JPS62283632A - ウエハ処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ３、発明の詳細な説明 ［発明の目的］ （発明の技術分野） 本発明は、ウェハの洗浄、乾燥を行なうウェハ処理装置
に改良に関する。

（従来の技術） 従来、半導体集積回路製造ライン内の半導体ウェハ薬品
処理工程において、半導体ウェハを薬品洗浄、流水洗浄
、乾燥を順次行なう際、薬品洗浄は第３図に示す装置を
用いて行われる。図中の１は、薬品２を収容した薬品洗
浄槽である。この薬品洗浄槽１内にはキャリア３が浸漬
され、該キャリア３には複数枚のウェハ４・・・が立設
されている。このようにウェハ４・・・を薬品洗浄槽１
内に浸漬した状態でウェハ４・・・の薬品処理を行なっ
ていた。

しかしながら、こうした洗浄手段によれば、つ１ハ３・
・・が静止した状態で薬品洗浄されるため、ウェハ４・
・・の表面、キャリア１等に付着した気泡５が除去され
ない。従って、＾い薬品洗浄効果が期待できない。

そこで、薬品洗浄槽１内のキャリア３を人手により揺す
る等の作業により、気泡５を取除くことにより洗浄効果
を高める事が考えられる。しかし、この方法は揺すりが
人手によるため、作業性が悪いとともに薬品処理後のウ
ェハ４にムラが出来るという不都合が生じる。

次に、薬品洗浄したウェハ４は、第４図に′ＪＡｌ″に
より流水洗浄される。図中の１１は、水洗浄槽である。

この水洗浄槽１１の底部側には小孔１２・・・を有した
多孔板１３が設けられ、この多孔板１３により前記水洗
浄槽１１の底部側に洗浄水供給部屋が形成される。この
部屋には、洗浄水流人口１４から洗浄水１５が供給され
る。前記多孔板１３上にはキャリア３が載置され、この
キャリア３には薬品洗浄を終了した複数枚のウェハ４・
・・が立設されている。こうした構造の装置において、
複数枚のウェハ４・・・が立設されたキャリア３を多孔
板１３上に載置した状態で、まず洗浄流入口１４より洗
浄水１５を水洗浄槽１１の底部側の部屋に流入させる。

流入した洗浄水１５は、多孔板１３の複数の小孔１２よ
り水洗浄槽１１の上方に供給され、ウェハ４・・・の洗
浄が行われる。しかしながら、こうした洗浄手段によれ
ば、薬品洗浄の場合と同様、ウェハ４の表面やキャリア
３に付着した気泡５が除去されない。また、洗浄水１５
の流速が遅く、高い洗浄効果が期待できない。そこで、
前述したように水洗浄槽内でキャリア３を人手より揺す
ることが考えられるが、作業性の低下と製品むらをもた
らす。

次いで、乾燥については、従来洗浄槽と乾燥装置が分れ
ている。従って、各処理へのキャリア移動が多く、人手
を要し、移動中のアクシデント、汚染をもたらすととも
に、スペース的問題で作業性が悪く製品むらをもたらす
。

（発明が解決しようとする問題点） 本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、ウェハの洗
浄効果を大幅に向上するとともに、流水洗浄後直ぐに乾
燥ができ汚染の減少、省力化、洗浄むらの減少等が達成
できるウェハ処理装置を提供することを目的とする。

［発明の構成〕 （問題点を解決するための手段） 本発明は、複数枚のウェハを洗浄、乾燥する処理槽と、
この処理槽の上方に配置され前記ウェハを支持するキャ
リアと、このキャリアを処理槽内で回転させる回転機構
と、前記キャリアを処理槽に対して上下動させる上下機
構とからなり、前記キャリアを回転、上下動させながら
前記ウェハの洗浄及び乾燥を前記処理攪内で行なうこと
を特徴とし、ウェハの洗浄効果の大幅な増大と、汚染の
減少、省力化、洗浄むらの減少等をなしえる。

（作用） 本発明によれば、回転機構及び上下動曙構によりウェハ
をセットしたキャリアを回転、上下動させながらウェハ
の洗浄及び乾燥を同一の処理槽内で行なうことができる
ため、ウェハの洗浄効果を従来と比べ大幅に向上できる
。また、洗浄後のウェハを直ちに乾燥できるため、従来
と比べ汚染の減少、省力化、洗浄むらの減少等なしえる
。

（実施例） 以下、本発明の一実施例を第１図及び第２図を参照して
説明する。ここで、第１図は本発明に係るウェハ処理装
置の一部断面で示す壷面図、第２図、よ間装！ｔ、）一
部断つ、示山図、あ、。

図中の２１は、上部が開口した処理槽である。

この処理槽２１の上部には洗浄水入口２２が設けられ、
かつ処理槽２１の底部には排水口２３が設けられている
。前記処理槽２１の上方には、側部にブー９２４を有し
たキャリア２５が配置されている。このキャリア２５に
は、複数枚のウェハ２６・・・が一定間隔で立設されて
いる。前記キャリア２５は、電動駆動ＩＩ（回転ｍ構）
２７により、プーリ２８、ベルト２９及びプーリ２４を
介して矢印Ａ、Ｂ方向に回転するようになっている。ま
た、キャリア２５はエアー駆動機構（上下機構）３０に
より、矢印Ｃ％Ｄ方向に上下動するようになっている。

この上下機構３０により、キャリア２５を高位置、低位
置に保持、洗浄槽内での上下移動繰返しの３通りの動作
を行なう。なお。図中の３１はキャリア２５を上下動す
る為のシリンダー保持部、３２はキャリア２５の支持兼
処理槽カバーを示す。

次に、上記構造の処理装置の動作について説明する。

■まず、洗浄水入口２２より処理槽２１内に薬品を投入
する。薬品が定量になり、前記回転機構２７、上下機構
３０に’１！１１を投入すると、キャリア２５が処理槽
２１内の低位置に固定され低速で回転する。この回転に
より、ウェハ２６に付着した気泡は確実に取り除かれ、
高い“洗浄効果をもって薬品洗浄ができる。

■薬品洗浄が終了したら、排水口２３を開き薬品を排出
し、洗浄水入口２２から洗浄水を流入させる。そして、
排水口２３を閉じ、洗浄水を処理槽２１の上部開口部よ
り槽外へ排出する。この際、キャリア２５の回転を低速
から中速へ変え、また上下揺動し流水洗浄する。キャリ
ア２５の回転及び揺動により、ウェハ２６に付着した気
泡は迅速かつ確実に取り除かれ、ウニ八表面上における
洗浄水の流速が早くなる。その結果、非常に高い流、　
　水洗浄効果をもってウェハ２６を流水洗浄できる。

■流水洗浄が終了したら、直ぐに洗浄水を全く排水し、
キャリア２５を高速で回転してウェハ２６の水切乾燥を
行なう。以上より、洗浄むらのない安定した高品質な製
品を得ることができる。

上記実Ｓ例によれば、回転機構２７、上下機構３０によ
り、ウェハ２６をセットしたキャリア２５を回転、上下
動させなからウェハ２６の洗浄及び乾燥を同一の処理槽
２１内で行なうことができる構造となっているため、ウ
ェハ２６の洗浄効果を大幅に向上できる。また、流水洗
浄したウェハを直ちに乾燥できるため、従来のようにキ
ャリアを各処理へ移動する必要もなく、汚染の減少、省
力化、洗浄むらの減少等をなしえる。

なお、上記実施例では、ウェット薬品でウェハを処理し
たが、これに限らず、ガスで処理を行なってもよい。

［発明の効果］ 以上詳述した如く本発明によれば、ウェハの洗浄効果を
大幅に向上するとともに、汚染の減少、省力化、洗浄む
らの減少等をなしえるウェハ処理装置を提供できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例に係るウェハ処理装置の一部
断面で示す正面図、第２図は同装置の一部断面で示す側
面図、第３図は従来の薬品処理用の装置の断面図、第４
図は従来の洗浄処理用の装置の断面図である。 ２１・・・処理槽、２２・・・洗浄水入口、２３・・・
排水口、２４．２８・・・プーリ、２５・・・キャリア
、２６・・・ウェハ、２７・・・回転機構、２９・・・
ベルト、３゜・・・回転機構、３１・・・シリンダー保
持部、３２・・・支持兼処理槽カバー。 出願人代理人　弁理士　鈴江武彦 第１図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 複数枚のウェハを洗浄、乾燥する処理槽と、この処理槽
   の上方に配置され前記ウェハを支持するキャリアと、こ
   のキャリアを処理槽内で回転させる回転機構と、前記キ
   ャリアを処理槽に対して上下動させる上下機構とからな
   り、前記キャリアを回転、上下動させながら前記ウェハ
   の洗浄及び乾燥を前記処理槽内で行なうことを特徴とす
   るウェハ処理装置。