JPS6227078B2 - - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は12位にアルキルスルホン基を有するス
テロイド化合物を脱スルホン化して△11不飽和ス
テロイド化合物を製造する方法に関し、特に該ス
テロイド化合物をアルカリ金属のフツ化物、また
は低級カルボン酸塩の少くとも1種と第4アンモ
ニウム塩またはクラウンエーテルの少くとも1種
の共存下に脱スルホン化反応せしめることを特徴
とする方法に関する。
テロイド化合物を脱スルホン化して△11不飽和ス
テロイド化合物を製造する方法に関し、特に該ス
テロイド化合物をアルカリ金属のフツ化物、また
は低級カルボン酸塩の少くとも1種と第4アンモ
ニウム塩またはクラウンエーテルの少くとも1種
の共存下に脱スルホン化反応せしめることを特徴
とする方法に関する。
本発明の方法は11位に不飽和結合を有する各種
のステロイド化合物の合成に利用されるが、特に
コール酸よりケノデオキシコール酸(CDC)を
合成する際に有用である。
のステロイド化合物の合成に利用されるが、特に
コール酸よりケノデオキシコール酸(CDC)を
合成する際に有用である。
CDCは胆石溶解剤等の医薬品として有用な物
質であり、近年その安価な合成法の開発が期待さ
れている。
質であり、近年その安価な合成法の開発が期待さ
れている。
コール酸からCDCを合成する方法には2通り
の方法が知られており、その1つの方法はコール
酸の23位のカルボキシル基及び3位、7位の水酸
基をそれぞれエステル化して3α・7α−ジアセ
トキシ−12α−ヒドロキシコラン酸メチル()
を合成し、次いでこれを酸化して12−オキソ体と
した後ウルフ、キシナー還元により12位を水素で
置換する方法である。
の方法が知られており、その1つの方法はコール
酸の23位のカルボキシル基及び3位、7位の水酸
基をそれぞれエステル化して3α・7α−ジアセ
トキシ−12α−ヒドロキシコラン酸メチル()
を合成し、次いでこれを酸化して12−オキソ体と
した後ウルフ、キシナー還元により12位を水素で
置換する方法である。
他の1つはコール酸の12位の水酸基を脱水して
△11不飽和結合とし、これに水素添加する方法で
あり、例えば、アメリカ特許第3998859号に記載
された方法等が知られている。
△11不飽和結合とし、これに水素添加する方法で
あり、例えば、アメリカ特許第3998859号に記載
された方法等が知られている。
即ち、コール酸をジアセトキシコラン酸メチル
()とし、その12位の水酸基をアルキルスルホ
ン基に変換し()、これを溶媒としてヘキサメ
チルホスホトリアミド(HMPT)を使用して酢
酸塩により脱スルホン化して△11不飽和ステロイ
ド化合物()を得、次いで該不飽和結合に水素
添加し、更に加水分解により保護基を外して目的
物を得ている。
()とし、その12位の水酸基をアルキルスルホ
ン基に変換し()、これを溶媒としてヘキサメ
チルホスホトリアミド(HMPT)を使用して酢
酸塩により脱スルホン化して△11不飽和ステロイ
ド化合物()を得、次いで該不飽和結合に水素
添加し、更に加水分解により保護基を外して目的
物を得ている。
この方法は副反応も少く優れた方法ではある
が、溶媒として使用するHMPTな高価な物質で
あり、また、最近発ガン性の疑問がある旨の報告
もあり、工業的な製造法としては必ずしも適当な
方法であるとは言い難い。
が、溶媒として使用するHMPTな高価な物質で
あり、また、最近発ガン性の疑問がある旨の報告
もあり、工業的な製造法としては必ずしも適当な
方法であるとは言い難い。
そこで本発明者らはこの方法の改良法として工
業的に比較的安価で容易に入手できまた、人体に
有害な作用を有しない材料を用いて前記12位にア
ルキルスルホン基を有するステロイド化合物を脱
スルホン化して△11不飽和結合を有するステロイ
ド化合物を合成する方法について種々検討の結
果、該反応をアルカリ金属のフツ化物または低級
カルボン酸基の少くとも1種と第4アンモニウム
塩、またはクラウンエーテルの少くとも1種の共
存化に行うことにより高収率で目的物を得ること
ができ、所期の目的を達成し得ることに成功し
た。
業的に比較的安価で容易に入手できまた、人体に
有害な作用を有しない材料を用いて前記12位にア
ルキルスルホン基を有するステロイド化合物を脱
スルホン化して△11不飽和結合を有するステロイ
ド化合物を合成する方法について種々検討の結
果、該反応をアルカリ金属のフツ化物または低級
カルボン酸基の少くとも1種と第4アンモニウム
塩、またはクラウンエーテルの少くとも1種の共
存化に行うことにより高収率で目的物を得ること
ができ、所期の目的を達成し得ることに成功し
た。
以下、本発明の方法について更に詳しく説明す
る。
る。
本発明の方法に於いて、前記金属塩及び第4ア
ンモニウム塩等は言わば、脱スルホン化剤、相間
移動触媒の如き働きを有するものであり、金属塩
としてリチウム、ナトリウムまたはカリウムのフ
ツ化物、ギ酸塩、酢酸塩、プロピオ酸塩、または
酪酸塩等が用いられ、就中、酢酸ソーダ、酢酸カ
リ、フツ化ソーダまたはフツ化カリ等が実用上好
適である。また、第4アンモニウム塩は次の一般
式で表わされる化合物が用いられる。
ンモニウム塩等は言わば、脱スルホン化剤、相間
移動触媒の如き働きを有するものであり、金属塩
としてリチウム、ナトリウムまたはカリウムのフ
ツ化物、ギ酸塩、酢酸塩、プロピオ酸塩、または
酪酸塩等が用いられ、就中、酢酸ソーダ、酢酸カ
リ、フツ化ソーダまたはフツ化カリ等が実用上好
適である。また、第4アンモニウム塩は次の一般
式で表わされる化合物が用いられる。
(ただし、R1、R2、R3およびR4はそれぞれ、アル
キル基、アルケニル基またはアリール基、Xは沃
素原子、臭素原子、塩基原子またはフツ素原子を
表わす。) 上記一般式で表わされる第4アンモニウム塩の
うち特に、R1、R2およびR3がそれぞれ炭素数1
〜8の鎖状若しくは環状のアルキル基、フエニル
基、ベンジル基または低級アルキル基で置換され
たフエニル基若しくはベンジル基であり、R4が
炭素数1〜18の鎖状若しくは環状アルキル基、炭
素数2〜4の低級アルケニル基またはベンジル基
であり、Xが塩素原子または臭素原子である化合
物が製造、精製の容易性、経済性、触媒としての
活性、安定性等の観点から最も実用的であると言
える。しかし、必ずしもこれらのみに制限される
ものではない。
キル基、アルケニル基またはアリール基、Xは沃
素原子、臭素原子、塩基原子またはフツ素原子を
表わす。) 上記一般式で表わされる第4アンモニウム塩の
うち特に、R1、R2およびR3がそれぞれ炭素数1
〜8の鎖状若しくは環状のアルキル基、フエニル
基、ベンジル基または低級アルキル基で置換され
たフエニル基若しくはベンジル基であり、R4が
炭素数1〜18の鎖状若しくは環状アルキル基、炭
素数2〜4の低級アルケニル基またはベンジル基
であり、Xが塩素原子または臭素原子である化合
物が製造、精製の容易性、経済性、触媒としての
活性、安定性等の観点から最も実用的であると言
える。しかし、必ずしもこれらのみに制限される
ものではない。
本発明の方法に於ける代表的な第4アンモニウ
ム塩の例をいくつか示せば次の通りである。アン
モニウム−トリプロピルメチルヨウダイド、−ト
リプロピルエチルクロライド、−テトラプロピル
ブロマイド、−トリプロピルブチルヨウダイド、−
トリプロピルオクチルヨウダイド、−トリプロピ
ルシクロヘキシルクロライド、−トリプロピルフ
エニルブロマイド、−トリブチルメチルヨウダイ
ド、−トリブチルメチルブロマイド、−トリブチル
エチルブロマイド、−トリブチルプロピルクロラ
イド、−トリトリルメチルヨウダイド、−トリキシ
リルベンジルブロマイド、−トリベンジルエチル
クロライド、−トリシクロヘキシルメチルヨウダ
イド、−トリシクロペンチルイソブチルクロライ
ド、−ジメチルエチルフエニルヨウダイド、−ジブ
チルメチルフエニルヨウダイド、−テトラブチル
ヨウダイド、−トリブチルアミルブロマイド、−ト
リブチルヘキシルクロライド、−トリブチルオク
チルヨウダイド、−トリブチルデシルブロマイ
ド、−トリブチルセチルヨウダイド、−トリブチル
ベンジルクロライド、−トリブチルアリルクロラ
イド、−トリブチルシクロヘキシルブロマイド、−
トリアミルメチルブロマイド、−トリヘプチルブ
チルクロライド、−トリヘキシルメチルヨウダイ
ド、−トリヘキシルブチルブロマイド、−トリヘキ
シルオクチルクロライド、−トリオクチルメチル
ヨウダイド、−トリオクチルメチルブロマイド、−
トリオクチルエチルブロマイド、−トリオクチル
プロピルクロライド、−トリオクチルブチルヨウ
ダイド、−トリオクチルアミノブロマイド、−テト
ラオクチルクロライド、−トリオクチルセチルヨ
ウダイド、−トリオクチルベンジルクロライド、−
トリフエニルメチルヨウダイド、−トリフエニル
プロピルブロマイド、−トリフエニルブチルヨウ
ダイド、−トリフエニルヘプチルブロマイド、−ト
リフエニルベンジルクロライド等またクラウンエ
ーテルとしては15−クラウン−5・18−クラウン
−6、ジベンゾ−18−クラウン−6、ジシクロヘ
キシル−19−クラウン−6、ジベンゾ−24−クラ
ウン−8、ジシクロヘキシル−24−クラウン−8
等が用いられ、特に、前記金属塩とを組合せに於
いて、金属のイオン半径に合つたものを用いるの
が効果的である。
ム塩の例をいくつか示せば次の通りである。アン
モニウム−トリプロピルメチルヨウダイド、−ト
リプロピルエチルクロライド、−テトラプロピル
ブロマイド、−トリプロピルブチルヨウダイド、−
トリプロピルオクチルヨウダイド、−トリプロピ
ルシクロヘキシルクロライド、−トリプロピルフ
エニルブロマイド、−トリブチルメチルヨウダイ
ド、−トリブチルメチルブロマイド、−トリブチル
エチルブロマイド、−トリブチルプロピルクロラ
イド、−トリトリルメチルヨウダイド、−トリキシ
リルベンジルブロマイド、−トリベンジルエチル
クロライド、−トリシクロヘキシルメチルヨウダ
イド、−トリシクロペンチルイソブチルクロライ
ド、−ジメチルエチルフエニルヨウダイド、−ジブ
チルメチルフエニルヨウダイド、−テトラブチル
ヨウダイド、−トリブチルアミルブロマイド、−ト
リブチルヘキシルクロライド、−トリブチルオク
チルヨウダイド、−トリブチルデシルブロマイ
ド、−トリブチルセチルヨウダイド、−トリブチル
ベンジルクロライド、−トリブチルアリルクロラ
イド、−トリブチルシクロヘキシルブロマイド、−
トリアミルメチルブロマイド、−トリヘプチルブ
チルクロライド、−トリヘキシルメチルヨウダイ
ド、−トリヘキシルブチルブロマイド、−トリヘキ
シルオクチルクロライド、−トリオクチルメチル
ヨウダイド、−トリオクチルメチルブロマイド、−
トリオクチルエチルブロマイド、−トリオクチル
プロピルクロライド、−トリオクチルブチルヨウ
ダイド、−トリオクチルアミノブロマイド、−テト
ラオクチルクロライド、−トリオクチルセチルヨ
ウダイド、−トリオクチルベンジルクロライド、−
トリフエニルメチルヨウダイド、−トリフエニル
プロピルブロマイド、−トリフエニルブチルヨウ
ダイド、−トリフエニルヘプチルブロマイド、−ト
リフエニルベンジルクロライド等またクラウンエ
ーテルとしては15−クラウン−5・18−クラウン
−6、ジベンゾ−18−クラウン−6、ジシクロヘ
キシル−19−クラウン−6、ジベンゾ−24−クラ
ウン−8、ジシクロヘキシル−24−クラウン−8
等が用いられ、特に、前記金属塩とを組合せに於
いて、金属のイオン半径に合つたものを用いるの
が効果的である。
反応は液相状態にて行われるが、原料として使
用される前記3α・7α−ジアセトキシ−12α−
メシルオキシコラン酸メチルは融点が低く、反応
温度では液体状態を保てるため水以外の溶媒は必
ずしも必要ではない。しかし、一般に無溶媒では
副反応が増加するため、通常は適当な溶媒を用い
ることが好ましい。溶媒としては触媒として第4
アンモニウム塩を用いる場合には、水に不溶性の
有機溶媒が用いられる。溶媒の種類により反応速
度に差はあるが、原則的には水に不溶性で且反応
条件下に液状で、原料、目的物や触媒などを反応
したり、分解したりしない安定なものであれば特
に制限はない。実用的には、例えば、ベンゼン、
トルエン、キシレン、クロルベンゼン、ジクロル
ベンゼン、メチルイソブチルケトン、酢酸ブチル
等が用いられる。触媒としてクラウンエーテルを
用いる場合には水溶性の溶媒も用いることができ
る。殊に、ジメチルスルホキシド、ジメチルホル
ムアミド等の非プロトン性極性溶媒を用いる場合
には反応速度が向上する。しかし選択性が低下す
る難点もあるので必ずしも最良ではない。
用される前記3α・7α−ジアセトキシ−12α−
メシルオキシコラン酸メチルは融点が低く、反応
温度では液体状態を保てるため水以外の溶媒は必
ずしも必要ではない。しかし、一般に無溶媒では
副反応が増加するため、通常は適当な溶媒を用い
ることが好ましい。溶媒としては触媒として第4
アンモニウム塩を用いる場合には、水に不溶性の
有機溶媒が用いられる。溶媒の種類により反応速
度に差はあるが、原則的には水に不溶性で且反応
条件下に液状で、原料、目的物や触媒などを反応
したり、分解したりしない安定なものであれば特
に制限はない。実用的には、例えば、ベンゼン、
トルエン、キシレン、クロルベンゼン、ジクロル
ベンゼン、メチルイソブチルケトン、酢酸ブチル
等が用いられる。触媒としてクラウンエーテルを
用いる場合には水溶性の溶媒も用いることができ
る。殊に、ジメチルスルホキシド、ジメチルホル
ムアミド等の非プロトン性極性溶媒を用いる場合
には反応速度が向上する。しかし選択性が低下す
る難点もあるので必ずしも最良ではない。
反応条件について言えば、必ずしも厳密な制限
はないが金属塩の使用量としては原料化合物1部
に対して、通常5部〜0.1部、好ましくは2部〜
0.5部程度が適当であり、また、第4アンモニウ
ム塩又はクラウンエーテルの使用量としては原料
化合物1部に対して、通常0.2部〜0.001部好まし
くは0.1部〜0.01部程度が適当である。反応温度
は使用すべき原料の種類、触媒、溶媒等の組合せ
により最適範囲が異なるが、通常は80〜150℃、
好ましくは110〜130℃の範囲で行うのが適当であ
る。反応時間についても必ずしも1律には規定し
難いが、通常の条件下では4〜15時間程度が適当
と言える。
はないが金属塩の使用量としては原料化合物1部
に対して、通常5部〜0.1部、好ましくは2部〜
0.5部程度が適当であり、また、第4アンモニウ
ム塩又はクラウンエーテルの使用量としては原料
化合物1部に対して、通常0.2部〜0.001部好まし
くは0.1部〜0.01部程度が適当である。反応温度
は使用すべき原料の種類、触媒、溶媒等の組合せ
により最適範囲が異なるが、通常は80〜150℃、
好ましくは110〜130℃の範囲で行うのが適当であ
る。反応時間についても必ずしも1律には規定し
難いが、通常の条件下では4〜15時間程度が適当
と言える。
尚、本発明の方法は前述の如くコール酸より
CDCを合成する過程に於いて、3α・7α−ジ
アセトキシ−12α−メシルオキシコラン酸メチル
を脱スルホン化して11位に不飽和結合を有する化
合物に変換するのに効果的に適用されるが、この
場合、12位のアルキルスルホン基は何んでも良い
わけではなく、例えば、有機合成反応に於いて脱
離基として、しばしば利用されるP−トルエンス
ルホン基、ベンゼンスルホン基等の新油性の強い
基をもつアニオンの場合には脱離してきたアニオ
ンが第4アンモニウム塩等と結合してしまい、反
応に必要な金属塩残基を油相に転移させることが
できなくなるため不適当である。従つて、12位の
アルキルスルホン基としてはメタン−エタン−等
の低級アルキル基が好適である。しかし、本発明
の脱スルホン化反応は3位、7位の置換基によつ
て影響を受けず、例えば、3位、7位が水素原子
(非置換)、水酸基、アルコキシ基、アシルオキシ
基、アルキル基等いずれでも良く、また、17位の
置換基はコール酸に相当する−CH(CH3)
CH2CH2CO2H又はその反応性誘導体例えば、エ
ステル、アミド、酸クロライド等のみに限らず他
のものでも良く、例えば、−CH(CH3)
CH2CO2H、−CH(CH3)CO2H、−CO2H−
COCH3、−CH2CH3、−CH(OH)CH3等の基及び
これらの同族体並びに反応性誘導体等いずれでも
良く、各種の△11不飽和ステロイド化合物の合成
に巾広く適用することができる。
CDCを合成する過程に於いて、3α・7α−ジ
アセトキシ−12α−メシルオキシコラン酸メチル
を脱スルホン化して11位に不飽和結合を有する化
合物に変換するのに効果的に適用されるが、この
場合、12位のアルキルスルホン基は何んでも良い
わけではなく、例えば、有機合成反応に於いて脱
離基として、しばしば利用されるP−トルエンス
ルホン基、ベンゼンスルホン基等の新油性の強い
基をもつアニオンの場合には脱離してきたアニオ
ンが第4アンモニウム塩等と結合してしまい、反
応に必要な金属塩残基を油相に転移させることが
できなくなるため不適当である。従つて、12位の
アルキルスルホン基としてはメタン−エタン−等
の低級アルキル基が好適である。しかし、本発明
の脱スルホン化反応は3位、7位の置換基によつ
て影響を受けず、例えば、3位、7位が水素原子
(非置換)、水酸基、アルコキシ基、アシルオキシ
基、アルキル基等いずれでも良く、また、17位の
置換基はコール酸に相当する−CH(CH3)
CH2CH2CO2H又はその反応性誘導体例えば、エ
ステル、アミド、酸クロライド等のみに限らず他
のものでも良く、例えば、−CH(CH3)
CH2CO2H、−CH(CH3)CO2H、−CO2H−
COCH3、−CH2CH3、−CH(OH)CH3等の基及び
これらの同族体並びに反応性誘導体等いずれでも
良く、各種の△11不飽和ステロイド化合物の合成
に巾広く適用することができる。
以下、本発明の方法について実施例を示し更に
具体的に説明するが、これらは言わば本発明の方
法の単なる代表例であつて、本発明はこれらのみ
に限定されないことは勿論のこと、これらによつ
て何ら制限されないことは言うまでもない。
具体的に説明するが、これらは言わば本発明の方
法の単なる代表例であつて、本発明はこれらのみ
に限定されないことは勿論のこと、これらによつ
て何ら制限されないことは言うまでもない。
実施例 1
3α・7α−ジアセトキシ−12α−メシルオキ
シコラン酸メチル()10g、トリオクチルメチ
ルアンモニウムクロライド1gをキシレン10mlに
溶解し、これに酢酸カリ10g、水4mlを加えて8
時間撹拌しながら還流温度で加熱する。液温は約
120℃となる。
シコラン酸メチル()10g、トリオクチルメチ
ルアンモニウムクロライド1gをキシレン10mlに
溶解し、これに酢酸カリ10g、水4mlを加えて8
時間撹拌しながら還流温度で加熱する。液温は約
120℃となる。
反応混合物は放冷後キシレン層を分離し、常法
に従い、高速液体クロマトグラフイーで分析し
た。その結果生成物の収率は、メシル体のモル濃
度を基準として、△11ステロイド()89%、
3・7・12−トリアセトキシ体3.7%、13位転位
生成物2.8%、その他1%で原料メシル体3.5%を
回収した。
に従い、高速液体クロマトグラフイーで分析し
た。その結果生成物の収率は、メシル体のモル濃
度を基準として、△11ステロイド()89%、
3・7・12−トリアセトキシ体3.7%、13位転位
生成物2.8%、その他1%で原料メシル体3.5%を
回収した。
実施例 2
実施例1と同様に()1gをキシレン1mlに
溶解し18−クラウン−6、0.1g、酢酸カリ1g
を加える。この混合物を130℃で8時間撹拌下に
加熱し反応液を分析した△11ステロイドの収率は
82.5%で本反応原料7%であつた。
溶解し18−クラウン−6、0.1g、酢酸カリ1g
を加える。この混合物を130℃で8時間撹拌下に
加熱し反応液を分析した△11ステロイドの収率は
82.5%で本反応原料7%であつた。
実施例 3
3α・7α−ジアセトキシ−12α−メシルオキ
シコラン酸メチル()35g、アリコート
(ALIQUAT)336(米国・ゼネラル ミルズ
(General Mills)社製、主成分トリオクチル・メ
チルアンモニウムクロライド)1.8gをキシレン
40mlに溶解し、これに酢酸ソーダ25g、炭酸水素
ナトリウム2.5g、水20mlを加えて撹拌しながら
還流温度で約7時間加熱した。
シコラン酸メチル()35g、アリコート
(ALIQUAT)336(米国・ゼネラル ミルズ
(General Mills)社製、主成分トリオクチル・メ
チルアンモニウムクロライド)1.8gをキシレン
40mlに溶解し、これに酢酸ソーダ25g、炭酸水素
ナトリウム2.5g、水20mlを加えて撹拌しながら
還流温度で約7時間加熱した。
反応液を分析した結果△11ステロイドの収率は
87%、未反応原料5%であつた。
87%、未反応原料5%であつた。
Claims (1)
- 1 12位にアルキルスルホン基を有するステロイ
ド化合物をアルカリ金属の低級カルボン酸塩の少
くとも1種と第4アンモニウム塩、またはクラウ
ンエーテルの少くとも1種の共存下に脱スルホン
化反応せしめることを特徴とする△11不飽和ステ
ロイド化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2522880A JPS56122399A (en) | 1980-03-03 | 1980-03-03 | Preparation of delta11 unsaturated steroid |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2522880A JPS56122399A (en) | 1980-03-03 | 1980-03-03 | Preparation of delta11 unsaturated steroid |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS56122399A JPS56122399A (en) | 1981-09-25 |
JPS6227078B2 true JPS6227078B2 (ja) | 1987-06-12 |
Family
ID=12160105
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2522880A Granted JPS56122399A (en) | 1980-03-03 | 1980-03-03 | Preparation of delta11 unsaturated steroid |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS56122399A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01178775U (ja) * | 1988-06-02 | 1989-12-21 |
-
1980
- 1980-03-03 JP JP2522880A patent/JPS56122399A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01178775U (ja) * | 1988-06-02 | 1989-12-21 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS56122399A (en) | 1981-09-25 |
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