JPS622600B2 - - Google Patents
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-
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07K—PEPTIDES
- C07K5/00—Peptides containing up to four amino acids in a fully defined sequence; Derivatives thereof
- C07K5/04—Peptides containing up to four amino acids in a fully defined sequence; Derivatives thereof containing only normal peptide links
- C07K5/06—Dipeptides
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-
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- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
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-
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
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-
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- C07F9/65613—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom containing systems of two or more relevant hetero rings condensed among themselves or condensed with a common carbocyclic ring or ring system, with or without other non-condensed hetero rings containing the ring system (X = CH2, O, S, NH) optionally with an additional double bond and/or substituents, e.g. cephalosporins and analogs
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Description
本発明は抗菌性を有する新規セフアロスポリン
化合物の製造中間体に関する。さらに詳しくは、
本発明ある種の細菌感染症の治療法および治療用
医薬組成物に用いられるセフエム核3位にホスホ
ノアルキルまたはエステル化ホスホノアルキル置
換テトラゾリルチオメチル基を有することにより
特徴づけられる生物学的に活性なセフアロスポリ
ン化合物の製造中間体に関する。 本発明の化合物は式: 〔式中、nは1〜5;R2およびR3は、各々、
水素または炭素数1〜4のアルキルを意味する〕 で示される化合物を提供するものである。 本発明のR2およびR3が共にアルキルの式
()のジアルコキシホスフイニルアルキルテト
ラゾールチオールは1−(ジエトキシホスフイニ
ル)メチルジチオカルバミン酸メチルエステルの
ようなジアルコキシホスフイニルアルキルジチオ
カルバミン酸エステルとナトリウムアジドのよう
なアジドを反応させて製造される。該ジアルコキ
シホスフイニルアルキルジチオカルバミン酸エス
テルは、例えば、アミノエチルホスホン酸ジエチ
ルのようなアミノアルキルホスホン酸ジアルキル
エステルと二硫化炭素およびヨウ化メチルような
ハロゲン化アルキルを反応させて製造される。 該アミノアルキルホスホン酸ジアルキルエステ
ルは公知ではなく、ヤマウチら〔Yamauchi et
al..Bull.Chem.Soc.Japan 48:3285(1975)〕の
方法に従つて、フタルイミドアルキルホスホン酸
ジアルキルエステルをヒドラジンで処理して製造
される。フタルイミドアルキルホスホン酸ジアル
キルエステルはN−ヒドロキシアルキルフタルイ
ミドと三臭化リンを反応させ、得られたN−ブロ
モアルキルフタルイミドを、ヤマウチら
〔Yamauchi et al..Bull.Chem.Soc.Japan 45:
2531(1972)〕に記載するごとく、亜リン酸トリ
アルキルエステルと反応させて製造される。 R2およびR3の一方が水素で、他方がアルキル
の場合、式()のアルコキシヒドロキシホスフ
イニルアルキルテトラゾールチオールは、対応す
るジアルコキシホスフイニルアルキルテトラゾー
ルチオールを塩基性加水分解して製造される。 R2およびR3の両方が水素の場合、式()の
ホスホノアルキルテトラゾールチオールは対応す
るジアルコキシホスフイニルアルキルテトラゾー
ルチオールを濃塩酸および酢酸の混合液で処理し
て製造される。 本発明の化合物は式: 〔式中、Wは水素またはメトキシ;R1はセフ
アロスポリンの分野における7−置換基として公
知の医薬上許容されるアシル基;R2およびR3
は、各々、水素または炭素数1〜4のアルキル;
nは1〜5を意味する〕 で示される化合物またはその非毒性の医薬上許容
される塩もしくは水化物の製造に有用な中間体で
ある。 式()の化合物の代表的な7−アシル置換基
は、式:
化合物の製造中間体に関する。さらに詳しくは、
本発明ある種の細菌感染症の治療法および治療用
医薬組成物に用いられるセフエム核3位にホスホ
ノアルキルまたはエステル化ホスホノアルキル置
換テトラゾリルチオメチル基を有することにより
特徴づけられる生物学的に活性なセフアロスポリ
ン化合物の製造中間体に関する。 本発明の化合物は式: 〔式中、nは1〜5;R2およびR3は、各々、
水素または炭素数1〜4のアルキルを意味する〕 で示される化合物を提供するものである。 本発明のR2およびR3が共にアルキルの式
()のジアルコキシホスフイニルアルキルテト
ラゾールチオールは1−(ジエトキシホスフイニ
ル)メチルジチオカルバミン酸メチルエステルの
ようなジアルコキシホスフイニルアルキルジチオ
カルバミン酸エステルとナトリウムアジドのよう
なアジドを反応させて製造される。該ジアルコキ
シホスフイニルアルキルジチオカルバミン酸エス
テルは、例えば、アミノエチルホスホン酸ジエチ
ルのようなアミノアルキルホスホン酸ジアルキル
エステルと二硫化炭素およびヨウ化メチルような
ハロゲン化アルキルを反応させて製造される。 該アミノアルキルホスホン酸ジアルキルエステ
ルは公知ではなく、ヤマウチら〔Yamauchi et
al..Bull.Chem.Soc.Japan 48:3285(1975)〕の
方法に従つて、フタルイミドアルキルホスホン酸
ジアルキルエステルをヒドラジンで処理して製造
される。フタルイミドアルキルホスホン酸ジアル
キルエステルはN−ヒドロキシアルキルフタルイ
ミドと三臭化リンを反応させ、得られたN−ブロ
モアルキルフタルイミドを、ヤマウチら
〔Yamauchi et al..Bull.Chem.Soc.Japan 45:
2531(1972)〕に記載するごとく、亜リン酸トリ
アルキルエステルと反応させて製造される。 R2およびR3の一方が水素で、他方がアルキル
の場合、式()のアルコキシヒドロキシホスフ
イニルアルキルテトラゾールチオールは、対応す
るジアルコキシホスフイニルアルキルテトラゾー
ルチオールを塩基性加水分解して製造される。 R2およびR3の両方が水素の場合、式()の
ホスホノアルキルテトラゾールチオールは対応す
るジアルコキシホスフイニルアルキルテトラゾー
ルチオールを濃塩酸および酢酸の混合液で処理し
て製造される。 本発明の化合物は式: 〔式中、Wは水素またはメトキシ;R1はセフ
アロスポリンの分野における7−置換基として公
知の医薬上許容されるアシル基;R2およびR3
は、各々、水素または炭素数1〜4のアルキル;
nは1〜5を意味する〕 で示される化合物またはその非毒性の医薬上許容
される塩もしくは水化物の製造に有用な中間体で
ある。 式()の化合物の代表的な7−アシル置換基
は、式:
【式】および
【式】
〔式中、Xはチエニル、フエニルまたはモノ置
換フエニル(置換基はヒドロキシ、ヒドロキシメ
チル、ホルムアミドまたはウレイド);Aは
NH2、OH、COOH、SO3Hまたはホルミルオキ
シ;Yはシアノ、シドノン、ピリドン、チエニ
ル、テトラゾリルまたはアミノメチルフエニル;
Zはメチル、トリフルオロメチル、トリフルオロ
エチル、ピリジルまたはシアノメチル;mは0〜
2を意味する〕 で示される基から選ばれる。 好ましい基はnが1の式()の化合物であ
る。 nが1、R2およびR3が水素の式()の化合
物も好ましい。 また、nが1、R2およびR3の一方がアルキ
ル、他方が水素の式()の化合物も好ましい。 さらに、nが1、R2およびR3が共にアルキル
の式()の化合物も好ましい。 ことに、nが1、R2およびR3が、各々、エチ
ルまたは水素、Wが水素、R1が
換フエニル(置換基はヒドロキシ、ヒドロキシメ
チル、ホルムアミドまたはウレイド);Aは
NH2、OH、COOH、SO3Hまたはホルミルオキ
シ;Yはシアノ、シドノン、ピリドン、チエニ
ル、テトラゾリルまたはアミノメチルフエニル;
Zはメチル、トリフルオロメチル、トリフルオロ
エチル、ピリジルまたはシアノメチル;mは0〜
2を意味する〕 で示される基から選ばれる。 好ましい基はnが1の式()の化合物であ
る。 nが1、R2およびR3が水素の式()の化合
物も好ましい。 また、nが1、R2およびR3の一方がアルキ
ル、他方が水素の式()の化合物も好ましい。 さらに、nが1、R2およびR3が共にアルキル
の式()の化合物も好ましい。 ことに、nが1、R2およびR3が、各々、エチ
ルまたは水素、Wが水素、R1が
【式】
(Xはフエニルまたはヒドロキシフエニル、Aは
NH2またはOH)の式()の化合物が好まし
い。 式()の化合物の7−アシル置換基(R1NH
−)の例はつぎのとおりである。 α−ヒドロキシフエニルアセトアミド、α−ア
ミノフエニルアセトアミド、α−アミノ−4−ヒ
ドロキシフエニルアセトアミド、トリフルオロメ
チルチオアセトアミド、2,2,2−トリフルオ
ロエチルスルフイニルアセトアミド、2,2,2
−トリフルオロエチルチオアセトアミド、シアノ
アセトアミド、α−カルボキシチエニルアセトア
ミド、α−カルボキシフエニルアセトアミド、α
−スルホフエニルアセトアミド、メチルスルホニ
ルアセトアミド、シアノメチルチオアセトアミ
ド、3−シドノンアセトアミド、1−テトラゾリ
ルアセトアミド、2−チエニルアセトアミド、4
−ピリジルチオアセトアミド、2−アミノメチル
フエニルアセトアミド 式()の化合物の例はつぎのとおりである。 7β−D−マンデルアミド−3−(1−ジエト
キシホスフイニルメチルテトラゾール−5−イル
チオメチル)−3−セフエム−4−カルボン酸、
7β−D−マンデルアミド−3−(1−エトキシ
ヒドロキシホスフイニルメチルテトラゾール−5
−イルチオメチル)−3−セフエム−4−カルボ
ン酸、7β−D−マンデルアミド−3−(1−ホ
スホノメチルテトラゾール−5−イルチオメチ
ル)−3−セフエム−4−カルボン酸、7β−(2
−チエニルアセトアミド)−3−(1−エトキシヒ
ドロキシホスフイニルメチルテトラゾール−5−
イルチオメチル)−3−セフエム−4−カルボン
酸、7β−(1−テトラゾリルアセトアミド)−3
−(1−エトキシヒドロキシホスフイニルメチル
テトラゾール−5−イルチオメチル)−3−セフ
エム−4−カルボン酸、7β−シアノメチルチオ
アセトアミド−3−(1−エトキシヒドロキシホ
スフイニルメチルテトラゾール−5−イルチオメ
チル)−3−セフエム−4−カルボン酸、7β−
(D−αアミノフエニルアセトアミド)−3−(1
−エトキシヒドロキシホスフイニルメチルテトラ
ゾール−5−イルチオメチル)−3−セフエム−
4−カルボン酸、7β−(D−α−アミノ−4−
ヒドロキシフエニルアセトアミド)−3−(1−エ
トキシヒドロキシホスフイニルメチルテトラゾー
ル−5−イルチオメチル)−3−セフエム−4−
カルボン酸、7β−D−マンデルアミド−7α−
メトキシ−3−(1−ホスホノメチルテトラゾー
ル−5−イルチオメチル)−3−セフエム−4−
カルボン酸、7β−(D−α−アミノフエニルア
セトアミド)−7α−メトキシ−3−(1−エトキ
シヒドロキシホスフイニルメチルテトラゾール−
5−イルチオメチル)−3−セフエム−4−カル
ボン酸、7α−メトキシ−7β−トリフルオロメ
チルチオアセトアミド−3−(1−エトキシヒド
ロキシホスフイニルメチルテトラゾール−5−イ
ルチオメチル)−3−セフエム−4−カルボン
酸、7α−メトキシ−7β−(2−チエニルアセ
トアミド)−3−(1−エトキシヒドロキシホスフ
イニルメチルテトラゾール−5−イルチオメチ
ル)−3−セフエム−4−カルボン酸、7β−D
−マンデルアミド−7α−メトキシ−3−(1−
ジエトキシホスフイニルメチルテトラゾール−5
−イルチオメチル)−3−セフエム−4−カルボ
ン酸、7β−D−マンデルアミド−7α−メトキ
シ−3−(1−エトキシヒドロキシホスフイニル
メチルテトラゾール−5−イルチオメチル)−3
−セフエム−4−カルボン酸 式()の化合物の4−カルボン酸基は公知の
方法で容易にエステル化される。これらのエステ
ルには、例えば、単純なアルキルおよびアリール
エステルならびにインダニル、ピバロイルオキシ
メチル、アセトキシメチル、プロピオニルオキシ
メチル、グリシルオキシメチル、フエニルグリシ
ルオキシメチルおよびチエニルグリシルオキシメ
チルエステルなどのような、体内で容易に開裂さ
れて親の酸となるエステルが包含される。もちろ
ん、AがCOOHの場合、この基も同様にエステ
ル化される。 前記のような7−アシル置換基を有するセフア
ロスポリン誘導体は従来から報告されている。ま
た、セフエム核の3位を、テトラゾリルチオメチ
ル基を包含する種々のS−複素環チオメチル基で
置換することも公知である。しかし、3−(ホス
ホノアルキルまたはエステル化ホスホノアルキル
置換テトラゾール)チオメチル基を有するセフア
ロスポリン化合物はこれまで見当らない。 Wが水素の場合、式()の化合物は、好まし
くは、7β−アミノセフアロスポラン酸(7−
ACA)を、要すれば適宜保護して、適当なアシ
ル化剤でアシル化し、ついで、その3−アセトキ
シ基を本発明の式()のホスホノアルキルまた
はエステル化ホスホノアルキルテトラゾールチオ
ールで置換し、保護基を離脱させて製造される。
ある種のアシル化剤、例えば、マンデル酸の保護
誘導体を用いる場合、置換を行なう前に、7−側
鎖から保護基を離脱させることが好ましい。 この反応の第1工程、すなわち、7−アシル化
におけるアシル化剤のカルボン酸基は、混酸無水
物、酸クロライド、酸イミダゾリドまたは活性エ
ステルに変えるような常法のいずれかにより活性
化される。さらにセフエム核のカルボキシル基
を、ベンズヒドリル、t−ブチル、トリクロロエ
チル、ベンジル、ベンジルオキシメチル、P−メ
トキシベンジルまたはP−ニトロベンジルエステ
ルのような容易に離脱できる保護基で保護すれ
ば、ジシクロヘキシルカルボジイミドのような試
薬を用いることができる。AがNH2の場合、アシ
ル化剤のα−アミノ基は、好ましくは、アシル化
の前に、t−ブトキシカルボニル、トリクロロエ
トキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、
アセト酢酸メチル付加物または通常、ペプチド合
成に用いられる同様な基のような容易に離脱でき
る保護基で保護される。 別法として、好ましくはWがメトキシの場合、
式()の化合物は、式: 〔式中、Wは水素またはメトキシ;nは1〜
5;R2およびR3は、各々、水素または炭素数1
〜4のアルキル;R4は水素または保護基を意味
する〕 で示される適当な7β−アミノ−3−(ホスホノ
アルキルまたはエステル化ホスホノアルキル置換
テトラゾリルチオメチル)セフアロスポリン核を
前記と同様に適当なアシル化剤でアシル化し、つ
いで保護基が存在する場合はこれを離脱させて製
造される。 保護基は、t−ブチルまたはt−ブトキシカル
ボニル保護基を用いた場合、トリフルオロ酢酸に
よるような公知の方法で離脱できる。得られた塩
はポリスチレン−アミンイオン交換樹脂(例え
ば、アンバーライトIR−45)のような塩基性イ
オン交換樹脂で、あるいは、該塩の水性溶液を塩
基性にすることにより双性イオン生成物あるいは
遊離酸に変えることができる。 出発物質として用いるアシル化剤は公知である
か、公知の方法で製造される。 Wが水素の式()で示される7β−アミノ−
3−(ホスホノアルキルおよびエステル化ホスホ
ノアルキルテトラゾリルチオメチル)セフアロス
ポリン出発物質は、7β−アミノセフアロスポラ
ン酸と式()の置換テトラゾールチオールを反
応させ、ついでエステル化して製造される。 Wがメトキシの式()の7β−アミノ−7α
−メトキシセフアロスポリンは、Wが水素および
R4がt−ブチル基のような保護基の対応する7
β−アミノ−3−(置換テトラゾリルチオメチ
ル)セフアロスポリンと3,5−ジ−t−ブチル
−4−ヒドロキシベンズアルデヒドを、水を共沸
的に除去しながら反応させることにより製造され
る。得られた生成物を二酸化鉛で処理し、この酸
化中間体をメタノールと反応させ、ついでイミン
基を、例えば、ジラルド試薬T(トリメチルアミ
ノアセトヒドラジドクロライド)で開裂させ、所
望により保護基を離脱させて()の化合物を得
る。R2およびR3の一方または両方が水素の場
合、該遊離ヒドロキシ基も、例えば、t−ブチル
エステルとして保護する。 式()のある種の化合物は、例えば、ナトリ
ウムまたはカリウムのようなアルカリ金属、カル
シウムのようなアルカリ土金属またはアンモニウ
ムカチオンと造塩する。AがNH2の場合、双性イ
オンあるいは酸または塩基との塩として存在しう
る。これらの塩は、公知の種々の非毒性医薬上許
容される酸および塩基を用い、常法に従つて製造
される。式()の化合物およびその塩は水化物
またはソルベートとしても存在しうる。 式()の化合物およびその塩は水化物または
ソルベートとしても存在しうる。これらの水化
物、ソルベートも本発明範囲のものである。 R1が
NH2またはOH)の式()の化合物が好まし
い。 式()の化合物の7−アシル置換基(R1NH
−)の例はつぎのとおりである。 α−ヒドロキシフエニルアセトアミド、α−ア
ミノフエニルアセトアミド、α−アミノ−4−ヒ
ドロキシフエニルアセトアミド、トリフルオロメ
チルチオアセトアミド、2,2,2−トリフルオ
ロエチルスルフイニルアセトアミド、2,2,2
−トリフルオロエチルチオアセトアミド、シアノ
アセトアミド、α−カルボキシチエニルアセトア
ミド、α−カルボキシフエニルアセトアミド、α
−スルホフエニルアセトアミド、メチルスルホニ
ルアセトアミド、シアノメチルチオアセトアミ
ド、3−シドノンアセトアミド、1−テトラゾリ
ルアセトアミド、2−チエニルアセトアミド、4
−ピリジルチオアセトアミド、2−アミノメチル
フエニルアセトアミド 式()の化合物の例はつぎのとおりである。 7β−D−マンデルアミド−3−(1−ジエト
キシホスフイニルメチルテトラゾール−5−イル
チオメチル)−3−セフエム−4−カルボン酸、
7β−D−マンデルアミド−3−(1−エトキシ
ヒドロキシホスフイニルメチルテトラゾール−5
−イルチオメチル)−3−セフエム−4−カルボ
ン酸、7β−D−マンデルアミド−3−(1−ホ
スホノメチルテトラゾール−5−イルチオメチ
ル)−3−セフエム−4−カルボン酸、7β−(2
−チエニルアセトアミド)−3−(1−エトキシヒ
ドロキシホスフイニルメチルテトラゾール−5−
イルチオメチル)−3−セフエム−4−カルボン
酸、7β−(1−テトラゾリルアセトアミド)−3
−(1−エトキシヒドロキシホスフイニルメチル
テトラゾール−5−イルチオメチル)−3−セフ
エム−4−カルボン酸、7β−シアノメチルチオ
アセトアミド−3−(1−エトキシヒドロキシホ
スフイニルメチルテトラゾール−5−イルチオメ
チル)−3−セフエム−4−カルボン酸、7β−
(D−αアミノフエニルアセトアミド)−3−(1
−エトキシヒドロキシホスフイニルメチルテトラ
ゾール−5−イルチオメチル)−3−セフエム−
4−カルボン酸、7β−(D−α−アミノ−4−
ヒドロキシフエニルアセトアミド)−3−(1−エ
トキシヒドロキシホスフイニルメチルテトラゾー
ル−5−イルチオメチル)−3−セフエム−4−
カルボン酸、7β−D−マンデルアミド−7α−
メトキシ−3−(1−ホスホノメチルテトラゾー
ル−5−イルチオメチル)−3−セフエム−4−
カルボン酸、7β−(D−α−アミノフエニルア
セトアミド)−7α−メトキシ−3−(1−エトキ
シヒドロキシホスフイニルメチルテトラゾール−
5−イルチオメチル)−3−セフエム−4−カル
ボン酸、7α−メトキシ−7β−トリフルオロメ
チルチオアセトアミド−3−(1−エトキシヒド
ロキシホスフイニルメチルテトラゾール−5−イ
ルチオメチル)−3−セフエム−4−カルボン
酸、7α−メトキシ−7β−(2−チエニルアセ
トアミド)−3−(1−エトキシヒドロキシホスフ
イニルメチルテトラゾール−5−イルチオメチ
ル)−3−セフエム−4−カルボン酸、7β−D
−マンデルアミド−7α−メトキシ−3−(1−
ジエトキシホスフイニルメチルテトラゾール−5
−イルチオメチル)−3−セフエム−4−カルボ
ン酸、7β−D−マンデルアミド−7α−メトキ
シ−3−(1−エトキシヒドロキシホスフイニル
メチルテトラゾール−5−イルチオメチル)−3
−セフエム−4−カルボン酸 式()の化合物の4−カルボン酸基は公知の
方法で容易にエステル化される。これらのエステ
ルには、例えば、単純なアルキルおよびアリール
エステルならびにインダニル、ピバロイルオキシ
メチル、アセトキシメチル、プロピオニルオキシ
メチル、グリシルオキシメチル、フエニルグリシ
ルオキシメチルおよびチエニルグリシルオキシメ
チルエステルなどのような、体内で容易に開裂さ
れて親の酸となるエステルが包含される。もちろ
ん、AがCOOHの場合、この基も同様にエステ
ル化される。 前記のような7−アシル置換基を有するセフア
ロスポリン誘導体は従来から報告されている。ま
た、セフエム核の3位を、テトラゾリルチオメチ
ル基を包含する種々のS−複素環チオメチル基で
置換することも公知である。しかし、3−(ホス
ホノアルキルまたはエステル化ホスホノアルキル
置換テトラゾール)チオメチル基を有するセフア
ロスポリン化合物はこれまで見当らない。 Wが水素の場合、式()の化合物は、好まし
くは、7β−アミノセフアロスポラン酸(7−
ACA)を、要すれば適宜保護して、適当なアシ
ル化剤でアシル化し、ついで、その3−アセトキ
シ基を本発明の式()のホスホノアルキルまた
はエステル化ホスホノアルキルテトラゾールチオ
ールで置換し、保護基を離脱させて製造される。
ある種のアシル化剤、例えば、マンデル酸の保護
誘導体を用いる場合、置換を行なう前に、7−側
鎖から保護基を離脱させることが好ましい。 この反応の第1工程、すなわち、7−アシル化
におけるアシル化剤のカルボン酸基は、混酸無水
物、酸クロライド、酸イミダゾリドまたは活性エ
ステルに変えるような常法のいずれかにより活性
化される。さらにセフエム核のカルボキシル基
を、ベンズヒドリル、t−ブチル、トリクロロエ
チル、ベンジル、ベンジルオキシメチル、P−メ
トキシベンジルまたはP−ニトロベンジルエステ
ルのような容易に離脱できる保護基で保護すれ
ば、ジシクロヘキシルカルボジイミドのような試
薬を用いることができる。AがNH2の場合、アシ
ル化剤のα−アミノ基は、好ましくは、アシル化
の前に、t−ブトキシカルボニル、トリクロロエ
トキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、
アセト酢酸メチル付加物または通常、ペプチド合
成に用いられる同様な基のような容易に離脱でき
る保護基で保護される。 別法として、好ましくはWがメトキシの場合、
式()の化合物は、式: 〔式中、Wは水素またはメトキシ;nは1〜
5;R2およびR3は、各々、水素または炭素数1
〜4のアルキル;R4は水素または保護基を意味
する〕 で示される適当な7β−アミノ−3−(ホスホノ
アルキルまたはエステル化ホスホノアルキル置換
テトラゾリルチオメチル)セフアロスポリン核を
前記と同様に適当なアシル化剤でアシル化し、つ
いで保護基が存在する場合はこれを離脱させて製
造される。 保護基は、t−ブチルまたはt−ブトキシカル
ボニル保護基を用いた場合、トリフルオロ酢酸に
よるような公知の方法で離脱できる。得られた塩
はポリスチレン−アミンイオン交換樹脂(例え
ば、アンバーライトIR−45)のような塩基性イ
オン交換樹脂で、あるいは、該塩の水性溶液を塩
基性にすることにより双性イオン生成物あるいは
遊離酸に変えることができる。 出発物質として用いるアシル化剤は公知である
か、公知の方法で製造される。 Wが水素の式()で示される7β−アミノ−
3−(ホスホノアルキルおよびエステル化ホスホ
ノアルキルテトラゾリルチオメチル)セフアロス
ポリン出発物質は、7β−アミノセフアロスポラ
ン酸と式()の置換テトラゾールチオールを反
応させ、ついでエステル化して製造される。 Wがメトキシの式()の7β−アミノ−7α
−メトキシセフアロスポリンは、Wが水素および
R4がt−ブチル基のような保護基の対応する7
β−アミノ−3−(置換テトラゾリルチオメチ
ル)セフアロスポリンと3,5−ジ−t−ブチル
−4−ヒドロキシベンズアルデヒドを、水を共沸
的に除去しながら反応させることにより製造され
る。得られた生成物を二酸化鉛で処理し、この酸
化中間体をメタノールと反応させ、ついでイミン
基を、例えば、ジラルド試薬T(トリメチルアミ
ノアセトヒドラジドクロライド)で開裂させ、所
望により保護基を離脱させて()の化合物を得
る。R2およびR3の一方または両方が水素の場
合、該遊離ヒドロキシ基も、例えば、t−ブチル
エステルとして保護する。 式()のある種の化合物は、例えば、ナトリ
ウムまたはカリウムのようなアルカリ金属、カル
シウムのようなアルカリ土金属またはアンモニウ
ムカチオンと造塩する。AがNH2の場合、双性イ
オンあるいは酸または塩基との塩として存在しう
る。これらの塩は、公知の種々の非毒性医薬上許
容される酸および塩基を用い、常法に従つて製造
される。式()の化合物およびその塩は水化物
またはソルベートとしても存在しうる。 式()の化合物およびその塩は水化物または
ソルベートとしても存在しうる。これらの水化
物、ソルベートも本発明範囲のものである。 R1が
【式】の場合、式()の7−
アセトアミド基の不斉α−炭素原子により光学異
性体が存在する。ラセミ体生成物が得られるか、
分割された生成物が得られるかは、アシル化剤と
してラセミ側鎖酸を用いるか、分割された側鎖酸
を用いるかによる。分割された側鎖酸は、そのラ
セミ化合物を、光学活性酸または塩基と形成させ
た塩の分別結晶を包含する公知の方法によつて分
割して容易に得られる。 式()の化合物はグラム陽性菌およびクラム
陰性菌の両方に対して抗菌作用を有する。in
vitroテストにおける最少阻止濃度は0.1〜>200μ
g/mlの範囲である。7β−D−マンデルアミド
−3−(1−ジエトキシホスフイニルメチルテト
ラゾール−5−イルチオメチル)−3−セフエム
−4−カルボン酸ナトリウム塩水化物(化合物
A)、7β−D−マンデルアミド−3−(1−エト
キシヒドロキシホスフイニルメチルテトラゾール
−5−イルチオメチル)−3−セフエム−4−カ
ルボン酸ジナトリウム塩水化物および7β−D−
マンデルアミド−3−(1−ホスホノメチルテト
ラゾール−5−イルチオメチル)−3−セフエム
−4−カルボン酸(化合物C)についてのテスト
結果をつぎの第1表に示す。第1表中、かつこ内
の数値はセフアゾリンについての同様なテスト結
果である。
性体が存在する。ラセミ体生成物が得られるか、
分割された生成物が得られるかは、アシル化剤と
してラセミ側鎖酸を用いるか、分割された側鎖酸
を用いるかによる。分割された側鎖酸は、そのラ
セミ化合物を、光学活性酸または塩基と形成させ
た塩の分別結晶を包含する公知の方法によつて分
割して容易に得られる。 式()の化合物はグラム陽性菌およびクラム
陰性菌の両方に対して抗菌作用を有する。in
vitroテストにおける最少阻止濃度は0.1〜>200μ
g/mlの範囲である。7β−D−マンデルアミド
−3−(1−ジエトキシホスフイニルメチルテト
ラゾール−5−イルチオメチル)−3−セフエム
−4−カルボン酸ナトリウム塩水化物(化合物
A)、7β−D−マンデルアミド−3−(1−エト
キシヒドロキシホスフイニルメチルテトラゾール
−5−イルチオメチル)−3−セフエム−4−カ
ルボン酸ジナトリウム塩水化物および7β−D−
マンデルアミド−3−(1−ホスホノメチルテト
ラゾール−5−イルチオメチル)−3−セフエム
−4−カルボン酸(化合物C)についてのテスト
結果をつぎの第1表に示す。第1表中、かつこ内
の数値はセフアゾリンについての同様なテスト結
果である。
【表】
in vivoマウス保護テストにおいて、7β−D
−マンデルアミド−3−(1−エトキシヒドロキ
シホスフイニルメチルテトラゾール−5−イルチ
オメチル)−3−セフエム−4−カルボン酸ジナ
トリウム塩水化物は皮下注射により、イ−・コリ
12140に対して1.02mg/Kgの、また、クレブシエ
ラ・ニウモニアエ4200に対して0.39mg/KgのED50
を示し、セフアゾリンは皮下注射により、イー・
コリ12140に対して4.4mg/Kgの、また、グレブシ
エラ・ニウモニアエ4200に対して7.2mg/Kgの
ED50を示す。 投与は経口的または皮下注、筋注または静脈注
のような非経口的に行なえる。該新規セフアロス
ポリン化合物の非毒性有効量を含有する適宜調製
された滅菌溶液または懸濁液の注射が好ましい投
与経路である。 式()の化合物は他のセフアロスポリンと同
様に処方され、投与される。投与は1日の総用量
400mg〜6gで100〜1000mgの投与単位量から選ば
れる非毒性有効量の式()の化合物を、好まし
くは、注射により行なう。実際の用量は患者の年
令、体重および治療すべき症状により、本明細書
に開示したデータと公知のセフアロスポリンのデ
ータの比較に基いて決定できる。 つぎに、実施例および参考例を挙げて本発明を
さらに詳しく説明するが、これらに限定されるも
のではない。 実施例 1 二硫硫化炭素0.88ml(1.11g)を、アミノメチ
ルホスホン酸ジエチルエステル2.45g(14.6ミリ
モル)および水酸化カリウム0.82g(14.6ミリモ
ル)のエタノール25ml中撹拌溶液に滴下する。添
加の間に反応混合液の温度は26〜33℃に上昇す
る。さらに二硫化炭素0.88mlを加え、反応混合液
を50℃で1時間撹拌する。この混合液を室温まで
冷却し、ヨウ化メチル2.08g(14.6ミリモル)を
滴下し、1.5時間撹拌する。この混合液を蒸発乾
固させ、残渣を水に溶解し、この水溶液を酢酸エ
チルで2回抽出する。抽出液を合し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、蒸発乾固させ、1−ジエトキシ
ホスフイニルメチルジチオカルバミン酸メチルエ
ステルを得る。 1−ジエトキシホスフイニルメチルジチオカル
バミン酸メチルエステル2.85g(11.1ミリモル)
のエタノール25ml中溶液にナトリウムアジド0.72
g(11.1ミリモル)の水5ml中溶液を加える。反
応混合液を2.5時間還流させ、ほぼ蒸発乾固させ
る。水20mlを加え、この水性混合液を酢酸エチル
40mlで成層させ、6N硫酸を添加してPH2.2の酸性
とする。層を分離し、水性層を酢酸エチルで2回
抽出する。この抽出液を合し、硫酸マグネシウム
で乾燥し、蒸発乾固させて1−ジエトキシホスフ
イニルメチルテトラゾール−5−チオールを得
る。NMR(CDCl3+CCl4):δ4.87(d,2H,J
=13),4.52(q,2H,J=7),4.83(q,
2H,J=7.5),1.43(t,6H,J=7〜8) 元素分析、C6H13N4O3PSとして 計算値(%):C,28.57;H,5.20;N,22.21 実測値(%):C,29.39;H,5.42;N,22.30 参考例 1 7−D−マンデルアミドセフアロスポラン酸ナ
トリウム3.42g(8.0ミリモル)の水75ml中溶液
に、1−ジエトキシホスフイニルメチルテトラゾ
ール−5−チオール2.52g(10.0ミリモル)およ
び重炭酸ナトリウム0.84g(10.0ミリモル)を加
える。反応混合液をPH7.2に保持しながら約70℃
で5.5時間撹拌する。室温まで冷却後、混合液を
エーテルで2回抽出する。水性層を酢酸エチルで
成層させ、PH1.9の酸性とする。層を分離させ、
水性層を酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル溶液
を合し、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発乾固
し、残渣を酢酸エチルに溶解する。この酢酸エチ
ル溶液に少量のエーテルを加え、過する。液
を、速かに撹拌したエーテル200mlに加え、生成
した固体を取し、真空下(P2O5)で乾燥し、シ
リカゲル上でクロマトグラフイーに付してクロロ
ホルム−エタノール−ギ酸(90:10:3)で溶出
し、表記の化合物を得る。 7β−D−マンデルアミド−3−(1−ジエト
キシホスフイニルメチルテトラゾール−5−イル
チオメチル)−3−セフエム−4−カルボン酸の
メタノール溶液を5%水性ナトリウムメトキシド
の添加によりPH6.5に調整し、過する。液に
エーテルを加え、生成した固体を取して7β−
D−マンデルアミド−3−(1−ジエトキシホス
フイニルメチルテトラゾール−5−イルチオメチ
ル)−3−セフエム−4−カルボン酸ナトリウム
塩を得る。融点130℃(分解) 元素分析、C22H26N6O8PS2・Na・H2Oとして、 計算値(%):C,41.37;H,4.41;N,13.16 実測値(%):C,41.80;H,4.45;N,12.48 実施例 2 1−ジエトキシホスフイニルメチルテトラゾー
ル−5−チオール5.04g(0.02モル)のエタノー
ル80ml中溶液を1N水酸化カリウム溶液40ml
(0.04モル)で処理し、この反応混合液を1.25時
間還流させる。反応混合液を蒸発乾固させ、残渣
をクロロホルム−エタノール−ギ酸(8:2:
1)40mlに溶解する。生じた固体を集め、水25ml
に溶解する。この水溶液をダウエツクス50W−
X8スルホン酸イオン交換樹脂のカラムに通し、
溶媒を蒸発させて固体物質を得る。この固体をエ
ーテルに溶解し、過し、蒸発乾固して1−エト
キシヒドロキシホスフイニルメチルテトラゾール
−5−チオールを得る。融点119.5〜122℃ 元素分析、C4H9N4O3PSとして、 計算値(%):C,21.43;H,4.08;N,24.99 実測値(%):C,21.15;H,4.04;N,24.77 参考例 2 7β−D−マンデルアミドセフアロスポラン酸
ナトリウム塩3.42g(8.0ミリモル)、1−エトキ
シヒドロキシホスフイニルメチルテトラゾール−
5−チオール2.5g(11.2ミリモル)および重炭
酸ナトリウム1.87g(22.3ミリモル)の水100ml
中混合液を67℃に加温し、重炭酸ナトリウムの添
加によりPHを6.9に保持しながら4.75時間撹拌す
る。この混合液を室温まで冷却し、酢酸エチル
100mlで成層させ、6N硫酸でPH1.8の酸性とす
る。層を分離し、水性層を酢酸エチルで抽出す
る。この水層を重炭酸ナトリウム水溶液でPH7と
し、XAD−7樹脂上でクロマトグラフイーに付
す。溶出液を真空下で蒸発させ、過し、凍結乾
燥させて表記化合物のジナトリウム塩を得る。融
点80〜140℃(分解) 元素分析、C20H21N6O8PS2・2Na・3.5H2Oとし
て、 計算値(%):C,35.45;H,4.16;N,12.40 実測値(%):C,35.17;H,3.72;N,12.48 このジナトリウム塩の水溶液を強酸性アンバー
ライトIR−120Hイオン交換樹脂と共に撹拌し、
凍結乾燥して表記の化合物に変える。 実施例 3 1−ジエトキシホスフイニルメチルテトラゾー
ル−5−チオール4.04g(0.02モル)の酢酸−濃
塩酸(1:1)100ml中溶液を約16時間還流させ
る。この溶液を蒸発させ、セルロース上でクロマ
トグラフイーに付し、アセトニトリル−水(90:
10)で溶出させる。生成物含有フラクシヨンを合
し、少量に濃縮し、ダウエツクス50W−X8スル
ホン酸イオン交換樹脂カラムに通して1−ホスホ
ノメチルテトラゾール−5−チオールを得る。融
点185〜186℃(分解) 元素分析、C2H5N4O3PSとして、 計算値(%):C,12.25;H,2.57;N,28.57 実測値(%):C,12.66;H,2.60;N,28.15 参考例 3 7−D−マンデルアミドセフアロスポラン酸ナ
トリウム塩1.92g(45ミリモル)、1−ホスホノ
メチルテトラゾール−5−チオール1.2g(61ミ
リモル)、重炭酸ナトリウム1.01g(120ミリモ
ル)および水50mlの混合液を充分な量の5%重炭
酸ナトリウム水溶液で処理してPH6.9とし、67℃
で4時間加熱撹拌する。反応混合液をXAD−7
イオン交換樹脂カラムに通し、生成物含有フラク
シヨンを合し、水中でダウエツクス50W−X8ス
ルホン酸イオン交換樹脂で処理してPHを1.4とす
る。樹脂を去し、溶媒を除去する。残渣をアセ
トニトリル−水(75:25)に溶解し、微結晶セル
ロースのカラムに通す。生成物含有クラクシヨン
を合し、蒸発乾固する。残渣をメタノールに溶解
し、ダウエツクス50W−X8樹脂を加えてPH1.6と
する。樹脂を去し、液を氷中で冷却し、ナト
リウムメトキシドのメタノール中5%溶液を加え
てPH7.0とする。撹拌しながらエーテルを加え、
生成した固体を取し、水に溶解し、凍結乾燥し
て表記化合物のジナトリウム塩を得る。融点180
℃ 元素分析、C18H17N6O8PS2・2Na・2.5H2Oとし
て、 計算値(%):C,34.23;H,3.41;
N,13.30;Na,7.28 実測値(%):C,34.65;H,3.52;
N,12.47;Na,7.49 7β−D−マンデルアミド−3−(1−ホスホ
ノメチルテトラゾール−5−イルチオメチル)−
3−セフエム−4−カルボン酸ジナトリウム塩
を、前記参考例と同様に表記の化合物に変える。 参考例 4 7β−D−マンデルアミド−3−(1−エトキ
シヒドロキシホスフイニルメチルテトラゾール−
5−イルチオメチル)−3−セフエム−4−カル
ボン酸ジナトリウム塩500mgに滅菌水または滅菌
生理食塩水2mlを加えて注射用医薬組成物を得
る。前記のように4〜6時間ごとに細菌感染症の
患者に単位投与量を筋肉内投与する。静脈内また
は点滴投与にも同様に使用される。
−マンデルアミド−3−(1−エトキシヒドロキ
シホスフイニルメチルテトラゾール−5−イルチ
オメチル)−3−セフエム−4−カルボン酸ジナ
トリウム塩水化物は皮下注射により、イ−・コリ
12140に対して1.02mg/Kgの、また、クレブシエ
ラ・ニウモニアエ4200に対して0.39mg/KgのED50
を示し、セフアゾリンは皮下注射により、イー・
コリ12140に対して4.4mg/Kgの、また、グレブシ
エラ・ニウモニアエ4200に対して7.2mg/Kgの
ED50を示す。 投与は経口的または皮下注、筋注または静脈注
のような非経口的に行なえる。該新規セフアロス
ポリン化合物の非毒性有効量を含有する適宜調製
された滅菌溶液または懸濁液の注射が好ましい投
与経路である。 式()の化合物は他のセフアロスポリンと同
様に処方され、投与される。投与は1日の総用量
400mg〜6gで100〜1000mgの投与単位量から選ば
れる非毒性有効量の式()の化合物を、好まし
くは、注射により行なう。実際の用量は患者の年
令、体重および治療すべき症状により、本明細書
に開示したデータと公知のセフアロスポリンのデ
ータの比較に基いて決定できる。 つぎに、実施例および参考例を挙げて本発明を
さらに詳しく説明するが、これらに限定されるも
のではない。 実施例 1 二硫硫化炭素0.88ml(1.11g)を、アミノメチ
ルホスホン酸ジエチルエステル2.45g(14.6ミリ
モル)および水酸化カリウム0.82g(14.6ミリモ
ル)のエタノール25ml中撹拌溶液に滴下する。添
加の間に反応混合液の温度は26〜33℃に上昇す
る。さらに二硫化炭素0.88mlを加え、反応混合液
を50℃で1時間撹拌する。この混合液を室温まで
冷却し、ヨウ化メチル2.08g(14.6ミリモル)を
滴下し、1.5時間撹拌する。この混合液を蒸発乾
固させ、残渣を水に溶解し、この水溶液を酢酸エ
チルで2回抽出する。抽出液を合し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、蒸発乾固させ、1−ジエトキシ
ホスフイニルメチルジチオカルバミン酸メチルエ
ステルを得る。 1−ジエトキシホスフイニルメチルジチオカル
バミン酸メチルエステル2.85g(11.1ミリモル)
のエタノール25ml中溶液にナトリウムアジド0.72
g(11.1ミリモル)の水5ml中溶液を加える。反
応混合液を2.5時間還流させ、ほぼ蒸発乾固させ
る。水20mlを加え、この水性混合液を酢酸エチル
40mlで成層させ、6N硫酸を添加してPH2.2の酸性
とする。層を分離し、水性層を酢酸エチルで2回
抽出する。この抽出液を合し、硫酸マグネシウム
で乾燥し、蒸発乾固させて1−ジエトキシホスフ
イニルメチルテトラゾール−5−チオールを得
る。NMR(CDCl3+CCl4):δ4.87(d,2H,J
=13),4.52(q,2H,J=7),4.83(q,
2H,J=7.5),1.43(t,6H,J=7〜8) 元素分析、C6H13N4O3PSとして 計算値(%):C,28.57;H,5.20;N,22.21 実測値(%):C,29.39;H,5.42;N,22.30 参考例 1 7−D−マンデルアミドセフアロスポラン酸ナ
トリウム3.42g(8.0ミリモル)の水75ml中溶液
に、1−ジエトキシホスフイニルメチルテトラゾ
ール−5−チオール2.52g(10.0ミリモル)およ
び重炭酸ナトリウム0.84g(10.0ミリモル)を加
える。反応混合液をPH7.2に保持しながら約70℃
で5.5時間撹拌する。室温まで冷却後、混合液を
エーテルで2回抽出する。水性層を酢酸エチルで
成層させ、PH1.9の酸性とする。層を分離させ、
水性層を酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル溶液
を合し、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発乾固
し、残渣を酢酸エチルに溶解する。この酢酸エチ
ル溶液に少量のエーテルを加え、過する。液
を、速かに撹拌したエーテル200mlに加え、生成
した固体を取し、真空下(P2O5)で乾燥し、シ
リカゲル上でクロマトグラフイーに付してクロロ
ホルム−エタノール−ギ酸(90:10:3)で溶出
し、表記の化合物を得る。 7β−D−マンデルアミド−3−(1−ジエト
キシホスフイニルメチルテトラゾール−5−イル
チオメチル)−3−セフエム−4−カルボン酸の
メタノール溶液を5%水性ナトリウムメトキシド
の添加によりPH6.5に調整し、過する。液に
エーテルを加え、生成した固体を取して7β−
D−マンデルアミド−3−(1−ジエトキシホス
フイニルメチルテトラゾール−5−イルチオメチ
ル)−3−セフエム−4−カルボン酸ナトリウム
塩を得る。融点130℃(分解) 元素分析、C22H26N6O8PS2・Na・H2Oとして、 計算値(%):C,41.37;H,4.41;N,13.16 実測値(%):C,41.80;H,4.45;N,12.48 実施例 2 1−ジエトキシホスフイニルメチルテトラゾー
ル−5−チオール5.04g(0.02モル)のエタノー
ル80ml中溶液を1N水酸化カリウム溶液40ml
(0.04モル)で処理し、この反応混合液を1.25時
間還流させる。反応混合液を蒸発乾固させ、残渣
をクロロホルム−エタノール−ギ酸(8:2:
1)40mlに溶解する。生じた固体を集め、水25ml
に溶解する。この水溶液をダウエツクス50W−
X8スルホン酸イオン交換樹脂のカラムに通し、
溶媒を蒸発させて固体物質を得る。この固体をエ
ーテルに溶解し、過し、蒸発乾固して1−エト
キシヒドロキシホスフイニルメチルテトラゾール
−5−チオールを得る。融点119.5〜122℃ 元素分析、C4H9N4O3PSとして、 計算値(%):C,21.43;H,4.08;N,24.99 実測値(%):C,21.15;H,4.04;N,24.77 参考例 2 7β−D−マンデルアミドセフアロスポラン酸
ナトリウム塩3.42g(8.0ミリモル)、1−エトキ
シヒドロキシホスフイニルメチルテトラゾール−
5−チオール2.5g(11.2ミリモル)および重炭
酸ナトリウム1.87g(22.3ミリモル)の水100ml
中混合液を67℃に加温し、重炭酸ナトリウムの添
加によりPHを6.9に保持しながら4.75時間撹拌す
る。この混合液を室温まで冷却し、酢酸エチル
100mlで成層させ、6N硫酸でPH1.8の酸性とす
る。層を分離し、水性層を酢酸エチルで抽出す
る。この水層を重炭酸ナトリウム水溶液でPH7と
し、XAD−7樹脂上でクロマトグラフイーに付
す。溶出液を真空下で蒸発させ、過し、凍結乾
燥させて表記化合物のジナトリウム塩を得る。融
点80〜140℃(分解) 元素分析、C20H21N6O8PS2・2Na・3.5H2Oとし
て、 計算値(%):C,35.45;H,4.16;N,12.40 実測値(%):C,35.17;H,3.72;N,12.48 このジナトリウム塩の水溶液を強酸性アンバー
ライトIR−120Hイオン交換樹脂と共に撹拌し、
凍結乾燥して表記の化合物に変える。 実施例 3 1−ジエトキシホスフイニルメチルテトラゾー
ル−5−チオール4.04g(0.02モル)の酢酸−濃
塩酸(1:1)100ml中溶液を約16時間還流させ
る。この溶液を蒸発させ、セルロース上でクロマ
トグラフイーに付し、アセトニトリル−水(90:
10)で溶出させる。生成物含有フラクシヨンを合
し、少量に濃縮し、ダウエツクス50W−X8スル
ホン酸イオン交換樹脂カラムに通して1−ホスホ
ノメチルテトラゾール−5−チオールを得る。融
点185〜186℃(分解) 元素分析、C2H5N4O3PSとして、 計算値(%):C,12.25;H,2.57;N,28.57 実測値(%):C,12.66;H,2.60;N,28.15 参考例 3 7−D−マンデルアミドセフアロスポラン酸ナ
トリウム塩1.92g(45ミリモル)、1−ホスホノ
メチルテトラゾール−5−チオール1.2g(61ミ
リモル)、重炭酸ナトリウム1.01g(120ミリモ
ル)および水50mlの混合液を充分な量の5%重炭
酸ナトリウム水溶液で処理してPH6.9とし、67℃
で4時間加熱撹拌する。反応混合液をXAD−7
イオン交換樹脂カラムに通し、生成物含有フラク
シヨンを合し、水中でダウエツクス50W−X8ス
ルホン酸イオン交換樹脂で処理してPHを1.4とす
る。樹脂を去し、溶媒を除去する。残渣をアセ
トニトリル−水(75:25)に溶解し、微結晶セル
ロースのカラムに通す。生成物含有クラクシヨン
を合し、蒸発乾固する。残渣をメタノールに溶解
し、ダウエツクス50W−X8樹脂を加えてPH1.6と
する。樹脂を去し、液を氷中で冷却し、ナト
リウムメトキシドのメタノール中5%溶液を加え
てPH7.0とする。撹拌しながらエーテルを加え、
生成した固体を取し、水に溶解し、凍結乾燥し
て表記化合物のジナトリウム塩を得る。融点180
℃ 元素分析、C18H17N6O8PS2・2Na・2.5H2Oとし
て、 計算値(%):C,34.23;H,3.41;
N,13.30;Na,7.28 実測値(%):C,34.65;H,3.52;
N,12.47;Na,7.49 7β−D−マンデルアミド−3−(1−ホスホ
ノメチルテトラゾール−5−イルチオメチル)−
3−セフエム−4−カルボン酸ジナトリウム塩
を、前記参考例と同様に表記の化合物に変える。 参考例 4 7β−D−マンデルアミド−3−(1−エトキ
シヒドロキシホスフイニルメチルテトラゾール−
5−イルチオメチル)−3−セフエム−4−カル
ボン酸ジナトリウム塩500mgに滅菌水または滅菌
生理食塩水2mlを加えて注射用医薬組成物を得
る。前記のように4〜6時間ごとに細菌感染症の
患者に単位投与量を筋肉内投与する。静脈内また
は点滴投与にも同様に使用される。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式: 〔式中、nは1〜5;R2およびR3は、各々、
水素または炭素数1〜4のアルキルを意味する〕 で示される化合物。 2 nが1である前記第1項の化合物。 3 1−ホスホノメチルテトラゾール−5−チオ
ールである前記第2項の化合物。 4 1−エトキシヒドロキシホスフイニルメチル
テトラゾール−5−チオールである前記第2項の
化合物。 5 1−ジエトキシホスフイニルメチルテトラゾ
ール−5−チオールである前記第2項の化合物。
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