JPS622576B2 - - Google Patents
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Description
本発明は、高純度Ｏ−トルイル酸の製造方法に
関するものである。詳しく述べると、Ｏ−キシレ
ンを分子状酸素含有ガスにより高温、高圧下で液
相酸化して得られる酸化生成物をＯ−キシレンで
再結晶により精製する方法において、過分離し
たＯ−トルイル酸含有液を水または塩基性水溶
液で処理し、ついでこのＯ−トルイル酸含有液
を酸化反応に供することにより行なわれる高純度
Ｏ−トルイル酸の製造方法に関するものである。 Ｏ−トルイル酸は、螢光染料、感光色素、防錆
剤、顔料、農薬、医薬等の原料として広く利用さ
れているが、ある種の用途には、高純度のＯ−ト
ルイル酸が必要とされている。 Ｏ−トルイル酸の製造方法としては、Ｏ−キシ
レンをコバルト、マンガン等の重金属塩を触媒と
して高温、高圧下で空気または酸素含有ガスによ
り液相酸化する方法が知られている〔Journal of
American Society 71，1742（1949）〕。しかしな
がら、この方法では、酸化に際して多種の副生成
物が多量に生成すので、Ｏ−トルイル酸の精製が
必要である。すなわち、Ｏ−キシレンの液相酸化
により得られるＯ−トルイル酸には、Ｏ−フタル
酸、安息香酸等の酸性副生物、Ｏ−トルイルアル
コール、Ｏ−トルイルアルデヒド、フタリドおよ
びその他未確認の副生物が生ずる。 このような副生物を含有する粗製Ｏ−トルイル
酸の精製方法が考えられる。例えば前記粗製Ｏ−
トルイル酸を蒸留または昇華により精製すれば得
られるＯ−トルイル酸には沸点の近以した多量の
フタリド、Ｏ−フタル酸の他に未確認副生物が混
入するので、高純度のＯ−トルイル酸を得ること
は不可能である。また、溶媒再結晶法による精製
法では、選択的にＯ−トルイル酸をこれら副生成
物から単離、除去するのに適当な溶媒は見あたら
ない。例えば、ｎ−ヘキサン、リグロイン、シク
ロヘキサン等のような脂肪族炭化水素では副生成
物の除去が十分でなく、一方、メタノール、エタ
ノール、イソプロパノール、プタノール等のアル
コール類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル
類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン等のケトン類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素では副生成物の
除去には有効な溶媒であるが、Ｏ−トルイル酸の
損失が大きく、また溶媒の回収には多大なエネル
ギーを消費するので、有利な方法とはいえない。 本発明者らは、前記再結晶法において溶媒とし
てＯ−キシレンの使用について検討を行なつたと
ころ、つぎのごとき知見を得た。すなわち、20〜
80％の変換率でＯ−キシレンを液相酸化して得ら
れた反応生成液から蒸留により未反応Ｏ−キシレ
ンを回収した反応生成物には、２〜10％のＯ−フ
タル酸およびフタリドや安息香酸、その他未確認
副生成物が不純物として混在している。この反応
生成物は単なる精留または昇華により精製しても
前記Ｏ−フタル酸およびフタリドが混入して高純
度のＯ−トルイル酸は得られない。しかして、こ
のような酸化反応生成物の再結晶精製溶媒として
Ｏ−キシレンを使用したところ、その精製能力に
よりＯ−トルイル酸は高純度で得られるが、Ｏ−
トルイル酸に対する溶解度が高く（40℃において
Ｏ−キシレン100gは32gのＯ−トルイル酸を溶解
し、30℃においては20gを溶解）、液の回収お
よびＯ−トルイル酸の損失がく、Ｏ−トルイル酸
の精製収率は非常に低いのである。このため、Ｏ
−トルイル酸の精製収率を高めるためには、なお
多量のＯ−トルイル酸を含有する液からＯ−ト
ルイル酸を分離回収する必要がある。しかるに、
この液中にはＯ−トルイル酸と沸点の近似した
フタリドが多量含されているので、その分離はほ
とんど不可能に近い。したがつて、再結晶法では
精製収率が低く、コスト高とならざるを得なかつ
た。 本発明は、前記のごとき方法の諸欠点を解消す
るためになされたもので、Ｏ−キシレンを分子状
酸素含有ガスにより液相酸化し、得られる酸化反
応生成物をＯ−キシレンで再結晶晶化し、過し
て高純度Ｏ−トルイル酸を得るとともに、液を
水または塩基性水溶液で処理して水性層と油層と
に分離し、ついで該油層を前記酸化工程に循環し
て酸化反応に供することを特徴とする高純度Ｏ−
トルイル酸の製造方法である。 つぎに、図面を参照しつつ本発明方法を詳細に
説明する。 本発明方法において、酸化工程は、従来使用さ
れている液相酸化条件のいずれも使用できる。例
えば、Ｏ−キシレン120〜180℃の温度、２〜30
Kg／cm2Ｇの圧力下にコバルト、マンガン等の重金
属塩を触媒として使用して空気、酸素含有ガス等
の分子状酸素含有ガスにより液相酸化することに
より行なわれる。 Ｏ−キシレンの転換率は通常20〜80％である
が、例えば20〜40％というように比較的低転換率
の場合には、Ｏ−フタル酸やフタリド副生が比較
的少ないので、第１図に示すように酸化反応工程
で得られる酸化反応生成液にＯ−キシレンを添加
して再結晶を行ない、これを過してケーキと
液とに分離する。この液中は、反応副生物であ
るフタリド、Ｏ−フタル酸、安息香酸の他に、Ｏ
−トルイル酸もＯ−キシレンの溶解度に相当する
分だけ溶解して存在する。この液に、水または
塩基性水溶液を加えて処理を行ない、分液すると
油層と水性層とに分離するので、この水性層を排
出させることによりＯ−フタル酸、安息香酸等の
水性副生物は分離除去される。 水または塩基性水溶液処理工程において、処理
液として水のみを用いる場合には、液重量に対
して0.3〜10倍量を数回に分離して用いるが、塩
基性水溶液を用いる方がより効果的である。塩基
性水溶液としては、アルカリ金属またはアンモニ
アの水酸化物、酸化物、アルコラート、炭酸塩等
が用いられる。その使用量は、液中に、副生物
のうちＯ−フタル酸を基準に決定され、Ｏ−フタ
ル酸１モルに対し１〜30モル、好ましくは1.3〜
３モルである。塩基性水溶液の過多は処理効果に
有効ではあるが、それはＯ−トルイル酸の損失を
もたらすので経済的ではない。塩基性水溶液の濃
度は特に限定されるべきではないが、分離の操作
効果および排液量の点から、好ましい濃度は５〜
20重量％である。 分液操作は回分式でもあるいは連続式でも行な
うことができ、回分式の場合には撹拌と静置が、
また連続式の場合には並流または向流式に通常行
なわれる液液抽出法が適用でき、接触時間は３分
間〜２時間、好ましくは10分間〜１時間である。
処理温度および圧力は、処理系内が液相を保てる
条件であればよい。塩基性溶液としてアルコラー
トを用いる場合には、接触操作の完了後に水を加
えて水性層と油層の２層に分離させる。分離した
油層は、Ｏ−キシレン、Ｏ−トルイル酸およびフ
タリドを含有しており、これは酸化工程に循環さ
れる。 一方、再結晶、過工程で分離されたケーキは
高純度のＯ−トルイル酸であるが、さらに必要に
より蒸留を行なつてＯ−キシレンおよび釡残を分
離除去するかあるいは乾燥してＯ−キシレンを分
離除去することもできる。 また、例えば40〜80％というような比較的高転
化率でＯ−キシレンを酸化してＯ−トルイル酸を
製造する場合には、第２図に示すように、酸化反
応工程で得られる酸化反応生成液を蒸留してＯ−
キシレン、粗Ｏ−トルイル酸および釡残に分離
し、粗Ｏ−トルイル酸にＯ−キシレンを添加して
再結晶を行ない。これを過してケーキと液と
に分離する。この液中には、反応副生物である
フタリド、Ｏ−フタル酸、安息香酸等の他に、Ｏ
−トルイル酸もＯ−キシレンの溶解度に相当する
分だけ溶解して存在する。この液に、水または
塩基性水溶液を加えて処理を行ない。分液すると
油層と水性層とに分離するので、この水性層を排
出させることによりＯ−フタル酸、安息香酸等の
水性副生物は分離除去される。しかして、水また
は塩基性水溶液処理工程における条件、例えば水
の量、塩基性化合物の種類および濃度、Ｏ−フタ
ル酸に対するモル比等は第１図の方法の場合と同
様である。また、分液操作条件についても第１図
の方法の場合と同様である。分離した油層は、Ｏ
−キシレン、Ｏ−トルイル酸およびフタリドを含
有しており、これは酸化工程へ循環される。 一方、再結晶・過工程で分離されたケーキは
高純度のＯ−トルイル酸であるのでそのまま使用
できるが、さらに必要によりＯ−キシレンを添加
して再結晶および過を行ない、分離した液は
酸化工程へ循環し、ケーキは蒸留を行なつてＯ−
キシレンおよび釡残を分離するかあるいは乾燥し
てＯ−キシレンを分離除去することもできる。 第１〜２図のいずれの方法の場合にも、酸化工
程に循環された液を新たなＯ−キシレンと混合
して行なう酸化反応条件はＯ−キシレンのみを原
料とする場合と同じ条件であり、ほぼ同様な収率
でＯ−トルイル酸が生成する。副生物としてはフ
タリドのみが増加するが、これは前記のようにＯ
−キシレンによる再結晶で充分精製できる。また
反応におけるフタリドの増加については、液中
のフタリド濃度が15％を超えるものを酸化した場
合には、この量以上には増加しないことが研究の
結果明らかとなつた。このため、液を酸化工程
へ循環使用すれば、前記数値に達した後にはフタ
リドは実質的に副生しないことになり、全体とし
てＯ−トルイル酸の収率は増大することになる。 したがつて、本発明方法によれば、Ｏ−キシレ
ンの酸化反応生成物は、原料であるＯ−キシレン
による再結晶法で高純度のＯ−トルイル酸を製造
でき、かつ液に分配されるＯ−トルイル酸は再
度酸化反応工程へ循環使用されるので、損失する
ことなく目的を達成できる。 つぎに、実施例を挙げて本発明方法をさらに詳
細に説明する。なお、下記実施例における部は、
特にことわらない限りすべて重量による。生成物
の組成はガスクロマトグラフイーにより分析し、
面積％で示した。 実施例 １ ナフテン酸コバルトの存在下で150℃の温度、
７Kg／cm2Ｇの圧力下にＯ−キシレン（純度99.2
％）を空気により液相酸化したところ、得られた
酸化反応生成物は第１表Ａの組成を示した。この
酸化反応生成物を液温145〜240℃で常圧蒸留して
未反応Ｏ−キシレンを回収した。蒸留残渣を50〜
100mmHgの減圧下に還流比５で精留したところ、
得られた留出物は第１表Ｂの組成を示した。一
方、減圧蒸留を無還流で行なつたときは、第１表
Ｃの組成を示した。 減圧蒸留を無還流で行なつた留出物100部に対
し、Ｏ−キシレン100部を添加して加熱、溶解さ
せたのち、40℃に冷却して再結晶化し、過によ
り分離してＯ−トルイル酸ケーキ91部と液108
部とを得た。得られたＯ−トルイル酸ケーキに65
部のＯ−キシレンを添加して加熱、溶解し、40℃
に冷却して再結晶化し、過分離してＯ−トルイ
ル酸ケーキ63部を得た。このケーキは減圧蒸留
（第２表Ｄ）または乾燥（第２表Ｅ）によりＯ−
キシレンと分離され、得られた精製Ｏ−トルイル
酸の組成は、第２表に示す結果となつた。 Ｏ−トルイル酸の再結晶により得られた液
108部には、Ｏ−トルイル酸13.4％、フタル酸2.8
％およびフタリド4.9％を含んでいた。この液
に108部の水を添加して90℃で１時間撹拌し、静
置して２層に分離した。この操作を２回繰返し、
Ｏ−キシレン層104部を得た。これにはＯ−トル
イル酸13.1％、フタル酸1.7％およびフタリド4.8
％を含んでいた。このＯ−キシレン層を上記の反
応条件で再度酸化し、得られた酸化反応生成物を
無還流下に減圧蒸留したところ、得られた留出物
の組成は第３表Ｆに示す結果となつた。このもの
を上記のごとく再結晶化し、ケーキを減圧蒸留し
たところ、得られた精製Ｏ−トルイル酸の組成は
第３表Ｇに示す結果となつた。
関するものである。詳しく述べると、Ｏ−キシレ
ンを分子状酸素含有ガスにより高温、高圧下で液
相酸化して得られる酸化生成物をＯ−キシレンで
再結晶により精製する方法において、過分離し
たＯ−トルイル酸含有液を水または塩基性水溶
液で処理し、ついでこのＯ−トルイル酸含有液
を酸化反応に供することにより行なわれる高純度
Ｏ−トルイル酸の製造方法に関するものである。 Ｏ−トルイル酸は、螢光染料、感光色素、防錆
剤、顔料、農薬、医薬等の原料として広く利用さ
れているが、ある種の用途には、高純度のＯ−ト
ルイル酸が必要とされている。 Ｏ−トルイル酸の製造方法としては、Ｏ−キシ
レンをコバルト、マンガン等の重金属塩を触媒と
して高温、高圧下で空気または酸素含有ガスによ
り液相酸化する方法が知られている〔Journal of
American Society 71，1742（1949）〕。しかしな
がら、この方法では、酸化に際して多種の副生成
物が多量に生成すので、Ｏ−トルイル酸の精製が
必要である。すなわち、Ｏ−キシレンの液相酸化
により得られるＯ−トルイル酸には、Ｏ−フタル
酸、安息香酸等の酸性副生物、Ｏ−トルイルアル
コール、Ｏ−トルイルアルデヒド、フタリドおよ
びその他未確認の副生物が生ずる。 このような副生物を含有する粗製Ｏ−トルイル
酸の精製方法が考えられる。例えば前記粗製Ｏ−
トルイル酸を蒸留または昇華により精製すれば得
られるＯ−トルイル酸には沸点の近以した多量の
フタリド、Ｏ−フタル酸の他に未確認副生物が混
入するので、高純度のＯ−トルイル酸を得ること
は不可能である。また、溶媒再結晶法による精製
法では、選択的にＯ−トルイル酸をこれら副生成
物から単離、除去するのに適当な溶媒は見あたら
ない。例えば、ｎ−ヘキサン、リグロイン、シク
ロヘキサン等のような脂肪族炭化水素では副生成
物の除去が十分でなく、一方、メタノール、エタ
ノール、イソプロパノール、プタノール等のアル
コール類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル
類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン等のケトン類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素では副生成物の
除去には有効な溶媒であるが、Ｏ−トルイル酸の
損失が大きく、また溶媒の回収には多大なエネル
ギーを消費するので、有利な方法とはいえない。 本発明者らは、前記再結晶法において溶媒とし
てＯ−キシレンの使用について検討を行なつたと
ころ、つぎのごとき知見を得た。すなわち、20〜
80％の変換率でＯ−キシレンを液相酸化して得ら
れた反応生成液から蒸留により未反応Ｏ−キシレ
ンを回収した反応生成物には、２〜10％のＯ−フ
タル酸およびフタリドや安息香酸、その他未確認
副生成物が不純物として混在している。この反応
生成物は単なる精留または昇華により精製しても
前記Ｏ−フタル酸およびフタリドが混入して高純
度のＯ−トルイル酸は得られない。しかして、こ
のような酸化反応生成物の再結晶精製溶媒として
Ｏ−キシレンを使用したところ、その精製能力に
よりＯ−トルイル酸は高純度で得られるが、Ｏ−
トルイル酸に対する溶解度が高く（40℃において
Ｏ−キシレン100gは32gのＯ−トルイル酸を溶解
し、30℃においては20gを溶解）、液の回収お
よびＯ−トルイル酸の損失がく、Ｏ−トルイル酸
の精製収率は非常に低いのである。このため、Ｏ
−トルイル酸の精製収率を高めるためには、なお
多量のＯ−トルイル酸を含有する液からＯ−ト
ルイル酸を分離回収する必要がある。しかるに、
この液中にはＯ−トルイル酸と沸点の近似した
フタリドが多量含されているので、その分離はほ
とんど不可能に近い。したがつて、再結晶法では
精製収率が低く、コスト高とならざるを得なかつ
た。 本発明は、前記のごとき方法の諸欠点を解消す
るためになされたもので、Ｏ−キシレンを分子状
酸素含有ガスにより液相酸化し、得られる酸化反
応生成物をＯ−キシレンで再結晶晶化し、過し
て高純度Ｏ−トルイル酸を得るとともに、液を
水または塩基性水溶液で処理して水性層と油層と
に分離し、ついで該油層を前記酸化工程に循環し
て酸化反応に供することを特徴とする高純度Ｏ−
トルイル酸の製造方法である。 つぎに、図面を参照しつつ本発明方法を詳細に
説明する。 本発明方法において、酸化工程は、従来使用さ
れている液相酸化条件のいずれも使用できる。例
えば、Ｏ−キシレン120〜180℃の温度、２〜30
Kg／cm2Ｇの圧力下にコバルト、マンガン等の重金
属塩を触媒として使用して空気、酸素含有ガス等
の分子状酸素含有ガスにより液相酸化することに
より行なわれる。 Ｏ−キシレンの転換率は通常20〜80％である
が、例えば20〜40％というように比較的低転換率
の場合には、Ｏ−フタル酸やフタリド副生が比較
的少ないので、第１図に示すように酸化反応工程
で得られる酸化反応生成液にＯ−キシレンを添加
して再結晶を行ない、これを過してケーキと
液とに分離する。この液中は、反応副生物であ
るフタリド、Ｏ−フタル酸、安息香酸の他に、Ｏ
−トルイル酸もＯ−キシレンの溶解度に相当する
分だけ溶解して存在する。この液に、水または
塩基性水溶液を加えて処理を行ない、分液すると
油層と水性層とに分離するので、この水性層を排
出させることによりＯ−フタル酸、安息香酸等の
水性副生物は分離除去される。 水または塩基性水溶液処理工程において、処理
液として水のみを用いる場合には、液重量に対
して0.3〜10倍量を数回に分離して用いるが、塩
基性水溶液を用いる方がより効果的である。塩基
性水溶液としては、アルカリ金属またはアンモニ
アの水酸化物、酸化物、アルコラート、炭酸塩等
が用いられる。その使用量は、液中に、副生物
のうちＯ−フタル酸を基準に決定され、Ｏ−フタ
ル酸１モルに対し１〜30モル、好ましくは1.3〜
３モルである。塩基性水溶液の過多は処理効果に
有効ではあるが、それはＯ−トルイル酸の損失を
もたらすので経済的ではない。塩基性水溶液の濃
度は特に限定されるべきではないが、分離の操作
効果および排液量の点から、好ましい濃度は５〜
20重量％である。 分液操作は回分式でもあるいは連続式でも行な
うことができ、回分式の場合には撹拌と静置が、
また連続式の場合には並流または向流式に通常行
なわれる液液抽出法が適用でき、接触時間は３分
間〜２時間、好ましくは10分間〜１時間である。
処理温度および圧力は、処理系内が液相を保てる
条件であればよい。塩基性溶液としてアルコラー
トを用いる場合には、接触操作の完了後に水を加
えて水性層と油層の２層に分離させる。分離した
油層は、Ｏ−キシレン、Ｏ−トルイル酸およびフ
タリドを含有しており、これは酸化工程に循環さ
れる。 一方、再結晶、過工程で分離されたケーキは
高純度のＯ−トルイル酸であるが、さらに必要に
より蒸留を行なつてＯ−キシレンおよび釡残を分
離除去するかあるいは乾燥してＯ−キシレンを分
離除去することもできる。 また、例えば40〜80％というような比較的高転
化率でＯ−キシレンを酸化してＯ−トルイル酸を
製造する場合には、第２図に示すように、酸化反
応工程で得られる酸化反応生成液を蒸留してＯ−
キシレン、粗Ｏ−トルイル酸および釡残に分離
し、粗Ｏ−トルイル酸にＯ−キシレンを添加して
再結晶を行ない。これを過してケーキと液と
に分離する。この液中には、反応副生物である
フタリド、Ｏ−フタル酸、安息香酸等の他に、Ｏ
−トルイル酸もＯ−キシレンの溶解度に相当する
分だけ溶解して存在する。この液に、水または
塩基性水溶液を加えて処理を行ない。分液すると
油層と水性層とに分離するので、この水性層を排
出させることによりＯ−フタル酸、安息香酸等の
水性副生物は分離除去される。しかして、水また
は塩基性水溶液処理工程における条件、例えば水
の量、塩基性化合物の種類および濃度、Ｏ−フタ
ル酸に対するモル比等は第１図の方法の場合と同
様である。また、分液操作条件についても第１図
の方法の場合と同様である。分離した油層は、Ｏ
−キシレン、Ｏ−トルイル酸およびフタリドを含
有しており、これは酸化工程へ循環される。 一方、再結晶・過工程で分離されたケーキは
高純度のＯ−トルイル酸であるのでそのまま使用
できるが、さらに必要によりＯ−キシレンを添加
して再結晶および過を行ない、分離した液は
酸化工程へ循環し、ケーキは蒸留を行なつてＯ−
キシレンおよび釡残を分離するかあるいは乾燥し
てＯ−キシレンを分離除去することもできる。 第１〜２図のいずれの方法の場合にも、酸化工
程に循環された液を新たなＯ−キシレンと混合
して行なう酸化反応条件はＯ−キシレンのみを原
料とする場合と同じ条件であり、ほぼ同様な収率
でＯ−トルイル酸が生成する。副生物としてはフ
タリドのみが増加するが、これは前記のようにＯ
−キシレンによる再結晶で充分精製できる。また
反応におけるフタリドの増加については、液中
のフタリド濃度が15％を超えるものを酸化した場
合には、この量以上には増加しないことが研究の
結果明らかとなつた。このため、液を酸化工程
へ循環使用すれば、前記数値に達した後にはフタ
リドは実質的に副生しないことになり、全体とし
てＯ−トルイル酸の収率は増大することになる。 したがつて、本発明方法によれば、Ｏ−キシレ
ンの酸化反応生成物は、原料であるＯ−キシレン
による再結晶法で高純度のＯ−トルイル酸を製造
でき、かつ液に分配されるＯ−トルイル酸は再
度酸化反応工程へ循環使用されるので、損失する
ことなく目的を達成できる。 つぎに、実施例を挙げて本発明方法をさらに詳
細に説明する。なお、下記実施例における部は、
特にことわらない限りすべて重量による。生成物
の組成はガスクロマトグラフイーにより分析し、
面積％で示した。 実施例 １ ナフテン酸コバルトの存在下で150℃の温度、
７Kg／cm2Ｇの圧力下にＯ−キシレン（純度99.2
％）を空気により液相酸化したところ、得られた
酸化反応生成物は第１表Ａの組成を示した。この
酸化反応生成物を液温145〜240℃で常圧蒸留して
未反応Ｏ−キシレンを回収した。蒸留残渣を50〜
100mmHgの減圧下に還流比５で精留したところ、
得られた留出物は第１表Ｂの組成を示した。一
方、減圧蒸留を無還流で行なつたときは、第１表
Ｃの組成を示した。 減圧蒸留を無還流で行なつた留出物100部に対
し、Ｏ−キシレン100部を添加して加熱、溶解さ
せたのち、40℃に冷却して再結晶化し、過によ
り分離してＯ−トルイル酸ケーキ91部と液108
部とを得た。得られたＯ−トルイル酸ケーキに65
部のＯ−キシレンを添加して加熱、溶解し、40℃
に冷却して再結晶化し、過分離してＯ−トルイ
ル酸ケーキ63部を得た。このケーキは減圧蒸留
（第２表Ｄ）または乾燥（第２表Ｅ）によりＯ−
キシレンと分離され、得られた精製Ｏ−トルイル
酸の組成は、第２表に示す結果となつた。 Ｏ−トルイル酸の再結晶により得られた液
108部には、Ｏ−トルイル酸13.4％、フタル酸2.8
％およびフタリド4.9％を含んでいた。この液
に108部の水を添加して90℃で１時間撹拌し、静
置して２層に分離した。この操作を２回繰返し、
Ｏ−キシレン層104部を得た。これにはＯ−トル
イル酸13.1％、フタル酸1.7％およびフタリド4.8
％を含んでいた。このＯ−キシレン層を上記の反
応条件で再度酸化し、得られた酸化反応生成物を
無還流下に減圧蒸留したところ、得られた留出物
の組成は第３表Ｆに示す結果となつた。このもの
を上記のごとく再結晶化し、ケーキを減圧蒸留し
たところ、得られた精製Ｏ−トルイル酸の組成は
第３表Ｇに示す結果となつた。
【表】
【表】
よる
E乾燥による 99.0 0.6 0.2 0.2 47
E乾燥による 99.0 0.6 0.2 0.2 47
【表】
実施例 ２〜８
実施例１の方法において、再結晶液の洗浄に
塩基性水溶液を用いて水層とＯ−キシレン層とに
いつたん分離し、Ｏ−キシレン層の20重量％の水
を用いて再洗浄して分離したところ、Ｏ−キシレ
ン層の組成は第４表のとおりであつた。
塩基性水溶液を用いて水層とＯ−キシレン層とに
いつたん分離し、Ｏ−キシレン層の20重量％の水
を用いて再洗浄して分離したところ、Ｏ−キシレ
ン層の組成は第４表のとおりであつた。
【表】
実施例 ９
実施例４に準じて得られた洗浄Ｏ−キシレンの
組成値は、Ｏ−キシレン73.0％、Ｏ−トルイル酸
13.7％、フタル酸1.2％、フタリド4.7％、Ｏ−ト
ルイルアルデヒド1.6％、安息香酸0.6％およびそ
の他5.2％であつた。これの1725部を、ナフテン
酸コバルトを触媒として140℃の温度、６Kg／cm2
の圧力下に空気により液相酸化し、酸化反応生成
物1902部を得た。これから未反応Ｏ−キシレンを
回収したのち、100mmHgの減圧下に無還流で蒸留
し、留出物1032部を得た。これに回収した未反応
Ｏ−キシレン642部と新しいＯ−キシレン102部と
を加え、90℃に加熱して溶解させたのち40℃まで
冷却し、過分離した。得られたケーキにはさら
に新しいＯ−キシレン656部を加えて同様に再結
晶を繰返してケーキ755部を得た。このケーキを
常圧蒸留によりＯ−キシレン201部を回収したの
ち100mmHgの減圧下で蒸留して留出物540部を得
た。この精製されたＯ−トルイル酸の分析値は、
Ｏ−トルイル酸98.60％、Ｏ−フタル酸0.44％、
フタリド0.43％、安息香酸0.38％およびその他
0.15％であつた。 １回目の液と２回目の液1624部は、20％水
酸化ナトリウム水溶液140部と45℃の温度で30分
間接触撹拌したのち静置し、２層分離して水層
191部を排出させた。Ｏ−キシレン層には400部の
水を加え、同様に撹拌静置してＯ−キシレン層
1503部を得た。このものの分析値は、Ｏ−キシレ
ン78.7％、Ｏ−トルイル酸7.6％、フタル酸1.6
％、フタリド4.7％、Ｏ−トルイルアルデヒド1.9
％、安息香酸0.4％およびその他5.1％であり、酸
化原料として使用できた。
組成値は、Ｏ−キシレン73.0％、Ｏ−トルイル酸
13.7％、フタル酸1.2％、フタリド4.7％、Ｏ−ト
ルイルアルデヒド1.6％、安息香酸0.6％およびそ
の他5.2％であつた。これの1725部を、ナフテン
酸コバルトを触媒として140℃の温度、６Kg／cm2
の圧力下に空気により液相酸化し、酸化反応生成
物1902部を得た。これから未反応Ｏ−キシレンを
回収したのち、100mmHgの減圧下に無還流で蒸留
し、留出物1032部を得た。これに回収した未反応
Ｏ−キシレン642部と新しいＯ−キシレン102部と
を加え、90℃に加熱して溶解させたのち40℃まで
冷却し、過分離した。得られたケーキにはさら
に新しいＯ−キシレン656部を加えて同様に再結
晶を繰返してケーキ755部を得た。このケーキを
常圧蒸留によりＯ−キシレン201部を回収したの
ち100mmHgの減圧下で蒸留して留出物540部を得
た。この精製されたＯ−トルイル酸の分析値は、
Ｏ−トルイル酸98.60％、Ｏ−フタル酸0.44％、
フタリド0.43％、安息香酸0.38％およびその他
0.15％であつた。 １回目の液と２回目の液1624部は、20％水
酸化ナトリウム水溶液140部と45℃の温度で30分
間接触撹拌したのち静置し、２層分離して水層
191部を排出させた。Ｏ−キシレン層には400部の
水を加え、同様に撹拌静置してＯ−キシレン層
1503部を得た。このものの分析値は、Ｏ−キシレ
ン78.7％、Ｏ−トルイル酸7.6％、フタル酸1.6
％、フタリド4.7％、Ｏ−トルイルアルデヒド1.9
％、安息香酸0.4％およびその他5.1％であり、酸
化原料として使用できた。
第１図および第２図は、本発明による高純度Ｏ
−トルイル酸の製造工程の一例を示すブロツクダ
イヤグラムである。
−トルイル酸の製造工程の一例を示すブロツクダ
イヤグラムである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ Ｏ−キシレンを分子状酸素含有ガスにより液
相酸化し、得られる酸化反応生成物をＯ−キシレ
ンで再結晶化し、過して高純度Ｏ−トルイル酸
を得るとともに、液を水または塩基性水溶液で
処理して水性層と油層とに分離し、ついで該油層
を前記酸化工程に循環して酸化反応に供すること
を特徴とするＯ−トルイル酸の製造方法。 ２ 塩基性水溶液はアルカリ金属またはアンモニ
アの水酸化物、酸化物、アルコラートおよび炭酸
塩よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合
物の水溶液である特許請求の範囲第１項に記載の
方法。 ３ 液相酸化生成物は蒸留し、Ｏ−トルイル酸留
分をＯ−キシレンで再結晶により精製し、その
液を水または塩基性水溶液で処理してなる特許請
求の範囲第１項または第２項に記載の方法。 ４ Ｏ−キシレンによる再結晶が繰返し行なわれ
てなる特許請求の範囲第１項ないし第３項のいず
れか一つに記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13083279A JPS5655341A (en) | 1979-10-12 | 1979-10-12 | Preparation of high-purity o-toluic acid |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13083279A JPS5655341A (en) | 1979-10-12 | 1979-10-12 | Preparation of high-purity o-toluic acid |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5655341A JPS5655341A (en) | 1981-05-15 |
| JPS622576B2 true JPS622576B2 (ja) | 1987-01-20 |
Family
ID=15043733
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13083279A Granted JPS5655341A (en) | 1979-10-12 | 1979-10-12 | Preparation of high-purity o-toluic acid |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5655341A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2676910B2 (ja) * | 1989-05-17 | 1997-11-17 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 高純度０‐トルイル酸の製造法 |
| US6242643B1 (en) | 1996-05-17 | 2001-06-05 | Toray Industries, Inc. | Method for preparing aromatic carboxylic acids, aromatic aldehydes, and aromatic alcohols |
-
1979
- 1979-10-12 JP JP13083279A patent/JPS5655341A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5655341A (en) | 1981-05-15 |
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