティ2内の素子搭載部3上には、Au−3i共晶
等で半導体素子7が接着され、その半導体素子7の表面
外部導出電極が金属細線8により導電性金属層4と接続
されている。キャビティ2の上端外周には、低融点ガラ
ス等で蓋部材9が接着され、該キャビティ2内が封止さ
れている。
等で半導体素子7が接着され、その半導体素子7の表面
外部導出電極が金属細線8により導電性金属層4と接続
されている。キャビティ2の上端外周には、低融点ガラ
ス等で蓋部材9が接着され、該キャビティ2内が封止さ
れている。
第3図は従来の伯のチップキャリヤパッケージ型半導体
装置の縦断面図である。
装置の縦断面図である。
この半導体装置では、第2図のスルーホール導体5に代
えて、パッケージ1の側面に導電性金属層5−1を形成
し、この金属層5−1により導電性金属層4と外部接続
端子6とを接続した構造でおる。
えて、パッケージ1の側面に導電性金属層5−1を形成
し、この金属層5−1により導電性金属層4と外部接続
端子6とを接続した構造でおる。
これら第2図及び第3図の半導体装置は、外部接続端子
6がパッケージ1の底面に設けられているので、回路基
板上に設けられた接続電極に半田付は等により直接接続
できる。そのため、半導体装置自体の小型化、リード線
が短くなって性能等の向上、接続点が減少して信頼性の
向上等の利点を有している。
6がパッケージ1の底面に設けられているので、回路基
板上に設けられた接続電極に半田付は等により直接接続
できる。そのため、半導体装置自体の小型化、リード線
が短くなって性能等の向上、接続点が減少して信頼性の
向上等の利点を有している。
(発明が解決しようとする問題点〉
しかしながら、上記構成の基板接続構造では、半導体装
置を基板上の接続電極に半田付けで実装する場合、次の
ような問題点があった。
置を基板上の接続電極に半田付けで実装する場合、次の
ような問題点があった。
■ 半導体装置や回路基板上の汚れ、回路基板上への異
物等の付着によって、リーク不良や、半田材のブリッジ
による電極間ショート等が発生するおそれがあった。
物等の付着によって、リーク不良や、半田材のブリッジ
による電極間ショート等が発生するおそれがあった。
■ 半導体装置の底面と回路基板の表面とが密着する実
装構造であるため、半田付けに用いられるフラックスの
残渣の洗浄が困難で、それによって電極間ショート等か
発生するおそれがあった。
装構造であるため、半田付けに用いられるフラックスの
残渣の洗浄が困難で、それによって電極間ショート等か
発生するおそれがあった。
■ 半田接続部における接続状態の外観検査が困難であ
った。
った。
■ 回路基板の所定位置へ半導体装置を接続する際に、
その半導体装置の位置決めが困難であった。
その半導体装置の位置決めが困難であった。
本発明は前記従来技術が持っていた問題点として、電極
間ショート、フラックスの残漬の洗浄が困難、半田接続
部の外観検査が困難、実装時の位置決めが困難な点につ
いて解決した半導体装置を提供するものである。
間ショート、フラックスの残漬の洗浄が困難、半田接続
部の外観検査が困難、実装時の位置決めが困難な点につ
いて解決した半導体装置を提供するものである。
(問題点を解決するための手段)
本発明は前記問題点を解決するために、半導体素子が収
納されたパッケージの底面に、該半導体素子と接続され
た外部接続端子が設けられたリードレスパッケージ型半
導体装置の該外部接続端子を、回路基板上に設けられた
接続電極に接続する半導体装置の基板接続構造において
、前記外部接続端子と前記接続電極のいずれか一方を凹
形形状に、いずれか他方を凸形形状にして両凹、凸形形
状間を係合した後、半田付は等で接続するようにしたも
のである。
納されたパッケージの底面に、該半導体素子と接続され
た外部接続端子が設けられたリードレスパッケージ型半
導体装置の該外部接続端子を、回路基板上に設けられた
接続電極に接続する半導体装置の基板接続構造において
、前記外部接続端子と前記接続電極のいずれか一方を凹
形形状に、いずれか他方を凸形形状にして両凹、凸形形
状間を係合した後、半田付は等で接続するようにしたも
のである。
(作 用)
本発明によれば、以上のように半導体装置の基板接続構
造を構成したので、例えば凹形形状の外部接続端子と凸
形形状の接続電極とは相互に嵌合するように働き、また
半導体装置の底面と回路基板の表面との間をわずかに引
き離すように動く。
造を構成したので、例えば凹形形状の外部接続端子と凸
形形状の接続電極とは相互に嵌合するように働き、また
半導体装置の底面と回路基板の表面との間をわずかに引
き離すように動く。
これによって外部接続端子を接続電極へ簡易的確に接続
しうる。従って前記問題点を除去できるので必る。
しうる。従って前記問題点を除去できるので必る。
(実施例〉
第1図は本発明の実施例を示すリードレスパッケージ型
半導体装置の基板接続構造の断面図、第4図は第1図の
要部拡大図である。
半導体装置の基板接続構造の断面図、第4図は第1図の
要部拡大図である。
この実施例の半導体装置10は、例えば従来と同様に3
層のセラミック層の積層構造からなるセラミック製パッ
ケージ11を有し、そのパッケージ11のキャビティ1
2内にはメタライズ層からなる素子搭載部13が形成さ
れ、ざらにその素子搭載部13の周囲には外部引出し用
の導電性金属層14、その金属層14に接続されたスル
ーホール導体15、及びその導体15に接続された外部
接続端子16が設けられている。
層のセラミック層の積層構造からなるセラミック製パッ
ケージ11を有し、そのパッケージ11のキャビティ1
2内にはメタライズ層からなる素子搭載部13が形成さ
れ、ざらにその素子搭載部13の周囲には外部引出し用
の導電性金属層14、その金属層14に接続されたスル
ーホール導体15、及びその導体15に接続された外部
接続端子16が設けられている。
ここで、積層構造のセラミック製パッケージ11は、セ
ラミックシートを所定の形状に打ち抜いて3枚のセラミ
ック層を作り、それら各セラミック層を積層状態に貼り
付けた後、焼成する等の方法で作られている。素子搭載
部13及び導電性金属層14は、セラミック層にタング
ステン、モリブデン等のメタライズ金属を形成した後、
その金属の表面に保護膜としてニッケルメッキ等の表面
処理を行い、ざらに例えばA11−si共晶接続を行う
ために金メッキを施しておる。この金メッキは素子搭載
部13、及び導電性金属層14のキャビティ12内の部
分だけでよい。導電性金属層14に接続されたスルホー
ル導体15は、通常用いられるスルホール導体形成方法
等により形成される。
ラミックシートを所定の形状に打ち抜いて3枚のセラミ
ック層を作り、それら各セラミック層を積層状態に貼り
付けた後、焼成する等の方法で作られている。素子搭載
部13及び導電性金属層14は、セラミック層にタング
ステン、モリブデン等のメタライズ金属を形成した後、
その金属の表面に保護膜としてニッケルメッキ等の表面
処理を行い、ざらに例えばA11−si共晶接続を行う
ために金メッキを施しておる。この金メッキは素子搭載
部13、及び導電性金属層14のキャビティ12内の部
分だけでよい。導電性金属層14に接続されたスルホー
ル導体15は、通常用いられるスルホール導体形成方法
等により形成される。
また、スルホール導体15に接続された外部接続端子1
6は、パッケージ11の底面に位置し、凹形形状、例え
ば断面略V字状に形成された端子である。
6は、パッケージ11の底面に位置し、凹形形状、例え
ば断面略V字状に形成された端子である。
この外部接続端子16は、例えば予めパッケージ底面に
断面略V字状の凹部を形成し、そこにメタライズ金属を
形成した後、ざらにソルダリングメタル(半田付は金属
)と相容性の金、半田、錫、鉛、ニッケル・錫合金等の
メッキ処理が施されている。
断面略V字状の凹部を形成し、そこにメタライズ金属を
形成した後、ざらにソルダリングメタル(半田付は金属
)と相容性の金、半田、錫、鉛、ニッケル・錫合金等の
メッキ処理が施されている。
キャビティ12内の素子搭載部13上には、半導体素子
17が例えばAU−s:共晶で接着され、その半導体素
子17の表面外部導出電極か金属細線18により導電性
金属層14と接続されている。なあ、半導体素子17の
接着は、A(]ペースト等の樹脂接着剤等を用いてもよ
い。キャビティ12の上端外周には諸部材19が接着さ
れ、該キャビティ12内が封止されている。蓋部材19
はパッケージ11と同一素材、おるいは金属、樹脂等で
作られており、Au−3n共晶、低融点ガラス、エポキ
シ接着材等によってパッケージ11の上端開口部に接着
されている。
17が例えばAU−s:共晶で接着され、その半導体素
子17の表面外部導出電極か金属細線18により導電性
金属層14と接続されている。なあ、半導体素子17の
接着は、A(]ペースト等の樹脂接着剤等を用いてもよ
い。キャビティ12の上端外周には諸部材19が接着さ
れ、該キャビティ12内が封止されている。蓋部材19
はパッケージ11と同一素材、おるいは金属、樹脂等で
作られており、Au−3n共晶、低融点ガラス、エポキ
シ接着材等によってパッケージ11の上端開口部に接着
されている。
一方、半導体装置10が実装されるガラスエポキシ樹脂
等からなる回路基板20上の外部接続端子16に対応す
る位置には、凸形形状、例えば半円球状の接続電極21
が、メッキ処理、すなわちバンプ形成方法や、半円球の
予め加工された電極を接着載置する方法、あるいは半円
球の突起ブロックをソルダリングする等の方法により、
形成されている。
等からなる回路基板20上の外部接続端子16に対応す
る位置には、凸形形状、例えば半円球状の接続電極21
が、メッキ処理、すなわちバンプ形成方法や、半円球の
予め加工された電極を接着載置する方法、あるいは半円
球の突起ブロックをソルダリングする等の方法により、
形成されている。
接続電極21の表面には、金メッキ、銀メッキ、半田メ
ッキ、錫メッキ、鉛メッキ等のメッキを施しておくと、
半導体装置10を実装する際に半田、錫、鉛等によって
ソルダリングする場合、相容性が必り好適で必る。
ッキ、錫メッキ、鉛メッキ等のメッキを施しておくと、
半導体装置10を実装する際に半田、錫、鉛等によって
ソルダリングする場合、相容性が必り好適で必る。
以上の構成において、回路基板20上の凸形形状の接続
電極21に、半導体装置10の凹形形状の外部接続端子
16を接続するには、接続電極21上から外部接続端子
16を嵌合させた後、半田付は等によって接続電極21
に外部接続端子16を接続すればよい。
電極21に、半導体装置10の凹形形状の外部接続端子
16を接続するには、接続電極21上から外部接続端子
16を嵌合させた後、半田付は等によって接続電極21
に外部接続端子16を接続すればよい。
この実施例では、外部接続端子16を接続電極21上に
嵌合ざぜて両者間を接続するため、実装時にあける半導
体装置10の位置決めか容易になると共に、ソルダリン
グ後の位置ずれを防止できる。また、接続電極21が半
円球形の場合、半導体装置10の実装が容易でおるばか
りか、ソルダリング性が向上し、ざらに外部接続端子1
6との接着面積も広くなって、接続強度が向上する。ざ
らに、角がないので、ソルダリング後のフラックス等の
洗浄性もよい。
嵌合ざぜて両者間を接続するため、実装時にあける半導
体装置10の位置決めか容易になると共に、ソルダリン
グ後の位置ずれを防止できる。また、接続電極21が半
円球形の場合、半導体装置10の実装が容易でおるばか
りか、ソルダリング性が向上し、ざらに外部接続端子1
6との接着面積も広くなって、接続強度が向上する。ざ
らに、角がないので、ソルダリング後のフラックス等の
洗浄性もよい。
第5図は本発明の他の実施例を示すリードレスパッケー
ジ型半導体装置の基板接続構造の断面図、第6図は第5
図の要部拡大図でおる。
ジ型半導体装置の基板接続構造の断面図、第6図は第5
図の要部拡大図でおる。
この実施例が第1図及び第4図のものと胃なる点は、第
1図等のスルホール導体15に代えて、パッケージ11
の側面に導電性金属層15−1を形成し、この金属層1
5−1により導電性金属層14と外部接続端子16とを
接続したことでおる。このような、構造にすれば、導電
性金属層15−1の形成が容易になるばかりか、上記実
施例と略同様の利点が得られる。
1図等のスルホール導体15に代えて、パッケージ11
の側面に導電性金属層15−1を形成し、この金属層1
5−1により導電性金属層14と外部接続端子16とを
接続したことでおる。このような、構造にすれば、導電
性金属層15−1の形成が容易になるばかりか、上記実
施例と略同様の利点が得られる。
なお、本発明は図示の実施例に限定されず、種々の変形
が可能である。その変形例としては、例えば次のような
ものがある。
が可能である。その変形例としては、例えば次のような
ものがある。
(1) パッケージ11は熱可塑性樹脂等で、中空形あ
るいは充填形に一体成形することもできる。
るいは充填形に一体成形することもできる。
これにより、パッケージの製造工数とコストの低減化が
計れる。
計れる。
(百) 外部接続端子16は、断面略V字状以外に、略
U字状、半円弧状、放物線状等、種々の形状に変形でき
るばかりか、それに応じて接続電極21の形状も、半円
球以外に、多角柱等の他の形状に変形できる。
U字状、半円弧状、放物線状等、種々の形状に変形でき
るばかりか、それに応じて接続電極21の形状も、半円
球以外に、多角柱等の他の形状に変形できる。
(iii ) 外部接続端子16を凸形形状にすると
共に、接続電極を凹形形状にすることもでき、これによ
り図示の実施例と略同様の利点が得られる。
共に、接続電極を凹形形状にすることもでき、これによ
り図示の実施例と略同様の利点が得られる。
(発明の効果)
以上詳細に説明したように、本発明によれば、外部接続
端子と接続電極の一方を凹形形状に、他方を凸形形状に
したので、両者を嵌合して接続でき、これにより半導体
装置の実装時において位置決めが容易になると共に、位
置ずれが防止できる。
端子と接続電極の一方を凹形形状に、他方を凸形形状に
したので、両者を嵌合して接続でき、これにより半導体
装置の実装時において位置決めが容易になると共に、位
置ずれが防止できる。
ざらに両者の接着面積が広くなって接続強度が向上する
と共に、ソルダリンダ後のフラックス等の洗浄性も向上
する等、信頼性が著しく向上する。
と共に、ソルダリンダ後のフラックス等の洗浄性も向上
する等、信頼性が著しく向上する。
第1図は本発明の実施例を示す縦断面図、第2図及び第
3図は従来の半導体装置の縦断面図、第4図は第1図の
要部拡大図、第5図は本発明の弛の実施例を示す縦断面
図、第6図は第5図の要部拡大図である。 10・・・・・・半導体装置、11・・・・・・パッケ
ージ、16・・・・・・外部接続端子、17・・・・・
・半導体素子、1つ・・・・・・蓋部材、20・・・・
・・回路基板、21・・・・・・接続電極。 出願人代理人 柿 本 恭 成:Q−t−@体
表1 本発已月の字【庚iタリ 第1図 従来の半導体装置 第2図 従来の他○f−導体装置 第3図 第1図O要郁拡大図 第4図
3図は従来の半導体装置の縦断面図、第4図は第1図の
要部拡大図、第5図は本発明の弛の実施例を示す縦断面
図、第6図は第5図の要部拡大図である。 10・・・・・・半導体装置、11・・・・・・パッケ
ージ、16・・・・・・外部接続端子、17・・・・・
・半導体素子、1つ・・・・・・蓋部材、20・・・・
・・回路基板、21・・・・・・接続電極。 出願人代理人 柿 本 恭 成:Q−t−@体
表1 本発已月の字【庚iタリ 第1図 従来の半導体装置 第2図 従来の他○f−導体装置 第3図 第1図O要郁拡大図 第4図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 半導体素子が収納されたパッケージの底面に、該半導体
素子と接続された外部接続端子が設けられた半導体装置
の該外部接続端子を、回路基板上に設けられた接続電極
に接続する半導体装置の基板接続構造において、 前記外部接続端子と前記接続電極のいずれか一方を凹形
形状に、いずれか他方を凸形形状にして両凹、凸形形状
間を係合接続することを特徴とする半導体装置の基板接
続構造。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12948986A JPS62286260A (ja) | 1986-06-04 | 1986-06-04 | 半導体装置の基板接続構造 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12948986A JPS62286260A (ja) | 1986-06-04 | 1986-06-04 | 半導体装置の基板接続構造 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62286260A true JPS62286260A (ja) | 1987-12-12 |
Family
ID=15010742
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12948986A Pending JPS62286260A (ja) | 1986-06-04 | 1986-06-04 | 半導体装置の基板接続構造 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62286260A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04206650A (ja) * | 1990-11-30 | 1992-07-28 | Agency Of Ind Science & Technol | マザーボードとチップキャリアの接続方法 |
JP2006237142A (ja) * | 2005-02-23 | 2006-09-07 | Sumitomo Metal Electronics Devices Inc | セラミック基板及びその製造方法 |
CN102194763A (zh) * | 2010-03-09 | 2011-09-21 | 住友金属矿山株式会社 | 半导体元件搭载用基板及其制造方法 |
-
1986
- 1986-06-04 JP JP12948986A patent/JPS62286260A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04206650A (ja) * | 1990-11-30 | 1992-07-28 | Agency Of Ind Science & Technol | マザーボードとチップキャリアの接続方法 |
JP2006237142A (ja) * | 2005-02-23 | 2006-09-07 | Sumitomo Metal Electronics Devices Inc | セラミック基板及びその製造方法 |
CN102194763A (zh) * | 2010-03-09 | 2011-09-21 | 住友金属矿山株式会社 | 半导体元件搭载用基板及其制造方法 |
TWI500122B (zh) * | 2010-03-09 | 2015-09-11 | Sh Materials Co Ltd | 半導體元件搭載用基板及其製造方法 |
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