JPS6227539A - 非晶質金属細線 - Google Patents
非晶質金属細線Info
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- JPS6227539A JPS6227539A JP60166560A JP16656085A JPS6227539A JP S6227539 A JPS6227539 A JP S6227539A JP 60166560 A JP60166560 A JP 60166560A JP 16656085 A JP16656085 A JP 16656085A JP S6227539 A JPS6227539 A JP S6227539A
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- JP
- Japan
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- alloy
- amorphous
- wire
- magnetic field
- bias magnetic
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C45/00—Amorphous alloys
- C22C45/04—Amorphous alloys with nickel or cobalt as the major constituent
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、Co系非晶質合金が有する低磁歪。
高透磁率、高飽和磁束密度の優れた性質を維持しながら
、バイアス磁場に対して安定な性質を有し。
、バイアス磁場に対して安定な性質を有し。
断面が円形な非晶質金属細線に関するものである。
(従来の技術)
非晶質磁性合金材料は、その材料の優れた電磁気特性か
ら種々の実用化研究が進められている。
ら種々の実用化研究が進められている。
特にCo−Fe−5i−B系非晶質合金は、特定の組成
をとることによって極めて低い磁歪を実現できるため、
磁気ヘッド、磁気センサー等の構成材料としての期待が
大きく、さらに透磁率、磁束密度等を向上させるために
、Co−Fe−3i−B系非晶質合金に各種の元素を添
加して電磁特性を改善することが盛んに行われている。
をとることによって極めて低い磁歪を実現できるため、
磁気ヘッド、磁気センサー等の構成材料としての期待が
大きく、さらに透磁率、磁束密度等を向上させるために
、Co−Fe−3i−B系非晶質合金に各種の元素を添
加して電磁特性を改善することが盛んに行われている。
例えば、Nb、Ni、■。
7a+Ti+Zr+Cr+Mo+W等の元素を適当量添
加して透磁率を向上させたリボン状の非晶質合金がある
(特開昭54−72715号公報、特開昭54−899
18号公報、特開昭54−107826号公報、特開昭
54−1(17827号公報、特開昭57−13137
号公報及び特開昭58−31053号公報参照)。
加して透磁率を向上させたリボン状の非晶質合金がある
(特開昭54−72715号公報、特開昭54−899
18号公報、特開昭54−107826号公報、特開昭
54−1(17827号公報、特開昭57−13137
号公報及び特開昭58−31053号公報参照)。
一方、断面が円形なCo系非晶質金属細線としては、特
開昭57−79052号公報がある。この公報には、真
円度が90%以上で、線径斑が4%以下の非常に均一な
形状を有する高品質の金属細線が記載されている。
開昭57−79052号公報がある。この公報には、真
円度が90%以上で、線径斑が4%以下の非常に均一な
形状を有する高品質の金属細線が記載されている。
(発明が解決しようとする問題点)
従来のCo系非晶質金属1例えば前記した特開昭54−
107827号公報に記載されている( COo、qz
Feo、obTao、oz)tssi+oB+sからな
る組成、及び特開昭58−31053号公報に記載され
ている( Coo、 q+ Feo、 o6Nbo、
o:+)t7s i+sB sからなる組成等で本発明
者らが2片ロール法を用いて非晶質金属リボン材を作製
したところ、低磁歪、高透磁率、高飽和磁束密度であっ
たが、バイアス磁場が印加されると透磁率が急激に低下
した。
107827号公報に記載されている( COo、qz
Feo、obTao、oz)tssi+oB+sからな
る組成、及び特開昭58−31053号公報に記載され
ている( Coo、 q+ Feo、 o6Nbo、
o:+)t7s i+sB sからなる組成等で本発明
者らが2片ロール法を用いて非晶質金属リボン材を作製
したところ、低磁歪、高透磁率、高飽和磁束密度であっ
たが、バイアス磁場が印加されると透磁率が急激に低下
した。
すなわち、Co−Fe−Ta−3i−B系合金、 C
o−Fe−Nb 5i−B系合金などの溶湯を銅等の熱
伝導度の大きな材料からなる回転冷却ロールに噴出し、
厚さ約5〜100μm2幅2〜100鰭の非晶質金属リ
ボン材を作製したところ、この非晶質金属リボン千オは
、バイアス磁場の影響を受け、透磁率の低下が著しかっ
た。
o−Fe−Nb 5i−B系合金などの溶湯を銅等の熱
伝導度の大きな材料からなる回転冷却ロールに噴出し、
厚さ約5〜100μm2幅2〜100鰭の非晶質金属リ
ボン材を作製したところ、この非晶質金属リボン千オは
、バイアス磁場の影響を受け、透磁率の低下が著しかっ
た。
このように、バイアス磁場により透磁率が低下するリボ
ン材は1例えば、座標読取装置に適用すると、東西南北
の方角の相違による地磁気の影響及び計器付近の着磁体
による影宮等、微弱なバイアス磁場によって得られる信
号が急激に弱くなるため、実用に供することはできなか
った。
ン材は1例えば、座標読取装置に適用すると、東西南北
の方角の相違による地磁気の影響及び計器付近の着磁体
による影宮等、微弱なバイアス磁場によって得られる信
号が急激に弱くなるため、実用に供することはできなか
った。
一方、特開昭57−79052号公報に記載されている
Co系非晶質金属細線は、電磁特性、耐食性等に優れて
いるが、これもバイアス磁場により透磁率が低下し2例
えば、前記した座標読取装置用の材料としては不充分で
あった。
Co系非晶質金属細線は、電磁特性、耐食性等に優れて
いるが、これもバイアス磁場により透磁率が低下し2例
えば、前記した座標読取装置用の材料としては不充分で
あった。
(問題点を解決するための手段)
そこで本発明者らは、これらの現状に鑑み、 C。
系非晶質合金が有する低磁歪、高透磁率、高飽和磁束密
度を維持しながら、バイアス磁場の影響を受けにくい非
晶質磁性合金材料を提供することを目的として鋭意研究
した結果、特定の組成を有するCo−Fe−S i−B
系の合金組成に特定量のN b + T a +Pd、
Pt、Cuを添加し、断面を円形にすると、上記の目的
が達成される非晶質金属細線が得られるという事実、及
び得られた細線がバイアス磁場に対して安定であり、し
かも透磁率を向上させ、飽和磁束密度を下げないとい・
う優れた性質を有するという事実を見い出し1本発明に
到達したものである。
度を維持しながら、バイアス磁場の影響を受けにくい非
晶質磁性合金材料を提供することを目的として鋭意研究
した結果、特定の組成を有するCo−Fe−S i−B
系の合金組成に特定量のN b + T a +Pd、
Pt、Cuを添加し、断面を円形にすると、上記の目的
が達成される非晶質金属細線が得られるという事実、及
び得られた細線がバイアス磁場に対して安定であり、し
かも透磁率を向上させ、飽和磁束密度を下げないとい・
う優れた性質を有するという事実を見い出し1本発明に
到達したものである。
すなわち1本発明は組成式
%式%
(但し1MはNb、 Ta、 Pd、 P t、 Cu
のうちの少なぐとも1種の元素で、X<20原子%、7
原子%≦Y≦35原子%、7原子%<X+Y≦35原子
%、 0.01≦a≦0.1. O,0C1)≦b≦0
,05である。)で示される組成よりなり、バイアス磁
場に対して安定な性質を有し、断面が円形な非晶質金属
細線である。
のうちの少なぐとも1種の元素で、X<20原子%、7
原子%≦Y≦35原子%、7原子%<X+Y≦35原子
%、 0.01≦a≦0.1. O,0C1)≦b≦0
,05である。)で示される組成よりなり、バイアス磁
場に対して安定な性質を有し、断面が円形な非晶質金属
細線である。
本発明の非晶質金属細線は、低磁歪、高透磁率。
高飽和磁束密度を有し、バイアス磁場の影響を受けにく
い、靭性の優れた材料であり2その合金組成は上記の特
性を満足するために以下のように限定することが必要で
ある。
い、靭性の優れた材料であり2その合金組成は上記の特
性を満足するために以下のように限定することが必要で
ある。
すなわち、Si とBの総和は7原子%を超え。
35原子%以下であることが必要で、15原子%以上、
32原子%以下であることが好ましい。SiとBの総和
が7原子%以下、あるいは35原子%を超えると、非晶
質単相の金属細線は得られず1靭性に乏しくなり、後加
工の段階で大きな問題を生じ、工業的に好ましくない。
32原子%以下であることが好ましい。SiとBの総和
が7原子%以下、あるいは35原子%を超えると、非晶
質単相の金属細線は得られず1靭性に乏しくなり、後加
工の段階で大きな問題を生じ、工業的に好ましくない。
また、上記したようなSi とBの総和の適正量範囲内
であっても、Siは20原子%未満であることが必要で
、7.5原子%以上、17.5原子%以下であることが
好ましい。Siの量が20原子%以上の場合には、非晶
質単相の金属細線は得られず、靭性に乏しくなる。同様
に、Bに関しても7原子%以上で35原子%未満である
ことが必要で。
であっても、Siは20原子%未満であることが必要で
、7.5原子%以上、17.5原子%以下であることが
好ましい。Siの量が20原子%以上の場合には、非晶
質単相の金属細線は得られず、靭性に乏しくなる。同様
に、Bに関しても7原子%以上で35原子%未満である
ことが必要で。
7.5原子%以上で25原子%以下であることが好まし
い。Bの量が7原子%未満あるいは35原子%以上であ
ると、靭性に乏しくなる。
い。Bの量が7原子%未満あるいは35原子%以上であ
ると、靭性に乏しくなる。
次に、CoとFeとMの総和を1とした場合、 Fe
の比率は0.01以上0.1以下であることが必要であ
る。Feiが0.1を超えた場合は、磁歪は正に大きく
なり、またFeが0.01未満の場合は、磁歪は負に大
きくなる。
の比率は0.01以上0.1以下であることが必要であ
る。Feiが0.1を超えた場合は、磁歪は正に大きく
なり、またFeが0.01未満の場合は、磁歪は負に大
きくなる。
また1Mに関してはNb、 Ta、 Pd、 P t、
Cuのうちの少なくとも1種の元素で、 0.00
1以上で0.05以下であることが必要で、 0.0
03以上で0.04以下であることが好ましい。0.0
5を超えると、靭性は極めて低下し、脆くなり実用に供
さず、 0.001未満では、添加元素の効果はみら
れず、バイアス磁場の影響により透磁率の低下が大きく
なる。さらに本発明の細線には5通常の工業材料中に存
在する程度の不純物が含まれていてもよい。
Cuのうちの少なくとも1種の元素で、 0.00
1以上で0.05以下であることが必要で、 0.0
03以上で0.04以下であることが好ましい。0.0
5を超えると、靭性は極めて低下し、脆くなり実用に供
さず、 0.001未満では、添加元素の効果はみら
れず、バイアス磁場の影響により透磁率の低下が大きく
なる。さらに本発明の細線には5通常の工業材料中に存
在する程度の不純物が含まれていてもよい。
本発明の細線を製造するのには、前記合金組成を用い、
製造法として特に好ましい回転液中紡糸法により急冷固
化させればよい。回転液中紡糸法としては、特開昭56
−165016号公報や特開昭57−79052号公報
に記載されているように2回転ドラムの中に水を入れ、
遠心力でドラム内壁に水膜を形成させ、この水膜中に溶
融した合金を約80〜200czm径の紡糸ノズルより
噴出し1円形断面を有する細線を得る方法があげられる
。特に、均一な連続細線を得るには1回転ドラムの周速
度を紡糸ノズルより噴出される溶融金属流の速度と同速
度にするか、またはそれ以上にすることが望まれ、特に
回転ドラムの周速度を紡糸ノズルより噴出される溶融金
属流の速度よりも5〜30%速くすることが好ましい。
製造法として特に好ましい回転液中紡糸法により急冷固
化させればよい。回転液中紡糸法としては、特開昭56
−165016号公報や特開昭57−79052号公報
に記載されているように2回転ドラムの中に水を入れ、
遠心力でドラム内壁に水膜を形成させ、この水膜中に溶
融した合金を約80〜200czm径の紡糸ノズルより
噴出し1円形断面を有する細線を得る方法があげられる
。特に、均一な連続細線を得るには1回転ドラムの周速
度を紡糸ノズルより噴出される溶融金属流の速度と同速
度にするか、またはそれ以上にすることが望まれ、特に
回転ドラムの周速度を紡糸ノズルより噴出される溶融金
属流の速度よりも5〜30%速くすることが好ましい。
また、紡糸ノズルより噴出される溶融金属流とドラム内
壁に形成された水膜との角度は20°以上が好ましい。
壁に形成された水膜との角度は20°以上が好ましい。
本発明の細線は、線径が約50〜250μmであり、し
かも60%以上、好ましくは80%以上。
かも60%以上、好ましくは80%以上。
特に好ましくは90%以上の真円度を有し、好ましくは
線径斑が4%以下の均一な形状を有する細線である。
線径斑が4%以下の均一な形状を有する細線である。
本発明の非晶質金属細線は、低磁歪、高透磁率。
高飽和磁束密度を有し、靭性に優れ、かつバイアス磁場
による透磁率の低下のほとんどない材料である。例えば
1円形断面を有する高品質の(C。
による透磁率の低下のほとんどない材料である。例えば
1円形断面を有する高品質の(C。
o、qiFeo、oasNbo、oos)7z、ssi
+z、sB I5からなる非晶質磁性金属細線は、18
0°密着曲げが可能で靭性に優れ、磁場を200e印加
した時の磁束密度(Boo)は7.5KGであり9周波
数100KHzにおける透磁率(μm。。)も1940
と高く、磁歪もほとんど零であった。さらに、Hcも0
.0600eと従来の(Coo、 qa F eo、
Ob)?!、 S S Lz、 s B +s非晶質金
属細線のHco、0360eよりも大きく、バイアス磁
場による影響を受けに<<、磁気的に安定であった。と
ころが、同一組成である(COo、q:+Feo、 o
bsNbo、 005)7Z、 5 S i+z、 s
B +s非晶質リボン材では、靭性及びB2゜は上記
の同組成の本発明の非晶質金属細線と同程度であるが1
μm。。は950と低く、またHcも0.003Φeと
非常に小さいため。
+z、sB I5からなる非晶質磁性金属細線は、18
0°密着曲げが可能で靭性に優れ、磁場を200e印加
した時の磁束密度(Boo)は7.5KGであり9周波
数100KHzにおける透磁率(μm。。)も1940
と高く、磁歪もほとんど零であった。さらに、Hcも0
.0600eと従来の(Coo、 qa F eo、
Ob)?!、 S S Lz、 s B +s非晶質金
属細線のHco、0360eよりも大きく、バイアス磁
場による影響を受けに<<、磁気的に安定であった。と
ころが、同一組成である(COo、q:+Feo、 o
bsNbo、 005)7Z、 5 S i+z、 s
B +s非晶質リボン材では、靭性及びB2゜は上記
の同組成の本発明の非晶質金属細線と同程度であるが1
μm。。は950と低く、またHcも0.003Φeと
非常に小さいため。
地磁気等微弱なバイアス磁場にも影響を受け、透磁率が
大きく低下し1例えば座標読取装置等に用いる場合、得
られる信号が極めて小さくなる場合もあり、安定性が非
常に欠落していた。
大きく低下し1例えば座標読取装置等に用いる場合、得
られる信号が極めて小さくなる場合もあり、安定性が非
常に欠落していた。
(実施例)
以下2本発明を実施例により具体的に説明する。
実施例1〜16.比較例1〜23
表−1に示す各種組成からなるGo系合金をアルゴンガ
ス雰囲気中で溶融した後、アルゴンガス噴出圧4.5k
g/cnlで孔径0.13mmの石英ガラス製紡糸ノズ
ルにより、300rpmで回転している内径500−m
の円筒ドラム内に形成された温度4°C2深さ25宜璽
の冷却液中に噴出して急冷凝固させ。
ス雰囲気中で溶融した後、アルゴンガス噴出圧4.5k
g/cnlで孔径0.13mmの石英ガラス製紡糸ノズ
ルにより、300rpmで回転している内径500−m
の円筒ドラム内に形成された温度4°C2深さ25宜璽
の冷却液中に噴出して急冷凝固させ。
円形断面を有する直径120μmの連続した非晶質金属
細線を作製した。
細線を作製した。
このとき、紡糸ノズルと回転冷却液面との距離を3鰭に
保持し、紡糸ノズルより噴出された溶融金属流とその回
転冷却液面とのなす角は約65“であった。
保持し、紡糸ノズルより噴出された溶融金属流とその回
転冷却液面とのなす角は約65“であった。
また、比較のため2表−1に示す組成で、銅からなる回
転冷却ロールに噴出して、断面が偏平な非晶質合金(リ
ボン材)を作製した(比較例3゜4、1).12.17
.18)。
転冷却ロールに噴出して、断面が偏平な非晶質合金(リ
ボン材)を作製した(比較例3゜4、1).12.17
.18)。
得られた非晶質合金の電磁特性、180°密着曲げ性及
び形状について測定し、その結果を表−1にまとめて示
す。ここで、真円度として連続した細線の長さ方向を1
0点選び、その各点の断面の長径(R)と短径(r)と
の比r/Rx 100(%)の平均値で求めたものであ
り、また、線径斑としてレーザー線径測定機により細線
を50m走行させ、連続的な平均線径を測定させること
により得られた平均線径の変動率を求めたものである。
び形状について測定し、その結果を表−1にまとめて示
す。ここで、真円度として連続した細線の長さ方向を1
0点選び、その各点の断面の長径(R)と短径(r)と
の比r/Rx 100(%)の平均値で求めたものであ
り、また、線径斑としてレーザー線径測定機により細線
を50m走行させ、連続的な平均線径を測定させること
により得られた平均線径の変動率を求めたものである。
また、交流50Hzにおける保磁力Hc及び200eに
おける磁束密度B2゜の測定は、理研電子社製BHカー
ブトレーサーにより交流磁化曲線から行い。
おける磁束密度B2゜の測定は、理研電子社製BHカー
ブトレーサーにより交流磁化曲線から行い。
透磁率μ(10mΦe、100KHz)の測定は。
長さ40CTIの細線材またはリボン材試料をコイル中
に挿入し、YHP社製インピーダンスアナライザーを用
いて測定した。磁歪に関しては、成瀬科学機械社製磁歪
測定装置を用いて低磁歪であることを確認した。
に挿入し、YHP社製インピーダンスアナライザーを用
いて測定した。磁歪に関しては、成瀬科学機械社製磁歪
測定装置を用いて低磁歪であることを確認した。
表中でv)lで示されているバイアス磁場に対する安定
度は2次の様にして決定した。すなわち。
度は2次の様にして決定した。すなわち。
インピーダンスアナライザーを用いて、試料の繊維軸方
向にバイアス磁場を05eから0.46eまで連続的に
変化させながら透磁率μ(100K)lz)を測定し、
バイアス磁場−透磁率曲線から下記の弐を用いてバイア
ス磁場に対する透磁率の変化率V1.Iを算出した。
向にバイアス磁場を05eから0.46eまで連続的に
変化させながら透磁率μ(100K)lz)を測定し、
バイアス磁場−透磁率曲線から下記の弐を用いてバイア
ス磁場に対する透磁率の変化率V1.Iを算出した。
(μmo0)。;バイアス磁場の印加されていないとき
の透磁率 (μm。。)。、4;バイアス磁場が0.40e印加さ
れたときの透磁率 表−1より、実施例1. 2. 7. 8.1).12
は。
の透磁率 (μm。。)。、4;バイアス磁場が0.40e印加さ
れたときの透磁率 表−1より、実施例1. 2. 7. 8.1).12
は。
同組成の比較例3. 4.1).12.17.18と比
較して、■1の値は非常に小さいことが明らかである。
較して、■1の値は非常に小さいことが明らかである。
すなわち、同一組成の合金であっても非晶質金属リボン
材の場合は、■oの値が大きく、バイアス磁場に対する
安定性が本発明の円形断面である非晶質金属細線特有な
ものであることを示している。
材の場合は、■oの値が大きく、バイアス磁場に対する
安定性が本発明の円形断面である非晶質金属細線特有な
ものであることを示している。
また、実施例1〜16は、VnOD値が0.22〜0.
60であり、添加元素のない比較例1のVHの値2.0
1と比較して非常に小さく、バイアス磁場に対して非常
に安定していることを示している。例えば。
60であり、添加元素のない比較例1のVHの値2.0
1と比較して非常に小さく、バイアス磁場に対して非常
に安定していることを示している。例えば。
比較例1.実施例1.比較例3のバイアス磁場の影響に
よる透磁率の低下は、比較例1ではバイアス磁場のない
場合μm。。−1820であったものが、バイアス磁場
が0.40e印加されるとμm。。=286に低下した
。また、比較例3は、バイアス磁場のない場合μ、、0
−950であったものが。
よる透磁率の低下は、比較例1ではバイアス磁場のない
場合μm。。−1820であったものが、バイアス磁場
が0.40e印加されるとμm。。=286に低下した
。また、比較例3は、バイアス磁場のない場合μ、、0
−950であったものが。
バイアス磁場が0.40e印加されるとμm。。=90
に低下した。これらに対し実施例1は、バイアス磁場の
ない場合にはμm。。−1940であったものが、バイ
アス磁場が0.40e印加されてもμto。
に低下した。これらに対し実施例1は、バイアス磁場の
ない場合にはμm。。−1940であったものが、バイ
アス磁場が0.40e印加されてもμto。
=1580と透磁率の低下は極めて小さがった。
次に、比較例2. 8.10.14.16.20.22
は。
は。
組成が本発明の範囲外であるため、バイアスも〃場によ
る透磁率の低下が大きく、従ってVHの値も大きくなっ
ている。また、比較例5〜7. 9.13゜15、19
.21.23は9組成が本発明の範囲外であるため、靭
性に乏しく、iso”密着面げが不可能であった。中で
も比較例6.7.23は、非晶質相とはならず、結晶化
をおこし、脆く、軟磁性をも示さなかった。
る透磁率の低下が大きく、従ってVHの値も大きくなっ
ている。また、比較例5〜7. 9.13゜15、19
.21.23は9組成が本発明の範囲外であるため、靭
性に乏しく、iso”密着面げが不可能であった。中で
も比較例6.7.23は、非晶質相とはならず、結晶化
をおこし、脆く、軟磁性をも示さなかった。
(発明の効果)
本発明の非晶質金属細線は、低磁歪、高透磁率。
高飽和磁束密度であり、しかも靭性に優れ、バイアス磁
場に対して安定な性質を有している。そのため、従来適
用が困難であった座標読取装置、電流センサー、うず電
流センサー、磁気センサー。
場に対して安定な性質を有している。そのため、従来適
用が困難であった座標読取装置、電流センサー、うず電
流センサー、磁気センサー。
変位センサー等の電磁用材料として用いることができる
。
。
さらに本発明の非晶質金属細線は、耐食性、疲労特性に
も優れ、腐食性雰囲気あるいは歪のかかるような箇所に
おいても、その使用に何ら支障をきたさないという特長
も有している。
も優れ、腐食性雰囲気あるいは歪のかかるような箇所に
おいても、その使用に何ら支障をきたさないという特長
も有している。
Claims (1)
- (1)組成式 (Co_1_−_a_−_bFe_aM_b)_1_0
_0_−_X_−_YSi_XB_Y(但し、MはNb
、Ta、Pd、Pt、Cuのうちの少なくとも1種の元
素で、X<20原子%、7原子%≦Y<35原子%、7
原子%<X+Y≦35原子%、0.01≦a≦0.1、
0.001≦b≦0.05である。) で示される組成よりなり、バイアス磁場に対して安定な
性質を有し、断面が円形な非晶質金属細線。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60166560A JPH0651900B2 (ja) | 1985-07-26 | 1985-07-26 | 非晶質金属細線 |
CA000514392A CA1281561C (en) | 1985-07-26 | 1986-07-22 | Fine amorphous metallic wires |
EP86305696A EP0212863B1 (en) | 1985-07-26 | 1986-07-24 | Fine amorphous metallic wires |
DE8686305696T DE3662404D1 (en) | 1985-07-26 | 1986-07-24 | Fine amorphous metallic wires |
US06/889,709 US4657604A (en) | 1985-07-26 | 1986-07-28 | Fine amorphous metal wires |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60166560A JPH0651900B2 (ja) | 1985-07-26 | 1985-07-26 | 非晶質金属細線 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6227539A true JPS6227539A (ja) | 1987-02-05 |
JPH0651900B2 JPH0651900B2 (ja) | 1994-07-06 |
Family
ID=15833524
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60166560A Expired - Fee Related JPH0651900B2 (ja) | 1985-07-26 | 1985-07-26 | 非晶質金属細線 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0651900B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020090333A1 (ja) * | 2018-11-02 | 2020-05-07 | 愛知製鋼株式会社 | 磁気センサ用感磁ワイヤおよびその製造方法 |
US11579212B2 (en) | 2017-09-11 | 2023-02-14 | Aichi Steel Corporation | Magneto-sensitive wire for magnetic sensor and production method therefor |
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JPS5831053A (ja) * | 1981-08-18 | 1983-02-23 | Toshiba Corp | 非晶質合金 |
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1985
- 1985-07-26 JP JP60166560A patent/JPH0651900B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
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US12013447B2 (en) | 2018-11-02 | 2024-06-18 | Aichi Steel Corporation | Magneto-sensitive wire for magnetic sensors and production method therefor |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0651900B2 (ja) | 1994-07-06 |
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