JPS62249969A - Ｎ−ジヒドロインドリルエチル−スルホンアミド類 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規なＮ−ジしドロインドリルエチル−スルホ
ンアミド類、それらの製造法、及びそれらの薬剤におけ
る使用に関する。

一般式（Ｉ） 式中 Ｒ１は水素、ハロゲン、トリフルオロメチル、−　：（
２− カルボキシル又はアルコキシカルボニル、又は式、−Ｓ
（０）、Ｒ５ ここで、Ｒ５はアルキル又はアリールを示し、そして ｍは数、０、１、又は２を示す、 の基を表すか、又は Ｒ１は式 ここで、Ｒ６及びＲ７は同一が異なり、水素、アルキル
、アリール、アラルキル、又はアシルを示す、 の基を表すか、又は Ｒ１は式　ＯＲ８ ここで Ｒａは水素、アルキル、アリール、アラルキル、アルキ
ルスルホニル、アリールスルボニル、アラルキルスルホ
ニル、又はトリフルオロメチルを示す、 の基を表すか、又は Ｒ１は随時カルボキシル、アルコキシカルボニル、ハロ
ゲン、ヒドロキシル、アルコキシ、アルキルチオ、又は
シアノによって置換されていて良いアルキル、アルケニ
ル、又はシクロアルキルを表し、 １１２は随時ハロゲン、シアン、トリフルオロメチル、
トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、アル
キル、カルボキシアルキル、アルコキシカルボニルアル
キル、アルコキシ、アルキルチオ、ヒドロキシル、カル
ボキシル、アルコキシカルボニル、フェニル、フェニル
オキシ、ベンジルオキシ、及びベンジルチオからなる群
からの５以丁の置換基よって置換されていて良い、又は
式 Ｒ，１′及びＲ７は上述された意味を有する、の基によ
って置換されていて良いアリールを表し、 １（３は水素又はアルキルを表し、そしてＲ４は水素を
表すか、又（」 Ｒ’及びＲ４は一緒にカルボニル酸素に結合する、 の新規なＮ−ジヒドロインドリルエチル−スルポンアミ
ド類及び／又はそれらの塩類が発見された。

本発明の化合物は数個の非対称炭素原子を有し、従って
立体化学的に種々の形で存在することが出来る。本発明
はそれら個々の異性体及びそれらの混合物の双方に関す
る。

本発明のＮ−ジヒドロインドリルエチル−スルポンアミ
ドは又それらの塩の形で存在することも出来る。有機塩
基及び無機塩基との塩をここでは−・般に挙げる事が出
来る。

本発明においては、生理学的に許容出来る塩類が好まし
い。Ｎ−ジヒドロインドリルエチル−スルホンアミドの
生理学的に許容出来る塩類は、Ｈ，＃１カルホＡシル基
を有する本発明の化合物の金属又はアンモニウム塩であ
る事が出来る。特に好ましい塩は、例えはすトリウム、
カリウム、マグネシウム、又はカルシウム虐及びアンモ
ニア又は有機アミン、例えばエチルアミン、ジー又はト
リエチルアミン、ジー又はトリエタノールアミン、ジシ
クロヘキシルアミン、ジメチルアミノエタノール、アル
ギニン、又はエチレンジアミンから誘導されたアンモニ
ウム塩である。

驚くべきことに、本発明の物質は血小板凝集阻害作用を
有し、人及び動物の治療に使用する事が出来る。

アルキルは一般に１ないし１２個の炭素原子を有する直
鎖状又は分枝鎖状炭化水素基を表す。１個ないし約６個
の炭素原子を有する低級アルキルが好ましい。例えばメ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ
ブチル、ペンチル、インペンチル、ヘキシル、イソヘキ
シル、ヘプチル、イソヘプチル、オクチル及びイソオク
チルが挙げられる。

アルケニルは一般に２ないし１２個の炭素原子を一３６
＝ 有し、１個又はそれ以上、好ましくは１個又は２個の二
重結合を有する直鎖状又は分枝鎖状炭化水素基を表す。

２個ないし約６個の炭素原子を有し、そして１個の二二
重結合を壱する低級アルキル基が好ましい。２ないし４
個の炭素原子を有し、そして１個の二重結合を有するア
ルケニル基が特に好ましい。例えば、アリル、プロペニ
ル、イソプロペニル、ブテニル、インブテニル、ペンテ
ニル、イソベンゾニル、ヘキセニル、イソへＮセニル、
ヘプテニル、イソへブテニル、オクテニル及びイソオク
テニルが挙げられる。

シクロアルキルは一般に５個ないし８個の炭素原子を有
する環状炭化水素基である。シクロペンタン及びシクロ
ヘキサン環が好ましい。例えばシクロペンチル、シクロ
ヘキシル、シクロへグチル及びシクロオクチルを挙げる
事が出来る。

アルコキシは一般に１個ないし１２個の炭素原子を有し
、そして酸素原子を経て結合する直鎖状又は分枝鎖状炭
化水素基を表す。１個ないし６個の炭素原子を有する低
級アルコキシが好ましい。１個ないし４個の炭素原子を
有するアルコキシ基が特に好ましい。例えば、メトキシ
、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、
イソブトキシ、ペントキシ、イソペントキシ、ヘキソキ
シ、イソヘキソキシ、ヘプトキシ、イソへ１トキシ、オ
クトキシ及びイソオクトキシを挙げる事が出来る。

アルキルチオは一般に１個ないし１２個の炭素原子を有
し、そして硫黄原子を経て結合する直鎖状又は分枝鎖状
炭化水素基である。１個ないし約６個の炭素原子を有す
る低級アルキルチオが好ましい。１個ないし４個の炭素
原子を有するアルキルチオ基が特に好まｊ７い。例えば
、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピ
ルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、ペンチルチオ、
イソペンチルチオ、ノ＼キシルチオ、イソへキシルチオ
、ヘプチルチオ、イソへブチルチオ、オクチルチオ、イ
ソオクチルチオを挙げる事が出来る。

アリールは一般に６ないし約１２個の炭素原子を貞する
芳香族基である。好ましいアリール基はフェニル、ナフ
チル及びビフェニルである。

アラルキルは一般に７ないし１４個の炭素原子を有し、
そしてアルキレン基を経て結合するアリール基を表す。

脂肪族部に１ないし６個の、そして芳香族部に６ないし
１２個の炭素原子を有するアラルキル基が好ましい。例
えばベンジル、ナフチルメイチル、フェネチル及びフェ
ニルプロピルがアラルキル基として挙げられる。

アルコキシカルボニルは例えば下記の式％式％ で表す事が出来る。

ここでアルキルは１ないし１２個の炭素原子を有する直
鎖状又は分枝鎖状炭化水素基を表す。

アルキル部に１ないし６個の炭素原子を有する低級アル
コキシカルボニルが好ましい。アルキル部に１ないし４
個の炭素原子を有するアルコキシカルボニルが特に好ま
しい。例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル
、ブトキシカルボニル、及びイソブトキシカルボニルが
挙げられる。

カルボキシアルキルは一般に１ないし１２個の炭素原子
を有し、そしてカルボキシル基によって置換されている
直鎖状又は分枝鎖状炭化水素基を表す。工ないし６個の
・炭素原子を有するカルボキシ−低級アルキルが好まし
い。例えばカルボキシメチル、１−力ルボキシエチル、
１−カルボキシプロピル、１−カルボキシブチル、１−
カルボキシペンチル、１−力ルボキシヘキシル、２−カ
ルボキシエチル、２−カルボキシプロピル、２−カルボ
キシブチル、３−カルボキシプロピル、３−カルボキシ
ブチル、４−カルボキシブチル、２−カルボキシ１−プ
ロピル、及び１−力ルボキシ−１−プロピルが挙げられ
る。

アルコキシカルボニルアルキルは一般に１ないし１２個
の炭素原子を有し、上述された意味を有するアルコキシ
カルボニルによって置換された直鎖状又は分枝鎖状炭化
水素基を表す。それぞれのアルキル部に１ないし６個の
炭素原子を有する低級アルコキシカルボニル−低級−ア
ルキルが好ましい。例えば、メトキシカルボニルメチル
、エトキシカルボニルメチル、フ゛ロボキシ力ルポニル
メチル、ブトキシカルボニルメチル、イソプロポキシカ
ルボニルメチル、イソブトキシカルボニルメチル、１−
メトキシカルボニルエチル、■−工トキシカルボニルエ
チル、１−プロポキシカルボニルエチル、１−ブトキシ
カルボニルエチル、１−イソプロポキシカルボニルエチ
ル、１−イソブトキシカルボニルエチル、２−メトキシ
カルボニルエチル、２−エトキシカルボニルエチル、２
−プロポキシカルボニルエチル、２−ブトキシカルボニ
ルエチル、２−イソプロポキシカルボニルエチル、２−
イソブトキシカルボニルエチル、２−メトキシカルボニ
ル−２−プロピル、２−エトキシカルボニル−２−プロ
ピル、Ｚ・−ブロボキシ力ルホ“ニル１０ピル、２−ブ
トキシカルボニル−２−フ゛ロピル、２−イソグロボキ
シカルボニルー２−プロピル、２−イソブトキシカルボ
ニル−２−プロピル、１−メトキシカルボニル−２−プ
ロピル、１・−エトキジカルボニル−２−プロピル、１
−プロポキシカルボニル−２−プロピル、１−ブトキシ
カルボニル−２−プロピル、１〜イソプロポキシカルボ
ニル−２−プロピル、ｌ−イソブトキシカルボニル−２
−プロピル、３−メトキシカルボニルプロピル、３−エ
トキシカルボニルプロビル、３−プロポキシカルボニル
プロビル、３−ブトキシカルボニルプロビル、３−イソ
プロポキシカルボニルプロピル、及び３−イソブトキシ
カルホニルブロピルを挙げる事が出来る。

ハロゲンは一般に弗素、塩素、臭素、又はヨードを、好
ましくは弗素、塩素、又は臭素を表す。ハロゲンは特に
好ましくは弗素又は塩素を表す。

一般式（Ｉ）の好ましい化合物は、 式中 ＲＩが水素、弗素、塩素、臭素、トリフルオロメチル、
カルボキシル、又は低級アルコキシカルボニルを表すか
、又は 式−５（０）、Ｒ５ ここで Ｒ５は低級アルキル又はフェニルを示し、そして Ｉｌ＋は数Ｏ又は２を示す、 の基を表すか、又は Ｒ１か式 Ｒ６及びＲ７は同一か又は異なり、そして水素、低級ア
ルキル、フェニル、ペンシル又はアセチルを示す、 の基を表すか、又は Ｒ１が基　０ＲＩＩ ここで Ｒ８は水素、低級アルキル、フェニル、ベンジル、フェ
ニルスルボニル、メチルスルホニル、エチルスルホニル
又はトリフルオロメチルを示す、 の基を表すか、又は Ｒ’か随時カルボキシル、メトキシ力ルホ。

ニル、エトキシカルボニル、弗素、塩素、臭素、ヒドロ
キシル、低級アルコキシ、又はシアノによって置換され
ていて良い低級アルキル、低級アルケニル、シクロペン
チル、シクロヘキシルを示し、 Ｒ２か、弗素、塩素、臭素、シアノ、トリフルオロメチ
ル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、
低級アルキル、カルボキシルメチル、カルボキシルエチ
ル、メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメ
チル、メトキシカルボニルエチル、エトキシカルボニル
エチル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、ヒドロキ
シル、カルボキシル、低級アルコキシカルボニル、フェ
ニル、フェニルオキシ、ベンジルオキシ又はベンジルチ
オによって、随時モノ−、ジー、又はトリー置換されて
いて良い、又は基 Ｎ ＼、 ここで Ｒ６及びＲ７は上述された意味を有するの基によって置
換されていて良いフェニルを表し、 Ｒ７３が水素又は低級アルキルを表し、そして Ｒ４が水素を表すか、又は Ｒ３及びＲ４−緒になってカルボニル酸素に結合する のＮ−ジヒドロインドリルエチル−スルホンアミド類及
びそれらの塩類である。

特に好ましい弐Ｎ）の化合物は 式中 Ｒ１が水素、弗素、塩素、臭素、トリフルオロメチル、
メチルチオ、エチルチオ、メチルスルホニル、エチルス
ルホニル、フェニルチオ、フェニルスルホニル、アミノ
、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、又はアセチルアミ
ノを表すか、又は基−ＯＲ”ここで ＲＩ′は水素、自−〇じアルキル、フェニル、又はベン
ジルを示す、 を表ずか、 Ｒ１がＣ２−Ｃ４−アルキルを表し、 Ｒ２が、弗素、塩素、臭素、シアノ、■・リフルオロメ
チル、トリフルオロメトキシＣ，−Ｃ，−アルキル、Ｃ
，−Ｃじアルコキシ、メチルチオ、ヒドロキシル、メト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、ジメチルアミノ
、アセチルアミノ及びジエチルアミノから成る群からの
同一か又は異なる置換基によって随時モノ−、又はジー
置換することの出来るフェニルを表し、 Ｒ３が水素、又はＣ，−Ｃじアルキルを表し、そして Ｒ４が水素を表すか、又は Ｒ３及びＲ４は一緒にカルボニル酸素に結合する のＮ−ジしドロインドリルエチル−スルホンアミド類及
びそれらの塩類である。

更に特に好ましい式（Ｉ）の化合物は 式中 Ｒ１は水素、弗素、塩素、メチル、メトキシ又はヒドロ
キシルを表し、 Ｒ２は随時、弗素、塩素、トリフルオロメチル、メチル
、エチル、プロピル、イソプロピル、又はメトキシによ
って置換されるフェニルを表し、 Ｒ３は水素又はメチルを表し、そして Ｒ４は水素を表すか、又は Ｒ．３及びＲ４は一緒にカルボニル酸素に結合する、 のＮ−ジヒドロイントリルエチル−スルポンアミド類及
びそれらの塩類である。

例えば、Ｎ−Ｒ２−［１−（２−カルホキジエチル）・
２．３−ジヒドロ−ＩＨ−インドール−３−イル］エチ
ル］ベンゼンスルホンアミド、Ｎ−［２−［１−（２−
カルホキジエチル）−２．３−ジヒドロ−Ｉ　Ｈ−イン
ドルー３−イル］エチル］−（４−フルオロフェニル）
スルホンアミド、Ｎ（２−［１−（２−カルボキシエチ
ル）−２．３−ジヒドロ−Ｉ　Ｈ　−　２−メチル−イ
ンドルー３−イル］エチル］−（４−クロロフェニル）
−スルホンアミド、Ｎ−［２−［１−（２−カルボキシ
エチル）−２．３−ジヒドロ−２−メチル−ＩＨ−イン
ドルー３−イル］エチル］−（４−フルオロフェニル）
スルホンアミド、Ｎ−［２−［１−（２−カルボキシエ
チル）−２．３−ジヒドロ−５−フルオロ−２−メチル
−１トインドルー３−イル］エチル〕−（４−フルオロ
フェニル）スルホンアミド、Ｎ＝［２−［１−　（２−
カルボキシエチル）−２．３−ジヒドロ−２−オキソ−
１■−インドルー３−イル］エチル］ーベンゼンスルホ
ンアミド、Ｎ−［２−１１−（２−カルボキシエチル）
−２．３ージしドロー２−オキソ−１１１−インドルー
３−イル］エチル］−（４−クロロフェニル）スルホン
アミド、及びＮ（２−［１−（２−カルボキシエチル）
−２，’ｌージヒドロー２ーオキソーＨｌ−インドルー
３−イル］エチル］−（４−フルオロフェニル）スルホ
ンアミドを挙げる事が出来る。

４８　一 本発明に於いて、式（Ｉａ）のＮ−ジヒドロインドリル
エチル−スルホンアミドは １ζ式 式中 Ｒ１及びＲ２は与えられた意味を有し、Ｒ３は水素又は
アルキルを表し、そしてＲ４は水素を表す、 に相当する。

本発明に於いて、式（Ｉｂ）のＮ−ジしドロインドリル
エチル−スルホンアミドは 十式 式中 Ｈ＋及びＲ２は与えられた意味を有する、に相当する。

一般式（ｌａ） 式中 Ｒ１は水素、ハロゲン、トリフルオロメチル、カルボキ
シル又はアラルキルスルホニル、又は式、・５（０）詐
５ ここで、Ｒ５はアルキル又はアリールを示し、そして Ｉｆｌは数、０．１、又は２を示す、 の基を表すか、又は Ｒ’は式 ここで、Ｒ６及びＲ７は同一か異なり、水素、アルキル
、アリール、アラルキル、又はアシルを示す、 の基を表すか、又は Ｒ１は式　ＯＲ８ ここで Ｒ８は水素、アルキル、アリール、アラルキル、アルキ
ルスルホニル、アリールスルホニル、アラルキルスルホ
ニル、又はトリフルオロメチルを示す、 の基を表すか、又は Ｒ１は随時カルボキシル、アルコキシカル−，５Ｌ− ボニル、ハロゲン、ヒドロキシル、アルコキシ、アルキ
ルチオ、又はシアノＧこよって置換されていて良いアル
キル、アＪレケニル、又はシクロアルキルを表し、 Ｒ２は随時ハロゲン、シアノ、トリフルオロメチル、ト
リフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、アルキ
ル、加レボキシアルキル、アルコキシカルボニルアルキ
ルアルコキシ、アルキルチオ、ヒドロキシル、カルボキ
シル、アルコキシ加し７１テ二ｌし、フェニル、フェニ
ルオキシ、ベンジルオキシ、及びペンシルチオからなる
群からの５以］この置換基よって置換されて１）て良１
１）、又番ま式 Ｒｈ及びＲ７は．１Ｌ通された意味を有する、の基によ
って置換されていて良％１ア１ノールを表し、 Ｒ３は水素又はアルキルを表し、そしてＲ４は水素を表
ず、 トジヒドロイントリル・スルポンアミド及びそれらの塩
類の、 一般式（ＩＩ） 式中 Ｒ　ｌ　、　Ｒ　２及びＲ３は上述された意味を有する
、 のＮ−インドリルエチルスルホンアミド又はその塩を、
もし適当ならば不活性有機溶媒の存在下に、酸及び還元
剤の存在Ｆに水素化し、もし適当ならば異性体を通常の
方法で分割し、そして塩を製造する場合は生成物を対応
する塩基と反応させる製造法が発見された。

本発明の製造法は、以下の式によって表す事が出来る。

ＯＯＨ 水素化に使用出来る溶媒は、反応条件Ｆに変化を受けな
い不活性有機溶媒である。これらの中には、好ましくは
ニーデル類、例えばジエチルニーデル、ジオキサン、又
はテトラヒドロフラン、又は酢酸、トリフルオロ酢酸、
メタンスルホン酸、又はトリフルオロメタンスルホン酸
が含まれる。これら溶媒の混合物も使用する事が可能で
ある。

使用する事が出来る酸は、通常の有機酸である。これら
の中には、好ましくはカルボン酸、例えば酢酸、プロピ
オン酸、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸又はＩ・リフルオロ
酢酸、あるいはスルホン酸類、例えばメタンスルホン酸
、エタンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンス
ルホン酸又はトリフルオロメタンスルホン酸が含まれる
。

本発明の水素化に使用出来る還元剤は、通常の還元剤で
ある。これらの中には、好ましくは水素化物、例えば水
素化ホー素ナトリ〜人、水素化シアノホー素ナトリウム
、□水素化ポー素テトラブチルアンモニウム、水素化シ
アンホー素テトラブチルアンモニウム、水素化トリブチ
ル錫、トリエヂルシラン、ジメチルフェニルシラン又は
トリフェニルシランが含まれる。

水素化は一般に−４０ないし＋８０℃の温度範囲で、好
ましくは−２０ないし＋６０℃の温度範囲で実施される
。

本発明の方法は一般に常圧下に実施される。

しかし、本発明の方法を減圧下又は加圧下に、例えば０
　、５　ｆｌいし５ｂａｒの）土範囲で、実施すること
も可能である。

一般に式（ＩＩ）のＮ−インドリルエチル−スルホンア
ミド１モル当たり、還元剤は工ないし５モル、好ましく
は１ないし１．５モルが用いられる。

反応剤の相当モル蒐を使用する事が特に好ましい。

本発明の方法を実施する際、化合物は異性体混合物とし
て得られ、これらは通常の方法、例えば晶析又は、好ま
しくはクロマトグラフフィによって個々の異性体に分割
する事が出来る［Ｅ、Ｌ、　Ｅｌｉｅｌ、　”Ｓｔｅｒ
ｅｏｅｈｅｍｉｓｔｒｙ　ｏｆ　ＣａｒｂｏｎＣｏｍｐ
ｏｕｎｄｓ”　（炭素化合物の立体化学）　、ＭｃＧｒ
ａｗｔｌ　ｉ　ｌ　１社（１９６２）；　’ＬＣ，５ｔ
ｉｌｌ、Ｍ、Ｋａｈｎ、　　八、Ｈｉｔｒａ、　Ｊ、　
Ｏｒｇ、　Ｃｂｅｍ、　４−３−、２９２３　（１９７
８）参照り本発明の方法は例えば、以Ｆの様に実施され
る。

Ｎ−インドリルエチル−スルポンアミドを不活性溶媒に
溶解し、そして還元剤を少しづつ添加する。反応が、終
わったら、反応混合物は抽出及び／又はクロマトグラフ
フィによって後処理する。

一般式（１ｂ） 式中 Ｒ’は水素、ハロゲン、トリフルオロメチル、カルボキ
シル又はアルコキシカルボニル、又は式、−５（０）、
Ｒ５ ここで、Ｒ５はアルキル又はアリールを示し、そして 艶は数、０．１、又は２を示す、 の基を表すか、又は １（１は式 ここで、Ｒ６及びＲ７は同一か異なり、水素、アルキル
、アリール、アラルキル、又はアシルを示す、 の基を表すか、又は １亡１は式　０Ｒ１１ ここで゛ Ｒ８は水素、アルキル、アリール、アラルキル、アルキ
ルスルボニル、アリールスルボニル、アラルキルスルホ
ニル、又はトリフルオロメチルを示す、 の基を表すか、又は Ｒ１は随時カルボキシル、アルコキシカルボニル、ハロ
ゲン、ヒドロキシル、アルコキシ、アルキルチオ、又は
シアノによって置換されていて良いアルキル、アルケニ
ル、又はシクロアルキルを表し、 Ｒ２は随時ハロゲン、シアノ、トリフルオロメチル、ト
リフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、アルキ
ル、カルボキシアルキル、アルコキシカルボニルアルキ
ル、アルコキシ、アルキルチオ、ヒドロキシル、カルボ
キシル、アルコキシカルボニル、フェニル、フェニルオ
キシ、ヘンシルオキシ、及びべ〉′ジルチオからなる群
からの５以トの置換基よって置換されていて良い、又は
式 Ｒ６及びＲ７は上記の意味を有する、 の基によって置換されていて良いアリールを表す、 のＮ−ジしドロインドリル−スルホンアミド及びその塩
の、 一般式（Ｉｌａ） ０ＯＨ −６〇一 式中 Ｒ１及びＲ２は上記の意味を有し、そしてＲ４は水素を
表す、 のＮ−インドールエチル−スルホンアミドを不活性溶媒
中、もし適当ならば酸の存在下に酸化し、そしてその塩
を製造する場合は、生成物を対応する塩基と反応させる
事を特徴とする製造法も発見された。

本発明の方法は以下の式によって表す事が出来る。

ＣＯＯＨ 本発明の方法の為の酸化剤は好ましくは求電子的酸化剤
である。好ましい酸化剤としては、Ｎ−ブロモコハク酸
イミド、ハロゲン、例えば塩素及び臭素、及びジメチル
スルホキシドを挙げる事が出来る。臭素及びジメチルス
ルホキシドが特に好ましい。

ジメチルスルホキシドを用いた不活性溶媒中酸の存在下
に行う酸化が特に好ましい。

ここで使用できる溶媒は水又反応条件下に変わらない不
活性有機溶媒である。これらの中には、好ましくはアル
コール類、例えばメタノール、エタノール、プロパツー
ル又はイソプロパツール、又はエーテル類、例えばジエ
チルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、又は
グリコール　モノ−又はグリコール　ジメチルエーテル
、又は炭化水素類、例えはベンゼン、トルエン、キシレ
ン、又は石油溜置（約Ｃ１ないしＣｌ２）　、又はハロ
ゲン化炭化水素類、例えば塩化メチレン、クロロホルム
、四塩化炭素又は１．２−ジクロロエタン、又は酢酸、
トリフルオロ酢酸、又はジメチルスルホキシドが含まれ
る。

もし２適当ならば、酸化は酸の存在下に実施される。

使用出来る酸は通常の無機又は有機酸である。

これらの中には、好ましくは無機酸類、例えば塩酸、臭
化水素酸、ヨー化水素酸、硫酸、又は燐酸又は有機酸類
、例えば酢酸、トリフルオロ酢酸、クロロ酢酸、ジクロ
ロ酢酸、トリクロロ酢酸、又はスルホン酸類、例えばメ
タンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン
酸が含まれる。

酸化は一般にＯないし１００℃の温度範囲で、好ましく
は２０ないし６０℃の温度範囲で実施される。

本発明の方法は、一般に常圧下に実施される。

しかし本方法を減圧下に、又は加圧下に（例えば０．５
ないし５ｂａｒの圧力範囲で）実施する事も可能である
。

一般に、トインドリルエヂルースルホンアミ−６コ七−
一 ド（ＩＩａ）　１モル当たり、工ないし２モル、好まし
くは工ないし１．５モルの酸化剤を使用される６当１２
モルの反応剤を使用するのが特に好ましい。

本発明の方法は、例えば次の様に実施される。

トインドリルエチルースルホンアミドを、同時に希釈剤
でもあり、酸化剤でもあるジメチルスルホキシド中に懸
濁させ、そして酸を加える。

反応が終わったら、混合物は抽出処理する。

出発物質として使用される一般式（■）のＮ−インドリ
ルエチル−スルボンアミド及びその塩は新規である。

同化合物は、下記の方法、即ち 一般式（ＩＩＩ） 式中 Ｒ’は水素、ハロゲン、トリフルオロメチル、カルボキ
シ、又はアルコキシカルボニルを表すか、又は 式Ｓ（０）ｍＲ５ ここで Ｒ５はアルキル又はアリールを表し、そして 輸は数０、ｌ又は２を表す、 の基を表すか、又は Ｒ１は式 Ｒ６及びＲ７は同一か又は異なり、そして水素、アルキ
ル、アリール、アラルキル、又はアリールを表す、 の基を表ずか、又は Ｒ１は式　ＯＲ８ ここで Ｒ１′は水素、アルキル、アリール、アラルキル、アル
キルスルボニル、アリールスルボニル、アラルキルスル
ボニル又はトリフルオロメチルを表す、 の基を表すか、又は Ｅｌ’は随時カルボキシル、アルコキシカルボニル、ハ
ロゲン、ヒドロキシル、アルコキシ、アルキルチオ、又
はシアンによって置換されていて良いアルキル、アルケ
ニル、又はシクロアルキルを表し、 Ｒ４は水素を表す、 のインドリルエチル−アミンを、 一般式（ＩＶ） ｙ−ｓｏ２−Ｒ２（Ｎ） 式中 Ｒ２は随時ハロゲン、シアノ、トリフルオロメチル、ト
リフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシチオ、アル
キｌし、カルボキシアルキル、アルコキシカルボニルア
ルキル、アルコキシ、アルキルチオ、ヒドロキシル、カ
ルボキシル ル、フェニル、フェノキシ、ベンジルオキシ、及びペン
シルチオから成る群れからの５個以下の基によって置換
されていて良い、又は 式 Ｉ工６及びＲ７は上述された意味を有し、そしてＹはハ
ロゲンを表す、 の基によって置換されていて良いアリールを表す、 のスルホン酸ハライドと反応させ、そして式（Ｖ） Ｈ２Ｃ＝ＣＨ−ＣＮ　　’　　　　　（Ｖ）のアクリロ
ニトリルと不活性溶媒の存在下、も１〜適当ならば塩基
の存在Ｆに反応させ、得られたＮ，Ｎ’−ビスシアノエ
チル化合物を加水分解し、そして塩を製造する場合は生
成物を対応する塩−、−　６７　− 基と反応させる。

出発物質とし”Ｃ使用される式（Ｉｌ）及び（１１ａ）
Ｎ−インドリルエチル−スルホンアミドの製造は、以Ｆ
の式によって表される。

ＯＯＨ 一６８＝ 単離できる中間生成物は一般に本方法を実施することに
より製造される。かくして、本方法は数段階で実施する
ことが可能である。しかし、種々の上程段階を組み合わ
せる事も可能である。

一般式（ＩＩＩ）のインドリルエチルアミン、一般式（
ＩＶ）のスルホン酸ハライド及び式（Ｖ）のアクリロニ
トリルはそれ自体公知であり、それ自体公知である方法
によって製造する事が出来る（ｔｌｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙ
ｌｓ　”Ｍｅｔｈｏｄｅｎ　ｄｅｒ　ｏｒｇａｎｉｓｃ
ｈｅｎ　Ｃｈｅｍｉｅ（有機化学の方法）第１Ｘ巻、４
０７頁以降、及び５４７頁以降（１９５９）；　Ｔｈｅ
　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　ｏｆ　Ｉｎｄｏｌｅｓ（インド
ールの化学）、＾ｃｅｄｅｍｉｅ　Ｐｒｅｓｓ　１９７
０；ＬＪ．　Ｈｏｎｌｉｈａｎ，　Ｉｎｄｏｌｅｓ　Ｐ
ａｒｔ　ＩＩ，　Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆Ｓｏｎｓ，
　１９７２．参照）。

本方法の為の溶媒は、反応条件下に変化しない不活性有
機溶媒であることが出来る。これらの中には、好ましく
はアルコール類、例えばメタノール、エタノール、プロ
パツール、又はイソプロパツール、又はエーテル類、例
えばジエチルエーテル、ジオキサン、又はテトラヒドロ
フラン、又はハロゲン化炭化水素、例えば塩化メチレン
、クロロボルム、四塩化炭素、ジクロロエタン又はトリ
クロロエチレン又は酢酸、トルエン、アセトニトリル、
ニトロメタン、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチル燐
酸トリアミド、ピリジン及びアセトンが含まれる。

使用される塩基は塩基性反応の為の通常の塩基化合物を
使用する事が出来る。これらの中には、好ましくはアル
カリ金属及びアルカリ土類金属水酸化物及び炭酸塩、例
えば水酸化リチウノ＼、ナトリウム、カリウム、カルシ
ウム又はバリウム及び炭酸ナトリウム又はカリウム、ア
ルカリ金属アルコラード、例えばナトリウムメタル−ト
及びエタルレート又はカリウムメタル−ト、又はエタル
レート、又は有機塩基、例えばトリエチルアミン、ピリ
ジン、又は１−メチルピリジン、水酸化ベンジルトリメ
チルアンモニウム又は水酸化テトラブチルアンモニウム
が含まれる。

本方法は一般に、−２０ないし＋１００℃、好ましくは
０ないし８０℃の温度範囲で実施される。

本方法は一般に常圧下に実施される。しかし減圧下又は
加Ｊ＋’ｌ”（例えば０．５ないし１０ｂａｒの圧力範
囲で）で実施することも可能である。

一般にインドリルエチルアミン１モル当たりスルホン酸
ハライド、１ないし５モル、好ましくは１ないし２モル
、特に好ましくは１モルが使用されるアクリロニトリル
は一般にインドリルエチルアミン１モル当たり１ないし
１０モル、好ましくは１ないし５モル、特に好ましくは
３モル使用される。

加水分解は一般に塩基、好ましくはアルカリ金属、アル
カリ土類金属水酸化物又はアルカリ金属アルコラード、
好ましくは水酸化リチウム、ナトリウム、カリウム、カ
ルシウム又はバリウム又はナトリウム、又はカリウムメ
チラート又はエチラートの存在下に実施される。

一般に加水分解に使用される塩基の量はＮ、Ｎ−ビシア
ノエチル化合物１モル当たり１ないし１００モル、好ま
しくは２ないし５０モルである。

本発明で使用するインドールエチルアミンは例えば２−
（５−メチル−１■−インドール−３−イル）エチルア
ミン、２−（５−メトキシ−ＩＨ−インドール−３−イ
ル）エチルアミン、２−（５−フルオロ−ＩＨ−インド
ール−３−イル）エチルアミン、及び２−（５−クロロ
−ＩＨ−インドール−３−イル）エチルアミンである。

本発明で使用出来るスルホン酸ハライドは例えば４−ク
ロロフェニルスルホニルクロリド、４−フルオロフェニ
ルスルホニルクロリド、４−メチルフェニルスルホニル
クロリド、４−トルエンスルホニルクロリド、及び４−
メトキシフェンニルクロリドである。

本発明で使用出来るＮ−インドリルエチル−スルポンア
ミドは例えばＮ’−［２−［１−（２−カルボキシエチ
ル）−１トインドール−３−イル］エチルコベンゼンス
ルホンアミド、Ｎ−［２−［１−（２−カルボキシエチ
ル）−１Ｈ−インドール−３−イル］エチル］ベンゼン
スルホンアミドのナトリウム塩、Ｎ−［２−［１−（２
−カルボキシエチル）−１Ｈ−インドール−３−イル］
エチル］ベンゼンスルホンアミドのトリエチルアミン塩
、Ｎ−１，２−［１−（２−カルボキシエチル）−１１
＋−インドール−３−イル１エチル］−（４−フルオロ
フェニル）スルホ−７２〜 ンアミドのトリエチルアンモニウム塩、Ｎ−［２−［１
−（２−カルボキシエチル）−２−メチル−ＩＨ−イン
ドール−３−イル」エチル］−（４−クロロフェニル）
スルホンアミドのトリエチルアンモニウム塩及び’Ｎ−
［２−［１−（２−カルボキシエチル）−５−フルオロ
−２−メチル−ＩＨ−インドール−３−イル１エチル］
（４−フルオロフェニル）スルポンアミドである。

新規なＮジヒドロインドリルエチル−スルポンアミド及
びその塩は、薬剤中で活性な化合物として使用する事が
出来る。同活性化合物は例えば血小板凝集阻害作用及び
トロンボキサン＾２拮抗作用を有する。同化合物は、血
栓症、血栓塞栓症及び虚血の治療に、抗’ｌｉ息剤、及
び抗アレルギー剤として使用する事が出来る。

新規な活性化合物は公知の方法で、通常の配合剤、例え
ば錠剤、糖衣剤、丸薬、顆粒剤、エアロゾル、シロップ
、乳剤、懸濁剤、又は不活性な無毒で薬学的に適した賦
形剤又は溶媒を用いた液剤（ｓｏｌｕｔｉｏｎ）にする
事が出来る。治療的に活性な化合物は、それぞれの場合
、配合剤全体に対して約０．５ないし９０重１％の濃度
で、即ち上述した投与量範囲を達成するのに十分な箪含
む様存在する事が出来る。

配合剤は例えば、活性化合物を溶媒及び／又は賦形剤で
、もし適当ならば乳化剤及び／又は懸濁剤を用いて増菫
して製造される。希釈剤として水を使用する場合は、も
し適当ならば補助溶剤として有機溶剤を使用する事か出
来る。

補助溶剤として例えば、水、非毒性有機溶剤、例えばパ
ラフィン（例えば石油溜置）、植物油（例えば落花生油
、胡麻油）及びアルコール類（例えばエタノール及びグ
リセリン）、賦形剤例えば粉末にした天然岩、く例えば
カオリン、アルミナ、タルク及びチョーク）、粉末状合
成層（例えば高度分散性珪酸及び珪酸塩）、糖類（例え
ば蔗糖、ラクトース及びグルコース）、乳化剤（例えば
ポリオキシエチレン脂肪酸エステル及びポリオキシエチ
レン脂肪アルコール、アルキルスルホン酸塩、アリール
スルホン酸塩）、懸濁剤（例えばリクニンー亜硫酸廃棄
液、メチルセルロース、澱粉、及びポリビニールピロリ
ドン）及び滑剤（例えばステアリン酸マグネシウム、タ
ルク、ステアリン酸、及びラウリル硫酸ナトリウム）が
挙げられる。

投与は通常の方法、好ましくは経口又は非経口的に、特
に経舌的に、又は静脈内に行う。経口投与の場合、錠剤
は勿論添加剤、例えばくえん酸ナトリウム、炭酸カルシ
ウム、及び燐酸ニーカルシウムを種々の補佐剤例えば澱
粉、好ましくは馬鈴薯澱粉、ゼラチン等、さらに上に挙
げた賦形剤も含む事が出来る。滑剤例えばステアリン酸
マグネシウム、ラウリル硫酸ナトリウム及びタルクを更
に錠剤製造で一緒に使用する事が出来る。水性懸濁剤の
場合、矯味矯臭剤あるいは染料を活性化合物に、上に挙
げた補助剤と共に添加する事が出来る。

非経口的に使用する場合、活性化合物の溶液は、適当な
液状賦形剤を用いて使用する事が出来る。

一般に非経ｌ」投与の場合、効果を得るためには、体重
１　ｋｇ当たり約０．００１な意志０．５ｍｇ、好まし
くは約０．０１ないし０．５ｍｇの量を投与するのか有
利であることか判った。そして経口投与の場合、投与量
は約０．０１ないし２０Ｂ／ｋｇ、好ましくはｏ、ｉな
いし１０ｍｇ／ｋｇ体重である。

とはいうものの、時々上述量から変化させる、特に体重
、投与法、個々の個体の薬剤に対する挙動、配合剤の性
質、そして投与時間又は間隔を配慮して変えることが出
来る。かくしである場合には」一連量よりも少なくする
事が出来、一方他の場合には上述の制限量を越えなけれ
ばならない。比較的大凰が投与される場合は、これを−
日数回に分けて与えるのが良い。

設潅去−１− Ｘ蒲」Ｌｌ− Ｎ−［２−［１，−（２−カルボキシエチル）−２，３
−ジヒドロ−ＩＨ−インドール−３−イル１エチル］ベ
ンゼンスルホンアミド −７６〜 ０．９５　ｇ（２ｎ＋ｍｏｌ）のＮ−［２（１−（２−
カルボキシエチル）−１Ｈ−インドール−３−イル１エ
チル］ベンゼンスルホンアミドの１〜リエチルアンモニ
ウム塩を１０ｍ１のトリフルオロ酢酸に室温で溶解し、
そして０．２３　ｇ（２ｎｕｏｏｌ）のトリエチルシラ
ンを加える。得られた混合物を１０時間放置してから２
Ｎの水酸化す１〜リウム溶液で希釈し、酢酸エチルで抽
出する。

水相は２Ｎ硫酸で酸性にし、酢酸エチルで２回抽出する
。酢酸エチル相を一緒にし、硫酸ナトリウムで乾燥、そ
して蒸発する。高真空下に乾燥してから、残渣を１００
ｇのシリカゲル（Ｎｅｒｃｋ、　（１，６３−０，２ｎ
ｕｎ）上場化メチレンーメタノール（９６：　４）混合
溶媒で精製する。このようにして、０．６８　ｇの粘稠
油状物画分が得られる。（Ｒ，＝０．１２、ＣＩ１２Ｃ
Ｉ２：酢酸エチル−１００：　２）。

塩酸塩を得るために、生成物をアセトンに溶解し、そし
て３１のＩＮ塩酸を加える。真空中徹底的に蒸発すると
、固体残渣０．７　ｇ（理論量の８５％）が得られる。

゛　　融点ニア０−８０℃。

実ＪＬ■スー ｔｌ　［２−［１−（２−カルボキシエチル）−２，３
−ジヒドロ−１トインドール−３−イルコニチル１−（
４−クロロフェニル）スルホンアミド ０．７５　ｇ　（１，９ｍｍｏｌ）のＮ−［２−［１−
（２−カルボキシエチル）１トインドール−３−イルコ
ニチル］−（４−フルオロフェニル）スルホンアミドを
、実施例１と同様に、トリエチルシランを用いて還元す
る。０．５８ｇの粘稠油状物が得られる（Ｒ，＝ｏ、ｉ
ｓ、ＣＨ２Ｃｌ。

：酢酸エチル＝ｉｏｏ　：　２）。生成物を実施例１と
同様にして塩酸塩に変えると０．６２　ｇ（理論量の７
６％）の固体残渣が得られる。

融点：　７０−８０℃ 火ｍ　＠　３− Ｎ−１２，、ｌ’　１−　（２−カルボキシエチル）−
２，：１−ジしドロー２〜メチル−１ｌｌ−インドール
・３・−イル１−（４−クロロフェニル）スルポンアミ
ド α ＣＯＯＨ 異性体混合物 １ｇの水素化シアノホウ素ナトリウムを、０．９ｇ（２
，１＋＊ｍｏｌ）のＮ−１２［１−（２・カルホキジエ
チル）−２−メチル・−１■−インドール−３−イル」
−（４−クロロフェニル）スルポンアミドを１０　ｍｌ
のトリフルオロ酢酸に溶解した溶液に０℃で少しずつ加
える。反応溶〜７９− 液は０ないし５℃で２時間撹拌してから、酢酸エチルで
希釈し、次いで飽和食塩水で３回抽出する。

酢酸エチル相は硫酸ナトリウム上で乾燥、真空上徹底的
に蒸発する。残渣はシリカゲル（Ｍｅｒｅｋ、０．０４
−０．０６３　ｍ＋ａ）上、塩化メチレン−メタノール
混合物（９６：　４）を用いてクロマトグラフにかける
。

蒸発すると０．８ｇの粘稠液状物画分が得られる（Ｆｔ
、、＝０．３、ＣＩｌ□０１２：氷酢酸＝１００　：　
２）。得られた粘稠油状物を実施例１と同様にしてその
塩酸塩に変える。

０．８２　ｇ　（理論量の８５％）の固体残渣。

融点ニア５〜・８０℃。

Ｋ施［、，４ Ｎ−［２−［１−（２−カルボキシエチル）−２，３−
ジヒドロ−２−メチル−ＩＩＩ−インドール−３−イル
１エチル］　−（４＝フルオロフエニル）スルポンアミ
ド ［」 ＯＯＨ 異性体混合物 Ｉ　Ｈ（２，５ｎ＋ｍｏｌ）のＮ−［２−［１−（２−
カルボキシエチル）−２−メチル−ＩＨ−インドール−
３−イルコニチル」・（４−フルオロフェニル）スルポ
ンアミドを水素化シアノポウ素ナトリウムで実施例３と
同様に還元する。

０．８５　ｇの粘稠油状物が得られる（Ｒ，＝０．３２
、ＣＨ２Ｃｌ２：氷酢酸＝１００　：　２）。これを実
施例１と同様にして塩酸塩に変えると０．９ｇ（理論量
の８１％）の固体が得られる。

融点：　７５−８０℃。

火１鮭Σ反囚失隻涯■ Ｎ−［２−［１−（２−カルボキシエチル）−５−フル
オロ・−２，３−ｒ−ジヒドロ−２−ｅ−メチル−１１
１インドール−３−イル１エチル］−（４−フルオロフ
ェニル）スルポンアミド及び’Ｎ−１２−［１−（２−
カルボキシエチル）−５−フルオロ−２，３−ｒ−ジヒ
ドロ−２−トメチル−１！１−インドール−３−イル」
エチル１−（４−フルオロフェニル）スｌし７トンアミ
ド ５−４７　ｇ（０，０１３１１１ｏｌ）のＮ−ｒ２−１
１−　（２−カルボキシエチル）−５−フルオロ−２−
メチル−１旧インドール−３〜イル１エチル１−（４−
フルオロフェニル）スフレホンアミドを水素化シアノホ
ウ素ナトリウムで実施例３と同様にして還元する。４０
０ｇのシリカゲル（Ｍｅｒｃｋ、０．０４−０．０６：
シｒｏｍ）充填カラムクロマトグラフＪ：、、１．００
　：　１塩化メチレン−氷酢酸混合物で展開すると２画
分が得られる。第１画分を蒸発すると０．４７　ｇの異
性体Ａ　（Ｒ−−０，５ｇ、ｃ１２ｃｌ□：氷＃峻＝１
．００：２）。蒸発−４ると第２画分は、２．２８　　
ｇの異性体Ｂ（Ｒ，＝０．４２、Ｃ１１２Ｃ１□；氷酢
酸−１００：２）。こうして得られた異性体Ａ及びＢは
実施例１と同様に塩酸塩に変えられる。こうして２．３
５　ｇ＜理論量の３９％）の固体状異性体１３塩酸塩、
及び０．５３１？　（理論量の９％）の異性体Ａ塩酸塩
が得られる。

融点：　８０−９０’Ｃ。

融点：５８−７０℃。

灯色−例！− Ｎ−ｌ’２−［１−（２−カルボキシエチル−オキソ−
１■−インドール−３−イル］エチル］ベンゼンスルホ
ンアミド ０．７４　ｇ（１，５６ｍｍｏｌ）のＮ−［２−［１−
（２−カルボキシエチル）４１１−インドール−３−イ
ル］エチル］−ベンゼンスルホンアミドのトリエチルア
ンモニウム塩を８和１のジメチルスルホキシドに懸濁し
、４諭１の濃塩酸を加える。得られた透明溶液を５０℃
で３時間撹拌する。次いで水で希釈し、酢酸エチルで抽
出する。酢酸エチル相を水で２回洗浄し、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥そして蒸発する。０．５７　ｇ　（理論量の
９４％）の固体生成物が得られる。

Ｒ，、−０，３４、ＣＩｌ□Ｃ１□：　ＣＩｌ、０Ｈ＝
９　：　１融点：　５０−６０’Ｃ 丸良鰹現 Ｎ−［２−［１−（２−カルボキシエチル）　−２，３
−ジヒドロ−２・−オキソ−１，１１−インドール−３
−イル］Ｉエチル］−（４−り−８４〜 ロロフェニル）スルホンアミド １．７２　ｇ（３，４１１１１１１０１）のＮ−［２−
［１−（２−カルボキシエチル）−ＩＩＩ−インドール
−３−イル］エチル］−（４−クロロフェニル）スルホ
ンアミドのトリエチルアンモニウム塩を実施例フと同様
に酸化する。１，４８（理論量の９７％）の固体状生成
物が得られる。ＦＬｔ−０，４４、Ｃ１１，、Ｃ１□：
　ＣＨ３０１１＝９　：　１゜融点：　８０−７０’Ｃ
，。

夫施班文 Ｎ−［２−シ１−（２−カルボキシエチル）−２，３−
ジしドロー２・オキソ−１■−インドール−３−イル］
エチル］−（４−フルオロフェニル）スルホンアミド ３　ｇ（７，７ｍｕ＋ｏｌ）のＮ−［２−［１−（２−
カルボキシエチル）−１トインドール−３−イル］エチ
ル］−（４−フルオロフェニル）スルホンアミドを実施
例７と同様に酸化する。３ｇ（理論量の９６％）の固体
状生成物が得られる。

１（、＝０．３８、Ｃ１２Ｃ１□：ＣＩｌ、、０ｔｌ＝
９　：　１血小板凝集阻害作用を測定するために、男性
女性両方の健康な希望者から得た血液を使用した。

濃度３，８％のくえん酸水溶液１部を９部の血液と混合
した。この血液を遠心機にかけて、血小板リッヂなくえ
ん酸塩添加血漿（ｒ’ＲＰ）を得た。　（ＪｕｒＩ？ｅ
ｎｓ／Ｂｅ１ｌｅｒ、　Ｋ１１ｎｉｓｃｈｅ　Ｍｅｔｈ
ｏｄｅｎ　ｄｅｒ　ＢＩｕｔＨｅｒｉｎｎｕｎｇｓａｎ
ａｌｙｓｅ（臨床凝血分析法）　；　Ｔｈｉｅｍｅ　Ｖ
ｅｒｌａｇ。

Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ、　　１９５９）。

これらの検討の為に、０．８　ｍｌのＰＲＰ及び０．１
　ｍｌの活性化合物溶液を、水浴中３７℃で予備培養し
な。

次いで血小板凝集を濁度測定法によって３７て〕の凝集
計（１’ｂｅｒａｐｅｕｔｉｓｃｌ＋ｅ　Ｂｅｒｉｃｈ
ｔｅ　４７−１８０−８６゜１９７５）の中で定巖した
（Ｂｏｒｎ、　Ｇ、Ｖ、Ｒ，、Ｊ、　Ｐｈｙｓｉｏｌ。

（Ｌｏｎｄｏｎ）、　１６２．、６７、１９６２）、こ
のために０．１ｍｌのコラーゲンを凝集誘起剤として予
備培養した試料に加えた。ＰＲＰの試料に於ける吸光度
の変化を６分間以−ト記録し、６分後の偏光を決定した
。対照と比較して阻害作用を％で計算した。。

各実施例によるＮ−ジヒドロ　　阻害限界濃度インドリ
ルエイチル−（ｍｇ／ｌ） 入児ホー４乙辷ｔ’　　−−、−−−−−−−−−−−
−一−１１０ないし３．０ ２　　　　　　　　　　　１ないし０．；）３　　　　
　　　　　　１ないし０，３４　　　　　　　　　　　
０．３ないし０．１５　　　　　　　　　　０．１ない
し０．０１・７　　　　　　　　　　　１ないしｏ、ｉ
影−０，１ないし０．０３

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 式中 Ｒ＾１は水素、ハロゲン、トリフルオロメチル、カルボ
   キシル又はアルコキシカルボニル、又は式、−Ｓ（Ｏ）
   ＿ｍＲ＾５ ここで、Ｒ＾５はアルキル又はアリールを示し、そして ｍは数、０、１、又は２を示す、 の基を表すか、又は Ｒ＾１は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここで、Ｒ＾６及びＲ＾７は同一か異なり、水素、アル
   キル、アリール、アラルキル、又はア シルを示す、 の基を表すか、又は Ｒ＾１は式ＯＲ＾８ ここで Ｒ＾８は水素、アルキル、アリール、アラルキル、アル
   キルスルホニル、アリールスル ホニル、アラルキルスルホニル、又はトリ フルオロメチルを示す、 の基を表すか、又は Ｒ＾１は随時カルボキシル、アルコキシカルボニル、ハ
   ロゲン、ヒドロキシル、アルコ キシ、アルキルチオ、又はシアノによって 置換されていて良いアルキル、アルケニル、又はシクロ
   アルキルを表し、 Ｒ＾２は随時ハロゲン、シアノ、トリフルオロメチル、
   トリフルオロメトキシ、トリフ ルオロメチルチオ、アルキル、カルボキシ アルキル、アルコキシカルボニルアルキル、アルコキシ
   、アルキルチオ、ヒドロキシル、カルボキシル、アルコ
   キシカルボニル、フェニル、フェニルオキシ、ベンジル
   オキシ、 及びベンジルチオからなる群からの５以下 の置換基よって置換されていて良い、又は 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここで Ｒ＾６及びＲ＾７は上述された意味を有する、の基によ
   って置換されていて良いアリール を表し、 Ｒ＾３は水素又はアルキルを表し、そして Ｒ＾４は水素を表すか、又は Ｒ＾３及びＲ＾４は一緒にカルボニル酸素に結合する、 のＮ−ジヒドロインドリルエチル−スルホンアミド類及
   びそれらの塩類。 ２、Ｒ＾１が水素、弗素、塩素、臭素、トリフルオロメ
   チル、カルボキシル、又は低級アル コキシカルボニルを表すか、又は 式−Ｓ（Ｏ）＿ｍＲ＾５ ここで Ｒ＾５は低級アルキル又はフェニルを示し、そして ｍは数０又は２を示す、 の基を表すか、又は Ｒ＾１が式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここで Ｒ＾６及びＲ＾７は同一か又は異なり、そして水素、低
   級アルキル、フェニル、ベンジル又 はアセチルを示す、 の基を表すか、又は Ｒ＾１が基ＯＲ＾８ ここで Ｒ＾８は水素、低級アルキル、フェニル、ベンジル、フ
   ェニルスルホニル、メチルスル ホニル、エチルスルホニル又はトリフルオ ロメチルを示す、 の基を表すか、又は Ｒ＾１が随時カルボキシル、メトキシカルボニル、エト
   キシカルボニル、弗素、塩素、 臭素、ヒドロキシル、低級アルコキシ、又 はシアノによって置換されていて良い低級 アルキル、低級アルケニル、シクロペンチ ル、シクロヘキシルを示し、 Ｒ＾２が、弗素、塩素、臭素、シアノ、トリフルオロメ
   チル、トリフルオロメトキシ、 トリフルオロメチルチオ、低級アルキル、 カルボキシルメチル、カルボキシルエチル、メトキシカ
   ルボニルメチル、エトキシカル ボニルメチル、メトキシカルボニルエチル、エトキシカ
   ルボニルエチル、低級アルコキ シ、低級アルキルチオ、ヒドロキシル、カ ルボキシル、低級アルコキシカルボニル、 フェニル、フェニルオキシ、ベンジルオキ シ又はベンジルチオによって、随時モノ−、ジ−、又は
   トリ−置換されていて良い、又は基 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここで Ｒ＾６及びＲ＾７は上述された意味を有するの基によっ
   て置換されていて良いフェニル を表し、 Ｒ＾３が水素又は低級アルキルを表し、そして Ｒ＾４が水素を表すか、又は Ｒ＾３及びＲ＾４一緒になってカルボニル酸素に結合す
   る である特許請求の範囲第１項記載のＮ−ジヒドロインド
   リルエチル−スルホンアミド類及びそれらの塩類。 ３、Ｒ＾１が水素、弗素、塩素、臭素、トリフルオロメ
   チル、メチルチオ、エチルチオ、メ チルスルホニル、エチルスルホニル、フェ ニルチオ、フェニルスルホニル、アミノ、 ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、又はア セチルアミノを表すか、又は基−ＯＲ＾８ ここで Ｒ＾８は水素、Ｃ＿１−Ｃ＿４−アルキル、フェニル、
   又はベンジルを示す、 を表すか、 Ｒ＾１がＣ＿１−Ｃ＿４−アルキルを表し、Ｒ＾２が、
   弗素、塩素、臭素、シアノ、トリフルオロメチル、トリ
   フルオロメトキシ、 Ｃ＿１−Ｃ＿４−アルキル、Ｃ＿１−Ｃ＿４−アルコキ
   シ、メチルチオ、ヒドロキシル、メトキシカルボニ ル、エトキシカルボニル、ジメチルアミノ、アセチルア
   ミノ及びジエチルアミノから成 る群からの同一か又は異なる置換基によっ て随時モノ−、又はジ−置換することの出来るフェニル
   を表し、 Ｒ＾３が水素、又はＣ＿１−Ｃ＿４−アルキルを表し、
   そして Ｒ＾４が水素を表すか、又は Ｒ＾３及びＲ＾４は一緒にカルボニル酸素に結合する である特許請求の範囲第１項または第２項記載のＮ−ジ
   ヒドロインドリルエチル−スルホンアミド類及びそれら
   の塩類。 ４、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） Ｒ＾１は水素、ハロゲン、トリフルオロメチル、カルボ
   キシル、又はアルコキシカルボニルを表すか、又は 式−Ｓ（Ｏ）＿ｍＲ＾５ ここで Ｒ＾５はアルキル又はアリールを示し、そしてｍは数０
   、１又は２のいずれかを示す、 の基を表すか、又は Ｒ＾１は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここで Ｒ＾６及びＲ＾７は同一か又は異なり、水素、アルキル
   、アリール、アラルキル又はアシルを示す を表すか、又は Ｒ＾１は式　ＯＲ＾８ ここで Ｒ＾８は水素、アルキル、アリール、アラルキル、アル
   キルスルホニル、アリールスルホニル、アラルキルスル
   ホニル又はトリフルオロメチルを示す、 の基を表すか、又は Ｒ＾１は、随時カルボキシル、アルコキシカルボニル、
   ハロゲン、ヒドロキシル、アルコキシ、アルキルチオ、
   又はシアノによって置換されていて良いアルキル、アル
   ケニル、又はシクロアルキルを表し、 Ｒ＾２は、随時ハロゲン、シアノ、トリフルオロメチル
   、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、ア
   ルキル、カルボキシアルキル、アルコキシカルボニルア
   ルキル、アルコキシ、アルキルチオ、ヒドロキシル、カ
   ルボキシル、アルコキシカルボニル、フェニル、フェニ
   ルオキシ、ベンジルオキシ及びベンジルチオから成る群
   れからの５以下の置換基によって置換されていて良い、
   又は 下式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここで Ｒ＾６及びＲ＾７は上記の意味を有する の基によって置換されていて良いアリールを表し、 Ｒ＾３は水素又はアルキルを表し、そして Ｒ＾４は水素を表すか、又は Ｒ＾３及びＲ＾４一緒にカルボニル酸素と結合する、の
   治療に使用するＮ−ジヒドロインドリルエチル−スルホ
   ンアミド類及び／又はそれらの塩類。 ５、一般式（ I ａ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ａ） 式中 Ｒ＾１は水素、ハロゲン、トリフルオロメチル、カルボ
   キシル又はアルコキシカルボニル、又は式、−Ｓ（Ｏ）
   ＿ｍＲ＾５ ここで、Ｒ＾５はアルキル又はアリールを示し、そして ｍは数、０、１、又は２を示す、 の基を表すか、又は Ｒ＾１は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここで、Ｒ＾６及びＲ＾７は同一か異なり、水素、アル
   キル、アリール、アラルキル、又はアシルを示す、 の基を表すか、又は Ｒ＾１は式ＯＲ＾８ ここで Ｒ＾８は水素、アルキル、アリール、アラルキル、アル
   キルスルホニル、アリールスルホニル、アラルキルスル
   ホニル、又はトリフルオロメチルを示す、 の基を表すか、又は Ｒ＾１は随時カルボキシル、アルコキシカルボニル、ハ
   ロゲン、ヒドロキシル、アルコキシ、アルキルチオ、又
   はシアノによって置換されていて良いアルキル、アルケ
   ニル、又はシクロアルキルを表し、 Ｒ＾２は随時ハロゲン、シアノ、トリフルオロメチル、
   トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、アル
   キル、カルボキシアルキル、アルコキシカルボニルアル
   キル、アルコキシ、アルキルチオ、ヒドロキシル、、カ
   ルボキシル、アルコキシカルボニル、フェニル、フェニ
   ルオキシ、ベンジルオキシ、及びベンジルチオからなる
   群からの５以下の置換基よって置換されていて良い、又
   は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここで Ｒ＾６及びＲ＾７は上述された意味を有する、の基によ
   って置換されていて良いアリールを表し、 Ｒ＾３は水素又はアルキルを表し、そして Ｒ＾４は水素を表す、 Ｎ−ジヒドロインドリルエチル−スルホンアミド類及び
   それらの塩類の、 一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 式中 Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＲ＾３は上述された意味を有する、
   のＮ−インドリルエチルスルホンアミド又はその塩を、
   もし適当ならば不活性有機溶媒の存在下に、酸及び還元
   剤の存在下に水素化し、もし適当ならば異性体を通常の
   方法で分割し、そして塩を製造する場合は生成物を対応
   する塩基と反応させる事を特徴とする製造法。 ６、一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 式中 Ｒ＾１は水素、弗素、塩素、臭素、トリフルオロメチル
   、カルボキシル、又は低級アルコキシカルボニルを表す
   か、又は 式−Ｓ（Ｏ）＿ｍＲ＾５ ここで Ｒ＾５は低級アルキル又はフェニルを示し、そして ｍは数０又は２を示す、 の基を表すか、又は Ｒ＾１は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここで Ｒ＾６及びＲ＾７は同一か又は異なり、そして水素、低
   級アルキル、フェニル、ベンジル又はアセチルを示す、 の基を表すか、又は Ｒ＾１は式０Ｒ＾８ ここで Ｒ＾８は水素、低級アルキル、フェニル、ベンジル、フ
   ェニルスルホニル、メチルスルホニル、エチルスルホニ
   ル又はトリフルオロメチルを示す、 の基を表すか、又は Ｒ＾１は、随時カルボキシル、メトキシカルボニル、エ
   トキシカルボニル、弗素、塩素、臭素、ヒドロキシル、
   低級アルコキシ又はシアノによって置換されていて良い
   低級アルキル、低級アルケニル、フェニル、ベンジル、
   シクロペンチル又はシクロヘキシルを表し、 Ｒ＾２は、随時弗素、塩素、臭素、シアノ、トリフルオ
   ロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチル
   チオ、低級アルキル、カルボキシルメチル、カルボキシ
   ルエチル、メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボ
   ニル、メチル、メトキシカルボニルエチル、エトキシカ
   ルボニルエチル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、
   ヒドロキシル、カルボキシル、低級アルコキシカルボニ
   ル、フェニル、フェノキシ、ベンジルオキシ、又はベン
   ジルチオによってモノ−、ジー又はトリ−置換されてい
   て良い、又は 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここで Ｒ＾６及びＲ＾７は上記の意味を有する の基によって置換されていて良いフェニルを表し、そし
   て Ｒ＾３は水素又は低級アルキルを表す のＮ−インドリルエチル−スルホンアミド類を使用する
   事を特徴とする特許請求の範囲第５項記載の方法。 ７、一般式（II） ＮＨ−ＳＯ＿２−Ｒ＾２ ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 式中 Ｒ＾１は水素、弗素、塩素、臭素、トリフルオロメチル
   、メチルチオ、エチルチオ、メチルスルホニル、エチル
   スルホニル、フェニルチオ、フェニルスルホニル、アミ
   ノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ又はアセチルアミ
   ノを表すか、又は 式−ＯＲ＾８ ここで Ｒ＾８は水素、Ｃ＿１−Ｃ＿４−アルキル、フェニル、
   又はベンジルを示す、 を表すか、 Ｒ＾１がＣ＿１−Ｃ＿４−アルキルを表し、Ｒ＾２が、
   弗素、塩素、臭素、シアノ、トリフルオロメチル、トリ
   フルオロメトキシ、Ｃ＿１−Ｃ＿４−アルキル、Ｃ＿１
   −Ｃ＿４−アルコキシ、メチルチオ、ヒドロキシル、メ
   トキシカルボニル、エトキシカルボニル、ジメチルアミ
   ノ、アセチルアミノ及びジエチルアミノから成る群から
   の同一か又は異なる置換基によって随時モノ−、又はジ
   −置換することの出来るフェニルを表し、 Ｒ＾３が水素、又はＣ＿１−Ｃ＿４−アルキルを表す、
   Ｎ−インドリルエチル−スルホンアミド類及び／又はそ
   の塩を使用する事を特徴とする特許請求の範囲第５また
   は第６項記載の方法。 ８、水素化を−４０ないし＋８０℃の温度範囲で実施す
   る事を特徴とする特許請求の範囲第５ないし第７項記載
   の方法。 ９、一般式（ I ｂ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｂ） 式中 Ｒ＾１は水素、ハロゲン、トリフルオロメチル、カルボ
   キシル又はアルコキシカルボニル、又は式、−Ｓ（Ｏ）
   ＿ｍＲ＾５ ここで、Ｒ＾５はアルキル又はアリールを示し、そして ｍは数、０、１、又は２を示す、 の基を表すか、又は Ｒ＾１は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここで、Ｒ＾６及びＲ＾７は同一か異なり、水素、アル
   キル、アリール、アラルキル、又はアシルを示す、 の基を表すか、又は Ｒ＾１は式ＯＲ＾８ ここで Ｒ＾８は水素、アルキル、アリール、アラルキル、アル
   キルスルホニル、アリールスルホニル、アラルキルスル
   ホニル、又はトリフルオロメチルを示す、 の基を表すか、又は Ｒ＾１は随時カルボキシル、アルコキシカルボニル、ハ
   ロゲン、ヒドロキシル、アルコキシ、アルキルチオ、又
   はシアノによって置換されていて良いアルキル、アルケ
   ニル、又はシクロアルキルを表し、 Ｒ＾２は随時ハロゲン、シアノ、トリフルオロメチル、
   トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、アル
   キル、カルボキシアルキル、アルコキシカルボニルアル
   キル、アルコキシ、アルキルチオ、ヒドロキシル、、カ
   ルボキシル、アルコキシカルボニル、フェニル、フェニ
   ルオキシ、ベンジルオキシ、及びベンジルチオからなる
   群からの５以下の置換基よって置換されていて良い、又
   は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここで Ｒ＾６及びＲ＾７は上記の意味を有する、 の基によって置換されていて良いアリールを表す、 のＮ−ジヒドロインドリル−スルホンアミド類及びその
   塩の、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（IIａ） 式中 Ｒ＾１は水素、弗素、塩素、臭素、トリフルオロメチル
   、カルボキシル又は低級アルコキシカルボニル、又は式
   、−Ｓ（Ｏ）＿ｍＲ＾５ここで、Ｒ＾５は低級アルキル
   又はフェニルを示し、そして ｍは数、０、又は２を示す、 の基を表すか、又は Ｒ＾１は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここで、Ｒ＾６及びＲ＾７は同一か異なり、水素、低級
   アルキル、フェニル、ベンジル、又はアセチルを示す、 の基を表すか、又は Ｒ＾１は式ＯＲ＾８ ここで Ｒ＾８は水素、低級アルキル、フェニル、ベンジル、フ
   ェニルスルホニル、メチルスルホニル、エチルスルホニ
   ル、又はトリフルオロメチルを示す、 の基を表すか、又は Ｒ＾１は随時カルボキシル、メトキシカルボニル、エト
   キシカルボニル、弗素、塩素、臭素、ヒドロキシル、低
   級アルコキシ又はシアノによって置換されていて良い低
   級アルキル、低級アルケニル、又はシクロペンチル又は
   シクロヘキシルを表し、 Ｒ＾２は随時弗素、塩素、臭素、シアノ、トリフルオロ
   メチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチ
   オ、低級アルキル、カルボキシメチル、カルボキシエチ
   ル、メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメ
   チル、メトキシカルボニルエチル、エトキシカルボニル
   エチル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、ヒドロキ
   シル、カルボキシル、低級アルコキシカルボニル、フェ
   ニル、フェニルオキシ、ベンジルオキシ、及びベンジル
   チオからなる群からの５以下の置換基よって置換されて
   いて良い、又は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここで Ｒ＾６及びＲ＾７は上記の意味を有する、 の基によって置換されていて良いアリールを表し、そし
   て Ｒ＾４は水素、又は低級アルキルを表す、 のＮ−インドリル−スルホンアミド類及びその塩を使用
   する事を特徴とする製造法。 １０、一般式（IIａ） ▲数式、化学式、表等があります▼（IIａ） 式中 Ｒ＾１は水素、弗素、塩素、臭素、トリフルオロメチル
   、メチルチオ、エチルチオ、メチルスルホニル、エチル
   スルホニル、フェニルチオ、フェニルスルホニル、アミ
   ノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、又はアセチルア
   ミノを表すか、又は 式−ＯＲ＾８ ここで Ｒ＾８は水素、Ｃ＿１−Ｃ＿４−アルキル、フェニル又
   はベンジルを示す、 の基を表すか、又は Ｒ＾１はＣ＿１−Ｃ＿４−アルキルを表し、Ｒ＾２は、
   弗素、塩素、臭素、シアノ、トリフルオロメチル、トリ
   フルオロメトキシ、Ｃ＿１−Ｃ＿４−アルキル、Ｃ＿１
   −Ｃ＿４−アルコキシ、メチルチオ、ヒドロキシル、メ
   トキシカルボニル、エトキシカルボニル、ジメチルアミ
   ノ、アセチルアミノ、及びジエチルアミノから成る群か
   らの同一か又は異なる置換基によってモノ−又はジ−置
   換してもよいフェニルを表し、そしてＲ＾４は水素を表
   す、 である特許請求の範囲第９項記載のＮ−インドリルエチ
   ル−スルホンアミド類及び／又はその塩を使用する事を
   特徴とする製造法。 １１、特許請求の範囲第９または第１０項記載の製造法
   に於いて、酸化を０ないし１００℃の温度範囲で実施す
   る事を特徴とする製造法。 １２、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 式中 Ｒ＾１は水素、ハロゲン、トリフルオロメチル、カルボ
   キシル又はアルコキシカルボニル、又は式、−Ｓ（Ｏ）
   ＿ｍＲ＾５ ここで、Ｒ＾５はアルキル又はアリールを示し、そして ｍは数、０、１、又は２を示す、 の基を表すか、又は ▲数式、化学式、表等があります▼ ここで、Ｒ＾６及びＲ＾７は同一か異なり、水素、アル
   キル、アリール、アラルキル、又はアシルを示す、 の基を表すか、又は Ｒ＾１は式　ＯＲ＾８ ここで Ｒ＾８は水素、アルキル、アリール、アラルキル、アル
   キルスルホニル、アリールスルホニル、アラルキルスル
   ホニル、又はトリフルオロメチルを示す、 の基を表すか、又は Ｒ＾１は随時カルボキシル、アルコキシカルボニル、ハ
   ロゲン、ヒドロキシル、アルコキシ、アルキルチオ、又
   はシアノによって置換されていて良いアルキル、アルケ
   ニル、又はシクロアルキルを表し、 Ｒ＾２は随時ハロゲン、シアノ、トリフルオロメチル、
   トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、アル
   キル、カルボキシアルキル、アルコキシカルボニルアル
   キル、アルコキシ、アルキルチオ、ヒドロキシル、カル
   ボキシル、アルコキシカルボニル、フェニル、フェニル
   オキシ、ベンジルオキシ、及びベンジルチオからなる群
   からの５以下の置換基よって置換されていて良い、又は
   式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここで Ｒ＾６及びＲ＾７は上記の意味を有する、 の基によって置換されていて良いアリールを表し、 Ｒ＾３は水素又はアルキルを表し、そして Ｒ＾４は水素を表すか、又は Ｒ＾３及びＲ＾４は一緒にカルボニル酸素に結合する、 のＮ−ジヒドロインドリルエチル−スルホンアミド類及
   び／又はそれらの塩類を一種又はそれ以上を含む薬剤。 １３、Ｎ−ジヒドロインドリル−スルホンアミドを混合
   物全体に対して０．５ないし９０重量％含む事を特徴と
   する特許請求の範囲第９項記載の薬剤。 １４、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 式中 Ｒ＾１は水素、ハロゲン、トリフルオロメチル、カルボ
   キシル又はアルコキシカルボニル、又は式、−Ｓ（Ｏ）
   ＿ｍＲ＾５ ここで、Ｒ＾５はアルキル又はアリールを示し、そして ｍは数、０、１、又は２を示す、 の基を表すか、又は Ｒ＾１は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここで、Ｒ＾６及びＲ＾７は同一か異なり、水素、アル
   キル、アリール、アラルキル、又はアシルを示す、 の基を表すか、又は Ｒ＾１は式ＯＲ＾８ ここで Ｒ＾８は水素、アルキル、アリール、アラルキル、アル
   キルスルホニル、アリールスルホニル、アラルキルスル
   ホニル、又はトリフルオロメチルを示す、 の基を表すか、又は Ｒ＾１は随時カルボキシル、アルコキシカルボニル、ハ
   ロゲン、ヒドロキシル、アルコキシ、アルキルチオ、又
   はシアノによって置換されていて良いアルキル、アルケ
   ニル、又はシクロアルキルを表し、 Ｒ＾２は随時ハロゲン、シアノ、トリフルオロメチル、
   トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、アル
   キル、カルボキシアルキル、アルコキシカルボニルアル
   キル、アルコキシ、アルキルチオ、ヒドロキシル、カル
   ボキシル、アルコキシカルボニル、フェニル、フェニル
   オキシ、ベンジルオキシ、及びベンジルチオからなる群
   からの５以下の置換基よって置換されていて良い、又は
   式 Ｒ＾６及びＲ＾７は上記の意味を有する、 の基によって置換されていて良いアリールを表し、 Ｒ＾３は水素又はアルキルを表し、そして Ｒ＾４は水素を表すか、又は Ｒ＾３及びＲ＾４は一緒にカルボニル酸素に結合する、 のＮ−ジヒドロインドリルエチル−スルホンアミド類及
   び／又はそれらの塩類の薬剤中での使用。 １５、特許請求の範囲第１１項記載のＮ−ジヒドロイン
   ドリルエチル−スルホンアミドの、血栓症、血栓塞栓症
   、虚血、喘息、及びアレルギー症治療の為の使用。