JPS62271451A - ウエハ加工用フイルムの貼付け方法 - Google Patents
ウエハ加工用フイルムの貼付け方法Info
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- JPS62271451A JPS62271451A JP61113577A JP11357786A JPS62271451A JP S62271451 A JPS62271451 A JP S62271451A JP 61113577 A JP61113577 A JP 61113577A JP 11357786 A JP11357786 A JP 11357786A JP S62271451 A JPS62271451 A JP S62271451A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title description 24
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 5
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 abstract description 72
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 10
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 9
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 8
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 8
- -1 polypropylene Polymers 0.000 abstract description 8
- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 7
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 abstract description 6
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 abstract description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 abstract description 4
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 abstract description 4
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 abstract description 4
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 abstract 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 9
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 description 7
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 7
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 3
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 3
- 241000257465 Echinoidea Species 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910005540 GaP Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- HZXMRANICFIONG-UHFFFAOYSA-N gallium phosphide Chemical compound [Ga]#P HZXMRANICFIONG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920006149 polyester-amide block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 229920002725 thermoplastic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6835—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
- H01L21/6836—Wafer tapes, e.g. grinding or dicing support tapes
-
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- H01L2221/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
- H01L2221/67—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L2221/683—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L2221/68304—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
- H01L2221/68327—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used during dicing or grinding
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
3、発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体ウェハの表面にウェハ加工用フィルムを
貼付ける方法に関する。
貼付ける方法に関する。
半導体ウェハ表面にウェハ加工用フィルムな貼付ける場
合ウニR巾の粘着テープをウェハ表面に貼付け、その後
、ウェハの外周に刃物を当てがって粘着テープをウェハ
外周に沿って切断する方法、或いはウェハ形状に形成し
た粘着テープを貼着した離型性帯状体から粘着テープを
ウェハ表面に圧着せしめて接着する方法等がとられてい
る。
合ウニR巾の粘着テープをウェハ表面に貼付け、その後
、ウェハの外周に刃物を当てがって粘着テープをウェハ
外周に沿って切断する方法、或いはウェハ形状に形成し
た粘着テープを貼着した離型性帯状体から粘着テープを
ウェハ表面に圧着せしめて接着する方法等がとられてい
る。
しかしながらこのような方法の場合、粘着テープをウェ
ハ表面に圧着せしめるため表面に凹凸のあるウェハは破
損し易いという欠点がある。
ハ表面に圧着せしめるため表面に凹凸のあるウェハは破
損し易いという欠点がある。
粘着テープを貼付ける際のウェハ破損を防止するため従
来、ウェハ表面の凹凸をクッション効果のあるレジスト
インキ、パラフィン等で埋めた後、粘着テープを貼付け
ている。
来、ウェハ表面の凹凸をクッション効果のあるレジスト
インキ、パラフィン等で埋めた後、粘着テープを貼付け
ている。
しかしこの方法ではレジストインキ等を塗布した後の乾
燥固化、さらにはウェハ加工後に該レジストインキ等を
加熱下で溶剤を用いて洗浄、除去する工程が必要となり
操作が煩雑になるばかりでなく、有機溶剤を使用するた
め作業環境を悪化させろ欠点があり、又レジスト等の使
用にともないこれらによるウェハ表面の汚染の問題もあ
る。
燥固化、さらにはウェハ加工後に該レジストインキ等を
加熱下で溶剤を用いて洗浄、除去する工程が必要となり
操作が煩雑になるばかりでなく、有機溶剤を使用するた
め作業環境を悪化させろ欠点があり、又レジスト等の使
用にともないこれらによるウェハ表面の汚染の問題もあ
る。
本発明の目的は半導体ウェハ表面にウェハ加工用フィル
ムの貼付に際し、ウェハ表面に直接加工用フィルムを貼
付けてもウェハの破損が防止できさらに、生産性の向上
、作業環境の向上に寄与ししかもウェハ表面を汚染する
事のないウェハ加工用1オイルムの貼付は方法を提供す
ることにある。
ムの貼付に際し、ウェハ表面に直接加工用フィルムを貼
付けてもウェハの破損が防止できさらに、生産性の向上
、作業環境の向上に寄与ししかもウェハ表面を汚染する
事のないウェハ加工用1オイルムの貼付は方法を提供す
ることにある。
本発明者らはウェハ表面の凹凸を埋め、外力を分散させ
る方法として特定の硬度を有する基材フィルムを粘着層
を介してウェハ表面に貼付けることにより貼合せ時のウ
ェハ破損を防止できる事を見いだした。更に生産性を向
上させるためウェハ形状に形成したウェハ加工用フィル
ムを貼着した離型性帯状体を用いてウェハ表面に貼付け
る方法に際して、外力を分散できる特定の硬度を有する
基材フィルムだけでは、ウェハ表面に貼付ける際の作業
性が低下する事から特定の硬度を有する補助フィルムを
基材フィルムの粘着層配設面とは反対の面に積層する事
により、フィルム貼付は時のウェハ破損防止効果を低下
させる事なく貼付は作業性が大巾に向上される事を見い
だし本発明を完成した。
る方法として特定の硬度を有する基材フィルムを粘着層
を介してウェハ表面に貼付けることにより貼合せ時のウ
ェハ破損を防止できる事を見いだした。更に生産性を向
上させるためウェハ形状に形成したウェハ加工用フィル
ムを貼着した離型性帯状体を用いてウェハ表面に貼付け
る方法に際して、外力を分散できる特定の硬度を有する
基材フィルムだけでは、ウェハ表面に貼付ける際の作業
性が低下する事から特定の硬度を有する補助フィルムを
基材フィルムの粘着層配設面とは反対の面に積層する事
により、フィルム貼付は時のウェハ破損防止効果を低下
させる事なく貼付は作業性が大巾に向上される事を見い
だし本発明を完成した。
すなわち本発明は、ウェハ形状に形成したウェハ加工用
フィルムを貼着した離型性帯状体からウェハ加工用フィ
ルムを半導体ウェハ表面に圧着せしめて接着するに際し
ショアD型硬度が、40以下である基材フィルムの片側
表面上にショアD型硬度が40より大きい補助フィルム
が積層され、該基材フィルムの池方の表面上に粘着層が
配設されてなるウェハ加工用フィルムを用いることを特
徴とするウェハ加工用フィルムの貼付は方法である。
フィルムを貼着した離型性帯状体からウェハ加工用フィ
ルムを半導体ウェハ表面に圧着せしめて接着するに際し
ショアD型硬度が、40以下である基材フィルムの片側
表面上にショアD型硬度が40より大きい補助フィルム
が積層され、該基材フィルムの池方の表面上に粘着層が
配設されてなるウェハ加工用フィルムを用いることを特
徴とするウェハ加工用フィルムの貼付は方法である。
本発明の対象となるウェハは、シリコンウェハのみなら
ずガリウムーヒ素、ガリウム−リン、ゲルマニウム等の
ウェハが挙げられ、特に大口径のシリコンウェハに対し
て好適に使用される。
ずガリウムーヒ素、ガリウム−リン、ゲルマニウム等の
ウェハが挙げられ、特に大口径のシリコンウェハに対し
て好適に使用される。
本発明で用いる基材フィルムとしては、熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂、天然ゴムまたは合成ゴムを素材とするも
ので、ショアーD型硬度が40以下、好ましくはI以下
のものであれば各種のフィルムが適宜選択できる。ショ
アーD型硬度とは、ASTMD−2240によるD型シ
ョアー硬度計を用いて測定した値である。硬度が40を
越えるものの場合にはウェハに加わる外力を分散させる
能力が乏しく、ウェハ表面への貼付は時の破損を実質的
に防止できない。
熱硬化性樹脂、天然ゴムまたは合成ゴムを素材とするも
ので、ショアーD型硬度が40以下、好ましくはI以下
のものであれば各種のフィルムが適宜選択できる。ショ
アーD型硬度とは、ASTMD−2240によるD型シ
ョアー硬度計を用いて測定した値である。硬度が40を
越えるものの場合にはウェハに加わる外力を分散させる
能力が乏しく、ウェハ表面への貼付は時の破損を実質的
に防止できない。
基材フィルムの素材としては、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、ポリブタジェン、ポリウレタン、軟質塩化ビニ
ル樹脂、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリアミド等
の熱可塑性エラストマー;およびジエン系、ニトリル系
、シリコン系、アクリル系等の合成ゴム等が代表的に例
示される。該基材フィルムの厚みは、保護するウェハの
材質、形状、表面状態等より適宜選択されるが、通常1
0〜2000μm程度のものが適当である。
重合体、ポリブタジェン、ポリウレタン、軟質塩化ビニ
ル樹脂、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリアミド等
の熱可塑性エラストマー;およびジエン系、ニトリル系
、シリコン系、アクリル系等の合成ゴム等が代表的に例
示される。該基材フィルムの厚みは、保護するウェハの
材質、形状、表面状態等より適宜選択されるが、通常1
0〜2000μm程度のものが適当である。
一方、補助フィルムとしては、熱可塑性樹脂、熱硬化性
樹脂、あるいは合成樹脂をラミネートした紙、薄木板等
を素材とするもので、ショアーD型硬度が40を越えを
ものであれば各種のフィルムが適宜選択できる。硬度が
40以下のものでは補助フィルムの積層の目的が達成で
きず、貼合せ1時の作業性を改善することができない。
樹脂、あるいは合成樹脂をラミネートした紙、薄木板等
を素材とするもので、ショアーD型硬度が40を越えを
ものであれば各種のフィルムが適宜選択できる。硬度が
40以下のものでは補助フィルムの積層の目的が達成で
きず、貼合せ1時の作業性を改善することができない。
補助フィルムの素材としては、ポリエチレン、ポリプロ
ビレ/、ポリエステル、ポリアミド、硬質塩化ビニル樹
脂、ポリエーテルサルフオン、ポリアクリル、フェノー
ル樹脂等の合成樹脂、あるいはフェノール樹脂を含浸し
た紙、ポリエチレンをコーティングした紙等が代表的な
ものとして例示される。
ビレ/、ポリエステル、ポリアミド、硬質塩化ビニル樹
脂、ポリエーテルサルフオン、ポリアクリル、フェノー
ル樹脂等の合成樹脂、あるいはフェノール樹脂を含浸し
た紙、ポリエチレンをコーティングした紙等が代表的な
ものとして例示される。
該補助フィルムの厚みは、ウェハに加工用フィルムを貼
付ける機械の仕様により、また基材フィルムの厚みによ
り適宜選択されるが、通常、10〜1000μm程度の
ものが適当である。
付ける機械の仕様により、また基材フィルムの厚みによ
り適宜選択されるが、通常、10〜1000μm程度の
ものが適当である。
基材フィルムへの補助フィルムの積層方法としては、
■ 予め製造された基材フィルムと補助フィルムのいず
れか片方に接着剤を塗布して重ねて貼り合わせる方法。
れか片方に接着剤を塗布して重ねて貼り合わせる方法。
■ 2層Tダイもしくは2層インフレーションにより同
時押出しにより接着させる方法。
時押出しにより接着させる方法。
■ 予め製造された両方のフィルムの接着面にコロナ処
理して接着させる方法。
理して接着させる方法。
■ 予め製造された一方のフィルムに他方の樹脂をTダ
イ法もしくはカレンダー法により積層する方法。
イ法もしくはカレンダー法により積層する方法。
等従来公知の各種積層方法が採用できる。
基材フィルムの表面に設ける粘着層を構成する粘着剤と
しては、例えばアクリル系、エステル系、ウレタン系等
の粘着剤あるいは合成ゴム系粘着剤等の通常の市販され
ている粘着剤が使用できる。
しては、例えばアクリル系、エステル系、ウレタン系等
の粘着剤あるいは合成ゴム系粘着剤等の通常の市販され
ている粘着剤が使用できる。
粘着層の厚みは、ウェハの材質、形状、表面状態等によ
り適宜法められるが、通常、2〜200μm程度とする
のが好ましい。
り適宜法められるが、通常、2〜200μm程度とする
のが好ましい。
粘着剤を基材フィルム表面に積層する方法としては、従
来公知の各種塗布方法、例えばロールコータ−法、グラ
ビアロール法、バーコード法、浸漬法、ハケ塗り法、ス
プレー法等が採用でき、基材フィルムの全面もしくは部
分的に塗布することができる。
来公知の各種塗布方法、例えばロールコータ−法、グラ
ビアロール法、バーコード法、浸漬法、ハケ塗り法、ス
プレー法等が採用でき、基材フィルムの全面もしくは部
分的に塗布することができる。
実施例 1゜
ASTM D−2240に準じて測定したショアーD型
硬度がIであるエチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂フィ
ルム(200μm厚さ)とショアーD型硬度が釦のポリ
プロピレンフィルム(100μm厚さ)をアクリル系接
着剤“ポンロン″(三井東圧化学■製)を用いて接着積
層し、エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂フィルム面に
コロナ放電処理を施した後、アクリル系粘着剤″アロマ
テックス″(三井東圧化学■製)をロールコータ−機に
より塗布、乾燥して、約50μmのアクリル系粘着剤層
を設けたウェハ加工用フィルムを作成した。
硬度がIであるエチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂フィ
ルム(200μm厚さ)とショアーD型硬度が釦のポリ
プロピレンフィルム(100μm厚さ)をアクリル系接
着剤“ポンロン″(三井東圧化学■製)を用いて接着積
層し、エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂フィルム面に
コロナ放電処理を施した後、アクリル系粘着剤″アロマ
テックス″(三井東圧化学■製)をロールコータ−機に
より塗布、乾燥して、約50μmのアクリル系粘着剤層
を設けたウェハ加工用フィルムを作成した。
このウェハ加工用フィルムを第1図の如く台紙からなる
帯状体上に5インチ径のウェハ状に形成し、一定の間隔
で貼着した。
帯状体上に5インチ径のウェハ状に形成し、一定の間隔
で貼着した。
このフィルムを集積回路が形成された表面の凹凸差が約
10μmのレジストインキをコートしてないシリコンウ
ェハー表面眞自動貼付は機にて100枚貼付けた。この
ときのウェハ破損数は皆無であり、その作業時間は15
分であった。
10μmのレジストインキをコートしてないシリコンウ
ェハー表面眞自動貼付は機にて100枚貼付けた。この
ときのウェハ破損数は皆無であり、その作業時間は15
分であった。
実施例 2゜
ショアーD型硬度が加であるブタジェンゴムとショアー
D型硬度が80のポリプロビレ:/ ヲ2 N Tダイ
法にて同時製、嘆して得られた2層フィルム(ブタジェ
ンゴム層の厚さ200μm1ボリア’ oピレン層の厚
さ100μm)のブタジェンゴム面上に、実施例1と同
様にして約30μm厚みのアクリル系粘着剤を塗布した
実施例1と同様な形状のシリコンウェハ加工用フィルム
を作成した。このフィルムを、表面の凹凸差が約加μm
のレジストインクコートしていないシリコンウェハ表面
に実施例1と同様の方法により、1002枚貼付けた。
D型硬度が80のポリプロビレ:/ ヲ2 N Tダイ
法にて同時製、嘆して得られた2層フィルム(ブタジェ
ンゴム層の厚さ200μm1ボリア’ oピレン層の厚
さ100μm)のブタジェンゴム面上に、実施例1と同
様にして約30μm厚みのアクリル系粘着剤を塗布した
実施例1と同様な形状のシリコンウェハ加工用フィルム
を作成した。このフィルムを、表面の凹凸差が約加μm
のレジストインクコートしていないシリコンウェハ表面
に実施例1と同様の方法により、1002枚貼付けた。
その結果、破損不良品はOであり、約15分で全加工作
業を完了した。
業を完了した。
比較例−1゜
ショア硬度が80のポリエチレンテレフタレートフィル
ム(50μm厚さ)にコロナ処理を施した後、アクリル
系粘着剤“アロマテックス″′(三井東圧化学■製)を
ロールコータ−機により塗布、乾燥し約切μmのアクリ
ル系粘着剤層を設けたウェハ加工用フィルムを作成し実
施例1と同様な形状にし、実施例1と同様なシリコンウ
ェハ表面に自動貼付は機にて100枚貼付けた。その結
果ウェハ破損数は65枚であった。
ム(50μm厚さ)にコロナ処理を施した後、アクリル
系粘着剤“アロマテックス″′(三井東圧化学■製)を
ロールコータ−機により塗布、乾燥し約切μmのアクリ
ル系粘着剤層を設けたウェハ加工用フィルムを作成し実
施例1と同様な形状にし、実施例1と同様なシリコンウ
ェハ表面に自動貼付は機にて100枚貼付けた。その結
果ウェハ破損数は65枚であった。
比較例−2゜
比較例−1と同様なウェハ加工用フィルムを作成し、表
面凹凸が10μmのウェハ表面九10μmのレジストイ
ンクを塗布しウェハ表面の凹凸を無くしてから実施例1
と同様洗フィルムを貼付けた。その結果、ウェハの破損
は0であったがその作業時間は2時間を要した。
面凹凸が10μmのウェハ表面九10μmのレジストイ
ンクを塗布しウェハ表面の凹凸を無くしてから実施例1
と同様洗フィルムを貼付けた。その結果、ウェハの破損
は0であったがその作業時間は2時間を要した。
比較例−3゜
ショアーD型硬度が加であるエチレン−酢酸ビニル共重
合体樹脂フィルム単体(厚さ100μrrL)に実施例
1と同様にしてアクリル系粘着剤を塗布乾燥し、ウェハ
加工用フィルムを作成、実施例1と同様な形状にし実施
例1と同様なシリコンウニ・・表面に自動貼付は機にて
100枚貼付けた。
合体樹脂フィルム単体(厚さ100μrrL)に実施例
1と同様にしてアクリル系粘着剤を塗布乾燥し、ウェハ
加工用フィルムを作成、実施例1と同様な形状にし実施
例1と同様なシリコンウニ・・表面に自動貼付は機にて
100枚貼付けた。
その結果、ウェハの破損はOであったものの、フィルム
にシワが発生した。このシワは後工程において悪影響を
及ぼすもので好ましくない。
にシワが発生した。このシワは後工程において悪影響を
及ぼすもので好ましくない。
本発明のウェハ加工用フィルム貼付は方法は、基材フィ
ルムがウェハに加わる外力を吸収して分散する性質を有
しているので、ウェハに貼り合わせる時のウェハの破損
を防止できる。また、補助フィルムが積層されているの
で、保形性に優れ、ウェハへの貼合せ時の作業性が非常
に良く、生産性が非常に良く、生産性向上にも大きな効
果が発揮できる。
ルムがウェハに加わる外力を吸収して分散する性質を有
しているので、ウェハに貼り合わせる時のウェハの破損
を防止できる。また、補助フィルムが積層されているの
で、保形性に優れ、ウェハへの貼合せ時の作業性が非常
に良く、生産性が非常に良く、生産性向上にも大きな効
果が発揮できる。
第1図はウェハ加工用フィルムを貼着した離型性帯状体
の一態様を示す平面図、第2図はその正面図である。 1・・・台 紙、 2・・・ウェハ状に形成された加工用フィルム、3・・
・補助フィルム、 4・・・基材フィルム、 5・・・粘 着 剤。
の一態様を示す平面図、第2図はその正面図である。 1・・・台 紙、 2・・・ウェハ状に形成された加工用フィルム、3・・
・補助フィルム、 4・・・基材フィルム、 5・・・粘 着 剤。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ウェハ形状に形成したウェハ加工用フィルムを貼着した
離型性帯状体からウェハ加工用フィルムを半導体ウェハ
表面に圧着せしめて接着するに際し、 シヨアD型硬度が40以下である基材フィルムの片側表
面上にシヨアD型硬度が40より大きい補助フィルムが
積層され、該基材フィルムの他方の表面上に粘着層が配
設されてなるウェハ加工用フィルムを用いることを特徴
とするウェハ加工用フィルムの貼付け方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11357786A JPH07105433B2 (ja) | 1986-05-20 | 1986-05-20 | ウエハ加工用フイルムの貼付け方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11357786A JPH07105433B2 (ja) | 1986-05-20 | 1986-05-20 | ウエハ加工用フイルムの貼付け方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62271451A true JPS62271451A (ja) | 1987-11-25 |
JPH07105433B2 JPH07105433B2 (ja) | 1995-11-13 |
Family
ID=14615763
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11357786A Expired - Lifetime JPH07105433B2 (ja) | 1986-05-20 | 1986-05-20 | ウエハ加工用フイルムの貼付け方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07105433B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0440742U (ja) * | 1990-08-03 | 1992-04-07 | ||
JPH11256114A (ja) * | 1997-12-23 | 1999-09-21 | Beiersdorf Ag | 多層接着テープ |
US6235387B1 (en) | 1998-03-30 | 2001-05-22 | 3M Innovative Properties Company | Semiconductor wafer processing tapes |
WO2001082352A1 (fr) * | 2000-04-26 | 2001-11-01 | Lintec Corporation | Materiau de renfort d'une plaquette de silicium et procede de fabrication d'un microcircuit integre a l'aide de ce materiau |
JP2003338477A (ja) * | 2002-05-22 | 2003-11-28 | Disco Abrasive Syst Ltd | テープ剥離方法 |
WO2004065510A1 (ja) * | 2003-01-22 | 2004-08-05 | Lintec Corporation | 粘着シート、半導体ウエハの表面保護方法およびワークの加工方法 |
KR100917084B1 (ko) | 2001-12-27 | 2009-09-15 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 보호테이프의 접착·박리방법 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101581009B1 (ko) * | 2014-07-18 | 2015-12-30 | 주식회사 영진비앤비 | 디바이스 웨이퍼용 접착제시트 부착장치 |
KR101581012B1 (ko) * | 2014-07-18 | 2015-12-30 | 주식회사 영진비앤비 | 디바이스 웨이퍼 접착제 도포방법 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59169811A (ja) * | 1983-03-16 | 1984-09-25 | Nitto Electric Ind Co Ltd | 粘着フイルム貼付方法 |
JPS6222439A (ja) * | 1985-07-22 | 1987-01-30 | Toshiba Corp | ウエ−ハ保護テ−プ |
-
1986
- 1986-05-20 JP JP11357786A patent/JPH07105433B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US6765289B2 (en) | 2000-04-26 | 2004-07-20 | Lintec Corporation | Reinforcement material for silicon wafer and process for producing IC chip using said material |
KR100917084B1 (ko) | 2001-12-27 | 2009-09-15 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 보호테이프의 접착·박리방법 |
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WO2004065510A1 (ja) * | 2003-01-22 | 2004-08-05 | Lintec Corporation | 粘着シート、半導体ウエハの表面保護方法およびワークの加工方法 |
KR100643450B1 (ko) * | 2003-01-22 | 2006-11-10 | 린텍 가부시키가이샤 | 점착시트, 반도체 웨이퍼의 표면보호 방법 및 워크의가공방법 |
CN100340625C (zh) * | 2003-01-22 | 2007-10-03 | 琳得科株式会社 | 压敏胶粘剂片,保护半导体晶片表面的方法以及加工工件的方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07105433B2 (ja) | 1995-11-13 |
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