JPS62266792A - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置Info
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- JPS62266792A JPS62266792A JP61111309A JP11130986A JPS62266792A JP S62266792 A JPS62266792 A JP S62266792A JP 61111309 A JP61111309 A JP 61111309A JP 11130986 A JP11130986 A JP 11130986A JP S62266792 A JPS62266792 A JP S62266792A
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- 230000007704 transition Effects 0.000 claims description 9
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
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- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 2
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- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 2
- BDEDPKFUFGCVCJ-UHFFFAOYSA-N 3,6-dihydroxy-8,8-dimethyl-1-oxo-3,4,7,9-tetrahydrocyclopenta[h]isochromene-5-carbaldehyde Chemical compound O=C1OC(O)CC(C(C=O)=C2O)=C1C1=C2CC(C)(C)C1 BDEDPKFUFGCVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C8/00—Arrangements for selecting an address in a digital store
- G11C8/08—Word line control circuits, e.g. drivers, boosters, pull-up circuits, pull-down circuits, precharging circuits, for word lines
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/41—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming static cells with positive feedback, i.e. cells not needing refreshing or charge regeneration, e.g. bistable multivibrator or Schmitt trigger
- G11C11/413—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing, timing or power reduction
- G11C11/414—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing, timing or power reduction for memory cells of the bipolar type
- G11C11/415—Address circuits
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Static Random-Access Memory (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野J
この発明は、半導体記憶装置に関し、特にワード線/+
2電回路を改良した半導体記憶装置に関する。
2電回路を改良した半導体記憶装置に関する。
[従来の技術]
第3図は従来の半導体記憶装置の一部を示すブロック図
である。、図において、正側ワード線1と負側ワード線
2とで構成されるワード線対が複数対設けられるととも
に、正側ビットlI/jA3と負側ビット$14とで構
成されるビット線対が複数対設けられる。これらワード
線対とビット線対の各交点には、メモリセル5が接続さ
れる。このメモリセル5は上記ワード線対およびビット
線対によって選択されて情報の記憶および続出を行なう
。各正側ビットl1i1には、ワード線駆動回路6が接
続される。このワード線駆動回路6によって、正側ワー
ドI!11は選択時には^電位に、非選択時には低電位
に駆動される。一方、各負側ワード線2には、定m流源
(以下、その大きざをIHとする)7が接続される。こ
の定電51源7は、メモリセル5の記憶保持のためのも
のである。また、各負側ワードta2は、それぞれダイ
オード8を介してワード線放電用定電流源9(以下、そ
の大きさをIDCとする)にIfinされる。これらダ
イオード8および定電流#i9でワード線IJ1電回路
10を構成している。
である。、図において、正側ワード線1と負側ワード線
2とで構成されるワード線対が複数対設けられるととも
に、正側ビットlI/jA3と負側ビット$14とで構
成されるビット線対が複数対設けられる。これらワード
線対とビット線対の各交点には、メモリセル5が接続さ
れる。このメモリセル5は上記ワード線対およびビット
線対によって選択されて情報の記憶および続出を行なう
。各正側ビットl1i1には、ワード線駆動回路6が接
続される。このワード線駆動回路6によって、正側ワー
ドI!11は選択時には^電位に、非選択時には低電位
に駆動される。一方、各負側ワード線2には、定m流源
(以下、その大きざをIHとする)7が接続される。こ
の定電51源7は、メモリセル5の記憶保持のためのも
のである。また、各負側ワードta2は、それぞれダイ
オード8を介してワード線放電用定電流源9(以下、そ
の大きさをIDCとする)にIfinされる。これらダ
イオード8および定電流#i9でワード線IJ1電回路
10を構成している。
ところで、成るワード線対が選択状態から非選択状態と
なるとき、別のワード線対が非選択状態から選択状態に
なる。このとき、選択状態から非選択状態となるワード
線電位の立ちドがりが遅いと、一時的にワード線の2重
選択状態になり、読出時には、読出す記憶情報の検出が
遅れ、またさ込時には、直前に選択されていたメモリセ
ルに1込が行なわれ、誤動作の原因とI≧る。したがっ
て、浸出時間の^連化、誤麿込防止のために、ワードI
iI電位の選択から非選択への立ち下がりは高速に行な
う必要がある。
なるとき、別のワード線対が非選択状態から選択状態に
なる。このとき、選択状態から非選択状態となるワード
線電位の立ちドがりが遅いと、一時的にワード線の2重
選択状態になり、読出時には、読出す記憶情報の検出が
遅れ、またさ込時には、直前に選択されていたメモリセ
ルに1込が行なわれ、誤動作の原因とI≧る。したがっ
て、浸出時間の^連化、誤麿込防止のために、ワードI
iI電位の選択から非選択への立ち下がりは高速に行な
う必要がある。
w43図に示したワード線駆動回路10では、複数本の
1:4mワード線2のうち、最高電位のものが、ダイオ
ード8を介して定電流源9につながる。ここで、最高電
位となる負側ワード線2に対応するワード線1は選択状
態となっている。したがって。
1:4mワード線2のうち、最高電位のものが、ダイオ
ード8を介して定電流源9につながる。ここで、最高電
位となる負側ワード線2に対応するワード線1は選択状
態となっている。したがって。
成るワード線対が選択状態から非選択状態に遷移すると
き、当該ワード線対に属する負側ワード線2は定電流源
7および9のいずれとも接続されており、IH+IDC
の電流でワード線が放電される。そのため、高速立ち下
がりが実現される。
き、当該ワード線対に属する負側ワード線2は定電流源
7および9のいずれとも接続されており、IH+IDC
の電流でワード線が放電される。そのため、高速立ち下
がりが実現される。
[発明が解決しようとする問題点]
しかし、第3図に示したワード纏放電回路10は、最高
電位の負側ワード12に対してのみ放電経路を形成する
ものであるため、以下のような問題点があった。
電位の負側ワード12に対してのみ放電経路を形成する
ものであるため、以下のような問題点があった。
112図は、選択状態から非選択状態および非選択状態
から選択状態へのi曹移時におけるfQ1111ワード
線電位の時間変化を示したもので、横軸は時間を表わし
、縦軸は負側ワード11電位を表わしている。この第2
図において、線21は選択状態から非選択状態へ11移
する負側ワード線電位を示し、[122は非選択状態か
ら選択状態へ遷移する負側ツー61111位を示す。1
121と22の角鋼ワード線電位が一致する点Qに注目
すると、選択状態から非選択状態へ4移するWA21の
負側ワードIi1電位は、点Q以模最高電位ではなくな
るため、その放am流はIH+IDCからIHのみとな
る。したがって、121の立ち下がりは、点Q以後第2
図の破線で示すように緩かになり、ワード線2I!選択
時間が長く続くことになる。点Q以侵、IDCは非選択
状態から選択状態へ遷移する負側ワードI!2により供
給される。
から選択状態へのi曹移時におけるfQ1111ワード
線電位の時間変化を示したもので、横軸は時間を表わし
、縦軸は負側ワード11電位を表わしている。この第2
図において、線21は選択状態から非選択状態へ11移
する負側ワード線電位を示し、[122は非選択状態か
ら選択状態へ遷移する負側ツー61111位を示す。1
121と22の角鋼ワード線電位が一致する点Qに注目
すると、選択状態から非選択状態へ4移するWA21の
負側ワードIi1電位は、点Q以模最高電位ではなくな
るため、その放am流はIH+IDCからIHのみとな
る。したがって、121の立ち下がりは、点Q以後第2
図の破線で示すように緩かになり、ワード線2I!選択
時間が長く続くことになる。点Q以侵、IDCは非選択
状態から選択状態へ遷移する負側ワードI!2により供
給される。
したがって、従来の回路では、ワード線放電回路10を
!Qけたもののその効果が発揮されるのは点Qまでであ
り、以侵は放電速度が遅(なり、ワード線の電位をさほ
ど高速に立ち下げることができないという問題点があっ
た。
!Qけたもののその効果が発揮されるのは点Qまでであ
り、以侵は放電速度が遅(なり、ワード線の電位をさほ
ど高速に立ち下げることができないという問題点があっ
た。
この発明は、上記のような従来のものの欠点を解消する
ためになされたもので、ワード線電位が完全に非選択電
位になるまでワード線を高速で放電し得るような半導体
記憶4iaを提供することを目的とする。
ためになされたもので、ワード線電位が完全に非選択電
位になるまでワード線を高速で放電し得るような半導体
記憶4iaを提供することを目的とする。
[゛問題点を解決するための手段]
この発明にかかる半導体記憶装置は、ワード線放電用定
電流源を2111i1設け、ワード線が選択状態から非
選択状態へ遷移するときの前半JIJ間は第1の定電流
源に対して放電経路を形成し、模半期間では第2の定電
流源に対して放電経路を形成するようにしたものである
。
電流源を2111i1設け、ワード線が選択状態から非
選択状態へ遷移するときの前半JIJ間は第1の定電流
源に対して放電経路を形成し、模半期間では第2の定電
流源に対して放電経路を形成するようにしたものである
。
この発明においては、選択状態から非選択状態へ遷移す
るワード線は、他のワード線が最高電位になった後も第
2のワード線放電用定電流源から電流を引き後かれ、ワ
ード線電位の高速立ち下げを実現する。
るワード線は、他のワード線が最高電位になった後も第
2のワード線放電用定電流源から電流を引き後かれ、ワ
ード線電位の高速立ち下げを実現する。
し実施例コ
第1図はこの発明の一実m例を示す回路図である。なお
、この第1図は、説明の簡略化のため、1対のワード線
の系に関連する構成のみを示しているが、その他の系の
構成もこの第1図と同様であることを予め宿摘しておく
。
、この第1図は、説明の簡略化のため、1対のワード線
の系に関連する構成のみを示しているが、その他の系の
構成もこの第1図と同様であることを予め宿摘しておく
。
図において、正側ワード線1.負側ワード線2゜正側ビ
ット線3.負側ビット14.メモリセル5゜ワード線駆
動回路6および記憶保持のための定電流源7については
、第3図の回路と同様である。
ット線3.負側ビット14.メモリセル5゜ワード線駆
動回路6および記憶保持のための定電流源7については
、第3図の回路と同様である。
この実施例の特徴は、ワード線放電用定電流源として2
つの定電流源11および12を設けたことと、各負側ワ
ード線2に新たなワード線放電回路10を設けたことで
ある。第1および第2の放電用定電流源11および12
は各負側ワードI!1!2に共通に設けられ、ワード線
放電回路10は各負側ワード線2ごとに設置ブられる。
つの定電流源11および12を設けたことと、各負側ワ
ード線2に新たなワード線放電回路10を設けたことで
ある。第1および第2の放電用定電流源11および12
は各負側ワードI!1!2に共通に設けられ、ワード線
放電回路10は各負側ワード線2ごとに設置ブられる。
ワード線放N回路10は、抵抗13.14と、トランジ
スタ15.16とから構成される。抵抗13および14
は直列接続され、*IIJワード纏2とトランジスタ1
5のコレクタとの間に介挿される。また、抵抗13と1
4との接続点は、トランジスタ15のベースに接続され
る。トランジスタ15の1ミツタは第1の放電用足’I
t流源1]に接続される。トランジスタ16は、そのコ
レクタがn 11ワードJl!i12に接続され、その
ベースがトランジスタ15のコレクタに接続され、その
エミッタが第2の放電用定電流源12に接続される。
スタ15.16とから構成される。抵抗13および14
は直列接続され、*IIJワード纏2とトランジスタ1
5のコレクタとの間に介挿される。また、抵抗13と1
4との接続点は、トランジスタ15のベースに接続され
る。トランジスタ15の1ミツタは第1の放電用足’I
t流源1]に接続される。トランジスタ16は、そのコ
レクタがn 11ワードJl!i12に接続され、その
ベースがトランジスタ15のコレクタに接続され、その
エミッタが第2の放電用定電流源12に接続される。
上記のような構成において、トランジスタ15は対応の
ワード線対が選択状態から非選択状態へ遷移するときの
前半14間(第2図に示す点Q以舶)に4ンされ、第1
の放電用足1sR811に対する放’1回路を形成する
。一方、トランジスタ16は上記遷移時の後半期j!
(第2図の点Q以侵)にオンされ、第2の旗電用定電流
源12に対する放電経路を形成する。したがりて、i側
ワード1IiI2はその電位が完全に非選択電位になる
までいずれかの定′I@流源11.12によって放電さ
れることになる。
ワード線対が選択状態から非選択状態へ遷移するときの
前半14間(第2図に示す点Q以舶)に4ンされ、第1
の放電用足1sR811に対する放’1回路を形成する
。一方、トランジスタ16は上記遷移時の後半期j!
(第2図の点Q以侵)にオンされ、第2の旗電用定電流
源12に対する放電経路を形成する。したがりて、i側
ワード1IiI2はその電位が完全に非選択電位になる
までいずれかの定′I@流源11.12によって放電さ
れることになる。
次に、上記ズ施例のさらに詳細な動作について説明する
。なお、以下の説明では、定’Ram7の大きざを!H
で表わし、第1の枚重用定′R流源11の大きさをID
Clで表わし、第2の放電用定電流1R12の大きさを
IDC2で表わし、抵抗13の大きざをR1で表わし、
抵抗14の大きざをR2で表わすこととする。また、ワ
ード線駆動回路10にお番ブる電位変化を明確にするた
めに、抵抗13と14との接続点をノードN1とし、抵
抗14とトランジスタ15のコレクタとの接続点をノー
ドN2とする。
。なお、以下の説明では、定’Ram7の大きざを!H
で表わし、第1の枚重用定′R流源11の大きさをID
Clで表わし、第2の放電用定電流1R12の大きさを
IDC2で表わし、抵抗13の大きざをR1で表わし、
抵抗14の大きざをR2で表わすこととする。また、ワ
ード線駆動回路10にお番ブる電位変化を明確にするた
めに、抵抗13と14との接続点をノードN1とし、抵
抗14とトランジスタ15のコレクタとの接続点をノー
ドN2とする。
今、第1図に示されるワード線の系が選択状態から非選
択状態に遷移するものとし、こ−のワード線の系に注目
しつつ正側ワード線1のIIl′I@仙作を説明する。
択状態に遷移するものとし、こ−のワード線の系に注目
しつつ正側ワード線1のIIl′I@仙作を説明する。
前述の第2図において、点Q以前は、注目の系の負側ワ
ード線2の電位は他の系の負側ワード線2に対し、R轟
電位にあるため、ノードN1は他の系のワード線放電回
路10にお(プるノードN1に対し、最a11位にある
。そのため、注目の系のトランジスタ15のベース電位
が他の系のトランジスタ15のベース電位に比べてR高
電位となり、注目の系のトランジスタ15が導通する。
ード線2の電位は他の系の負側ワード線2に対し、R轟
電位にあるため、ノードN1は他の系のワード線放電回
路10にお(プるノードN1に対し、最a11位にある
。そのため、注目の系のトランジスタ15のベース電位
が他の系のトランジスタ15のベース電位に比べてR高
電位となり、注目の系のトランジスタ15が導通する。
したがって、注目の系では、第1の放電同定fji流g
t11に対して放電経路が形成される。ここで、放1!
’1!l0CIが十分に大きいと、11 gの系のトラ
ンジスタ15のベース電位、すなわちノードN1の電位
番よ、非選択状態にある他の系のワード線枚電回路10
におけるノードN1の電位と同じ大きさになるまで下が
る。このとき、非選択状態にある他の系のli5[電回
路1oにおけろノードN1の電位は、はぼ非選択nmワ
ード線電位と同じ電位になる。また、当該他の系におい
ては、放?IIIglv810におけるトランジスタ1
5が導通していないため、ノードN2の電位、Fjなり
ちトランジスタ16のベース電位は、゛ノードN1と1
一様、非選択負側ワード線電位とほぼ等しくなる。一方
、注目の系においでは、トランジスタ15が導通し、こ
のトランジスタ15には放電電流IDClが流れるため
、トランジスタ16のベース電位は、ノードN″1の電
位からIDC1×R2LvJ下がる。
t11に対して放電経路が形成される。ここで、放1!
’1!l0CIが十分に大きいと、11 gの系のトラ
ンジスタ15のベース電位、すなわちノードN1の電位
番よ、非選択状態にある他の系のワード線枚電回路10
におけるノードN1の電位と同じ大きさになるまで下が
る。このとき、非選択状態にある他の系のli5[電回
路1oにおけろノードN1の電位は、はぼ非選択nmワ
ード線電位と同じ電位になる。また、当該他の系におい
ては、放?IIIglv810におけるトランジスタ1
5が導通していないため、ノードN2の電位、Fjなり
ちトランジスタ16のベース電位は、゛ノードN1と1
一様、非選択負側ワード線電位とほぼ等しくなる。一方
、注目の系においでは、トランジスタ15が導通し、こ
のトランジスタ15には放電電流IDClが流れるため
、トランジスタ16のベース電位は、ノードN″1の電
位からIDC1×R2LvJ下がる。
したがって、注目の系のトランジスタ16のベース電位
は、他の系のトランジスタ16のベース電位よりも低く
なるため、注目の系のトランジスタ16は導通しない。
は、他の系のトランジスタ16のベース電位よりも低く
なるため、注目の系のトランジスタ16は導通しない。
したがって、第2の放電用定電81源12に対しては放
電経路が形成されない。
電経路が形成されない。
以上の動作が、第2図における点Qまで維持され1、注
目の系のf411!lワードta2は第1の放電用定電
、流源11によって放電される。なお、上記放電m1i
lEIDc1が十分に大きくないと、注目の系における
ノードN2の電位は非選択状態にある他の系のノードN
2の電位よりも低くならないため、以下に説明する点Q
以後の動作がなされない。そのために、第1の放電用定
電5m!1111の定ll流値が十分に大きく選ばれ、
また抵抗13および14の纏が適当な値に選ばれる。
目の系のf411!lワードta2は第1の放電用定電
、流源11によって放電される。なお、上記放電m1i
lEIDc1が十分に大きくないと、注目の系における
ノードN2の電位は非選択状態にある他の系のノードN
2の電位よりも低くならないため、以下に説明する点Q
以後の動作がなされない。そのために、第1の放電用定
電5m!1111の定ll流値が十分に大きく選ばれ、
また抵抗13および14の纏が適当な値に選ばれる。
次に1点Q以後は、注目の系の負側ワード線2の電位は
、全体の系の中で2a!目に高い電位となる。最高電位
となるのは、他の系において非選択状態から選択状態に
なる負側ワード[12である。
、全体の系の中で2a!目に高い電位となる。最高電位
となるのは、他の系において非選択状態から選択状態に
なる負側ワード[12である。
台系に設各プられたワード編放電回路10において、第
1の放電用定電流11111に放電電流IDC1を供給
するのは、最高電位にある負側ワード線2に接続された
トランジスタ15であるため、今注目している系の負側
ワード12に接続されるトランジスタ15は導通しない
。前述したごとく、最高電位にある負側ワード112に
対応するノードN2は非選択ワード11121位にトが
るので、注目の系のワード線放電回路10におけるノー
ドN2が他の系のノードN2に対し、最高電位となる。
1の放電用定電流11111に放電電流IDC1を供給
するのは、最高電位にある負側ワード線2に接続された
トランジスタ15であるため、今注目している系の負側
ワード12に接続されるトランジスタ15は導通しない
。前述したごとく、最高電位にある負側ワード112に
対応するノードN2は非選択ワード11121位にトが
るので、注目の系のワード線放電回路10におけるノー
ドN2が他の系のノードN2に対し、最高電位となる。
したがって、トランジスタ16が導通し、第2の放電用
定電流wA12に対して放電経路が形成される。以後(
点Q以後)、注目の系の負側ワードl112が非J11
択ワード線電位になるまで、上記動作が維持され、注目
の系の負側ワード1112は第2の放電用定電流源12
によって放電11f%EIDc2で放電される。
定電流wA12に対して放電経路が形成される。以後(
点Q以後)、注目の系の負側ワードl112が非J11
択ワード線電位になるまで、上記動作が維持され、注目
の系の負側ワード1112は第2の放電用定電流源12
によって放電11f%EIDc2で放電される。
以上のごとく、上記実施例では、点Q以後も第2の放電
用定電流1112によって負側ワード12から大きな放
電電流が引き後かれるので、選択状態から非選択状態へ
移行するり−ド榛の電位を^速に立ちトげることができ
る。
用定電流1112によって負側ワード12から大きな放
電電流が引き後かれるので、選択状態から非選択状態へ
移行するり−ド榛の電位を^速に立ちトげることができ
る。
なお、上記実施例では、負側ワード[2とトランジスタ
15の」レクタとの間に抵抗13および14を介挿する
ようにしたが、これら抵抗13.)jよび14をダイオ
ードに置換えてもよい。この場合、ダイオードの順方向
抵抗降下を利用することになる。
15の」レクタとの間に抵抗13および14を介挿する
ようにしたが、これら抵抗13.)jよび14をダイオ
ードに置換えてもよい。この場合、ダイオードの順方向
抵抗降下を利用することになる。
[発明の効果]
以上のように、この発明によれば、ワード線を選択状態
から非選択状態へiI移する過程で、ワード線電位が完
全に非選択状態になるまで、大きなN8mでワード線を
放電できるため、ワード線電位の^連立ち上げが可能と
なり、読出動作の高速化および廁込動作における誤動作
を防止することができる。
から非選択状態へiI移する過程で、ワード線電位が完
全に非選択状態になるまで、大きなN8mでワード線を
放電できるため、ワード線電位の^連立ち上げが可能と
なり、読出動作の高速化および廁込動作における誤動作
を防止することができる。
第1rtjはこの発明の一実施例を示す回路図である。
第2図はこの発明の一実施例および従来回路のf4Il
lワード線電位の変化状態を示ブグラフである。 第3図は従来の半導体記憶装置の一例を示づブロック図
である。 図において、1は正側ワード線、2は負側ワード線、3
は正側ビット線、4は負側ビット線、5はメモリセル、
6はビット線駆動回路、7は記憶保持用の定電FIL源
、10はワード線放電回路、11は第1の放電用足1!
流源、12は第2の放電用定電流源を示す。
lワード線電位の変化状態を示ブグラフである。 第3図は従来の半導体記憶装置の一例を示づブロック図
である。 図において、1は正側ワード線、2は負側ワード線、3
は正側ビット線、4は負側ビット線、5はメモリセル、
6はビット線駆動回路、7は記憶保持用の定電FIL源
、10はワード線放電回路、11は第1の放電用足1!
流源、12は第2の放電用定電流源を示す。
Claims (3)
- (1)複数のワード線対と、複数のビット線対と、各ワ
ード線対とビット線対の交点に接続された複数のメモリ
セルとを有する半導体記憶装置において、 第1の放電用定電流源、 第2の放電用定電流源、および 前記各ワード線対において電位の低い方のワード線、す
なわち負側ワード線に個別に設けられ、対応のワード線
が選択状態から非選択状態に遷移されるときに当該遷移
時の前半期間で前記第1の放電用定電流源へのワード線
放電経路を形成し、当該遷移時の後半期間で前記第2の
放電用定電流源へのワード線放電経路を形成する複数の
ワード線放電回路を備え、 前記ワード線放電回路は、 直列接続された第1および第2の抵抗手段と、そのコレ
クタが前記第1および第2の抵抗手段を介して前記負側
ワード線に接続され、そのベースが前記第1および第2
の抵抗手段の接続点に接続され、そのエミッタが前記第
1の放電用定電流源に接続された第1のトランジスタと
、 そのコレクタが前記負側ワード線に接続され、そのベー
スが前記第1のトランジスタのコレクタに接続され、そ
のエミッタが前記第2の放電用定電流源に接続された第
2のトランジスタとを含む、半導体記憶装置。 - (2)前記第1および第2の抵抗手段は、抵抗素子であ
る、特許請求の範囲第1項記載の半導体記憶装置。 - (3)前記第1および第2の抵抗手段は、ダイオードで
ある、特許請求の範囲第1項記載の半導体記憶装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61111309A JPS62266792A (ja) | 1986-05-13 | 1986-05-13 | 半導体記憶装置 |
US07/046,788 US4821234A (en) | 1986-05-13 | 1987-05-07 | Semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61111309A JPS62266792A (ja) | 1986-05-13 | 1986-05-13 | 半導体記憶装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62266792A true JPS62266792A (ja) | 1987-11-19 |
Family
ID=14557958
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61111309A Pending JPS62266792A (ja) | 1986-05-13 | 1986-05-13 | 半導体記憶装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4821234A (ja) |
JP (1) | JPS62266792A (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA2042432A1 (en) * | 1990-05-31 | 1991-12-01 | Robert M. Reinschmidt | Memory selection circuit |
US5117391A (en) * | 1990-06-04 | 1992-05-26 | Motorola, Inc. | Bipolar memory cell array biasing technique with forward active PNP load cell |
JPH05205483A (ja) * | 1992-01-23 | 1993-08-13 | Sony Corp | バイポーラram回路 |
US6545923B2 (en) * | 2001-05-04 | 2003-04-08 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Negatively biased word line scheme for a semiconductor memory device |
KR100510484B1 (ko) * | 2002-01-24 | 2005-08-26 | 삼성전자주식회사 | 워드라인 방전방법 및 이를 이용하는 반도체 메모리장치 |
KR100666173B1 (ko) * | 2005-02-04 | 2007-01-09 | 삼성전자주식회사 | 네가티브로 제어되는 서브 워드라인 구조의 반도체 메모리장치 및 이의 구동방법 |
US9257154B2 (en) * | 2012-11-29 | 2016-02-09 | Micron Technology, Inc. | Methods and apparatuses for compensating for source voltage |
JP2018121243A (ja) * | 2017-01-26 | 2018-08-02 | 東芝メモリ株式会社 | 放電回路及び半導体記憶装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4393476A (en) * | 1981-07-13 | 1983-07-12 | Fairchild Camera & Instrument Corp. | Random access memory dual word line recovery circuitry |
-
1986
- 1986-05-13 JP JP61111309A patent/JPS62266792A/ja active Pending
-
1987
- 1987-05-07 US US07/046,788 patent/US4821234A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4821234A (en) | 1989-04-11 |
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