JPS6226754Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6226754Y2 JPS6226754Y2 JP1981136913U JP13691381U JPS6226754Y2 JP S6226754 Y2 JPS6226754 Y2 JP S6226754Y2 JP 1981136913 U JP1981136913 U JP 1981136913U JP 13691381 U JP13691381 U JP 13691381U JP S6226754 Y2 JPS6226754 Y2 JP S6226754Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- inspected
- light
- transparent substrate
- pattern
- focus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 15
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 5
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 4
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Lens Barrels (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、透明基板上に低反射性の微細パター
ンが多数形成されてなる精密部品に関わり、特に
機械的なパターン検査法に益するように、自動焦
点合せ機構の目印となる光反射領域を前記微細パ
ターン領域の近傍に取り巻くように形成したこと
を特徴とするものである。
ンが多数形成されてなる精密部品に関わり、特に
機械的なパターン検査法に益するように、自動焦
点合せ機構の目印となる光反射領域を前記微細パ
ターン領域の近傍に取り巻くように形成したこと
を特徴とするものである。
基板上に形成された微細パターンの微小欠陥を
検査する場合、顕微鏡レンズ系を通して目視ある
いは光電変換装置により検査することが行なわれ
ているが、顕微鏡レンズ系の焦点深度は極めて浅
く、基板表面の平行度や基板を乗せている駆動ス
テージの水平度に狂いがある場合、検査対象たる
微細パターンは、往々にして焦点ボケを起こして
検査不能となる。検査対象たる微細パターンの領
域が小さいものであるならば、焦点合せも一回で
すむこともある。しかし、かかる小さい微細パタ
ーンを大きな基板上に多数形成した場合（製造的
に有利）には、前述した基板平行度の狂い等によ
つて、各パターン毎に焦点合せする必要がある。
このような場合、人為的に行なうより、自動焦点
合せ機構により自動的に行なうのが有利である。
検査する場合、顕微鏡レンズ系を通して目視ある
いは光電変換装置により検査することが行なわれ
ているが、顕微鏡レンズ系の焦点深度は極めて浅
く、基板表面の平行度や基板を乗せている駆動ス
テージの水平度に狂いがある場合、検査対象たる
微細パターンは、往々にして焦点ボケを起こして
検査不能となる。検査対象たる微細パターンの領
域が小さいものであるならば、焦点合せも一回で
すむこともある。しかし、かかる小さい微細パタ
ーンを大きな基板上に多数形成した場合（製造的
に有利）には、前述した基板平行度の狂い等によ
つて、各パターン毎に焦点合せする必要がある。
このような場合、人為的に行なうより、自動焦点
合せ機構により自動的に行なうのが有利である。
しかしながら、基板としてガラス等の透明基板
を用い、かつ微細パターンが光吸収性あるいは光
透過性であつて低反射性である場合、反射光を利
用して焦点合せする光電式の自動焦点機構を用い
ることができないものである。
を用い、かつ微細パターンが光吸収性あるいは光
透過性であつて低反射性である場合、反射光を利
用して焦点合せする光電式の自動焦点機構を用い
ることができないものである。
本考案は以上のような点に鑑みて為されたもの
であり、実施例を示す図面に従つて詳細に説明す
る。第１図は透明ガラス板１の片面に色分解フイ
ルタ２が間隔をおいて６個形成されている本考案
の被検査体の一例を示すもので、該色分解フイル
タ２は撮像管や固体撮像素子の受光部の前面に装
着されてカラーの画像信号を取り出すことを可能
にするものである。この色分解フイルター２は10
mm角程度の大きさで赤（Ｒ）、緑(G)、青(B)やシア
ン、イエローなどの特定の色波長を吸収するフイ
ルタ素子が２〜20ミクロン程度の幅で形成され、
極めて微細なパターンを有するものであり、かつ
当然のことながら、光に対して低反射性で、その
ままでは光電式の自動焦点合せ機構を使えないも
のである。第１図の実施例にあつては、透明基板
１上に各色分解フイルタ２の近傍を取り巻くよう
に連続状の光反射預域３が格子型に施されてい
る。光反射領域３は光電式の自動焦点合せ機構の
目標となるもので、クロム膜のような金属薄膜で
形成するのが一般的であるが、光電式自動焦点機
構に使用する光、例えば波長800nmの近赤外光に
対して20〜30％以上の反射率を有する膜であれ
ば、なんでもさしつかえない。光反射領域３を施
す頻度というか間隔は、透明基板１の平行度と検
査用レンズ系の焦点深度とで関係づけられる。
であり、実施例を示す図面に従つて詳細に説明す
る。第１図は透明ガラス板１の片面に色分解フイ
ルタ２が間隔をおいて６個形成されている本考案
の被検査体の一例を示すもので、該色分解フイル
タ２は撮像管や固体撮像素子の受光部の前面に装
着されてカラーの画像信号を取り出すことを可能
にするものである。この色分解フイルター２は10
mm角程度の大きさで赤（Ｒ）、緑(G)、青(B)やシア
ン、イエローなどの特定の色波長を吸収するフイ
ルタ素子が２〜20ミクロン程度の幅で形成され、
極めて微細なパターンを有するものであり、かつ
当然のことながら、光に対して低反射性で、その
ままでは光電式の自動焦点合せ機構を使えないも
のである。第１図の実施例にあつては、透明基板
１上に各色分解フイルタ２の近傍を取り巻くよう
に連続状の光反射預域３が格子型に施されてい
る。光反射領域３は光電式の自動焦点合せ機構の
目標となるもので、クロム膜のような金属薄膜で
形成するのが一般的であるが、光電式自動焦点機
構に使用する光、例えば波長800nmの近赤外光に
対して20〜30％以上の反射率を有する膜であれ
ば、なんでもさしつかえない。光反射領域３を施
す頻度というか間隔は、透明基板１の平行度と検
査用レンズ系の焦点深度とで関係づけられる。
すなわち、透明基板１の最大勾配をα、レンズ
系の焦点深度をｈとすると、透明基板が25.4mm
（１インチ）あたり10μの狂いがあり（α＝
１０μ／２５．４／mm）、レンズ系の焦点深度ｈ＝３μ
とする と、光反射領域３がとりうる最大間隔は ＝ｈ／α＝３／１０／２５．４＝7.62（mm） ということになる。
系の焦点深度をｈとすると、透明基板が25.4mm
（１インチ）あたり10μの狂いがあり（α＝
１０μ／２５．４／mm）、レンズ系の焦点深度ｈ＝３μ
とする と、光反射領域３がとりうる最大間隔は ＝ｈ／α＝３／１０／２５．４＝7.62（mm） ということになる。
すなわち、この場合には光反射領域３が被検査
パターンである色分解フイルタ２からは7.6mm以
上の間隔をもつて離れては意味がないのであり、
したがつて第１図の実施例に示すように、検査対
象の微細パターンの近傍を取り巻くように光反射
領域３が設けられることになる。
パターンである色分解フイルタ２からは7.6mm以
上の間隔をもつて離れては意味がないのであり、
したがつて第１図の実施例に示すように、検査対
象の微細パターンの近傍を取り巻くように光反射
領域３が設けられることになる。
図の実施例では光反射領域３は連続状に設けら
れているが、その変形として必要な個所に相当の
大きさのすなわち島状の光反射領域を設けること
もある。この場合でも、微細パターンの近辺を囲
むように設けられることに変わりない。
れているが、その変形として必要な個所に相当の
大きさのすなわち島状の光反射領域を設けること
もある。この場合でも、微細パターンの近辺を囲
むように設けられることに変わりない。
本考案は以上のようなものであり、被検査パタ
ーン外の無関係の所を選んで光反射領域を設ける
ものであるから、被検査パターンに対して何んら
の影響も与えず、一枚の透明基板に多数形成され
た低反射性の微細パターンの欠陥検査の際に個々
の微細パターンに対して自動焦点合せ機構が援用
できるので、能率的な焦点合せにより、迅速な欠
陥検査を可能にするものである。
ーン外の無関係の所を選んで光反射領域を設ける
ものであるから、被検査パターンに対して何んら
の影響も与えず、一枚の透明基板に多数形成され
た低反射性の微細パターンの欠陥検査の際に個々
の微細パターンに対して自動焦点合せ機構が援用
できるので、能率的な焦点合せにより、迅速な欠
陥検査を可能にするものである。
第１図は、本考案の被検査体の一実施例を示す
平面図である。 １……透明基板、２……色分解フイルタ、３…
…光反射領域。
平面図である。 １……透明基板、２……色分解フイルタ、３…
…光反射領域。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 １ ガラス等の透明基板上に低反射性の検査対象
微細パターンが間隔をおいて多数形成されてな
り、該各パターン領域を取り巻くように自動焦
点合せ機構の目標となる光反射領域を前記透明
基板上に設けたことを特徴とするパターン被検
査体。 ２ 光反射領域が島状に設けられてなる実用新案
登録請求の範囲第１項記載のパターン被検査
体。 ３ 光反射領域が連続状に設けられてなる実用新
案登録請求の範囲第１項記載のパターン被検査
体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1981136913U JPS5842807U (ja) | 1981-09-14 | 1981-09-14 | パタ−ン被検査体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1981136913U JPS5842807U (ja) | 1981-09-14 | 1981-09-14 | パタ−ン被検査体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5842807U JPS5842807U (ja) | 1983-03-22 |
| JPS6226754Y2 true JPS6226754Y2 (ja) | 1987-07-09 |
Family
ID=29930217
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1981136913U Granted JPS5842807U (ja) | 1981-09-14 | 1981-09-14 | パタ−ン被検査体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5842807U (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5026535A (ja) * | 1973-07-07 | 1975-03-19 |
-
1981
- 1981-09-14 JP JP1981136913U patent/JPS5842807U/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5026535A (ja) * | 1973-07-07 | 1975-03-19 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5842807U (ja) | 1983-03-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6350024U (ja) | ||
| US5173599A (en) | Color image reading apparatus with blazed diffraction grating | |
| KR960003482B1 (ko) | 액정 표시 장치의 칼라 필터 제조방법 | |
| JPS6226754Y2 (ja) | ||
| JPS6167003A (ja) | カラ−イメ−ジセンサ− | |
| JPH0968705A (ja) | アライメントマークとアライメント方法 | |
| GB2043884A (en) | Inspection apparatus for detecting pattern defects | |
| JPH0232302A (ja) | カラーフィルタの製造方法 | |
| JPS6266755A (ja) | 画像読取装置 | |
| JPH0621771B2 (ja) | 透明電極膜パターンの検出方法 | |
| JPS61249034A (ja) | カメラ | |
| JPH10281932A (ja) | カラーフィルタ基板の検査装置 | |
| JP2000097674A (ja) | 位置決め用マークの検出方法および位置合わせ方法 | |
| JP2824258B2 (ja) | パターン形成時のオートアライメント方法 | |
| JPH01149459A (ja) | カラー固体撮像素子 | |
| JP3090737B2 (ja) | ガラス板状物の画像認識方法 | |
| JPS5630381A (en) | Image pickup unit | |
| JPH02234040A (ja) | カラーフィルタの分光特性測定方法およびカラーフィルタの製造方法 | |
| JPS5677826A (en) | Focal plate | |
| JPH0465971B2 (ja) | ||
| JPS6245496A (ja) | レ−ザ用反射形マスク | |
| JPH02210402A (ja) | 識別マーク付カラーフィルター | |
| JPS61256241A (ja) | 色分解フイルタの検査装置 | |
| JPH03179868A (ja) | カラー画像読取装置 | |
| JPS61137913U (ja) |