JPS6224849B2 - - Google Patents
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- JPS6224849B2 JPS6224849B2 JP54037402A JP3740279A JPS6224849B2 JP S6224849 B2 JPS6224849 B2 JP S6224849B2 JP 54037402 A JP54037402 A JP 54037402A JP 3740279 A JP3740279 A JP 3740279A JP S6224849 B2 JPS6224849 B2 JP S6224849B2
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- JP
- Japan
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- magnetic
- magnetoresistive element
- recording medium
- film
- demagnetizing field
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- Expired
Links
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 6
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/33—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
- G11B5/39—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
- G11B5/3903—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects using magnetic thin film layers or their effects, the films being part of integrated structures
- G11B5/3906—Details related to the use of magnetic thin film layers or to their effects
- G11B5/3929—Disposition of magnetic thin films not used for directly coupling magnetic flux from the track to the MR film or for shielding
- G11B5/3935—Flux closure films not being part of the track flux guides
- G11B5/3938—Flux closure films not being part of the track flux guides the flux closure films being used for absorbing or reducing demagnetisating or saturating fields
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、磁気抵抗効果型磁気ヘツドの改良に
関し、特に磁気抵抗効果素子に反磁界抑制磁性体
膜を重複形成した構造の新しい磁気ヘツドに関す
るものである。
関し、特に磁気抵抗効果素子に反磁界抑制磁性体
膜を重複形成した構造の新しい磁気ヘツドに関す
るものである。
従来、磁気デイスク、磁気テープなどの記録媒
体上に記録された情報を読取るための磁気ヘツド
として第1図に示すような磁気抵抗効果型のもの
が知られている。すなわち第1図において、1は
絶縁物からなる基板、2は前記基板1の一端と平
行な一端面において磁気記録媒体6に対向するよ
う支持された強磁性導電体材料からなる磁気抵抗
効果素子、3は前記磁気抵抗効果素子2の長さ方
向両端部に接続するよう対向配置した導電端子、
4は前記磁気抵抗効果素子2が磁気記録媒体6の
残留磁化により磁化される際に、磁気抵抗効果素
子2内に反磁界を抑制するための反磁界抑制用磁
性体膜、5は前記磁気抵抗効果素子2と前記反磁
界抑制用磁性体膜4の間隙に介在せしめた誘電体
である。このような構成の磁気ヘツドにおいて
は、前記磁気記録媒体6の残留磁化の漏れ成分が
磁気抵抗効果素子2に働き、磁化軸の方向が変化
することに起因する電気抵抗の変化に応動して導
電端子3の間の電流が変化するので、この電流の
変化を検出することによつて磁気記録媒体6に記
録されている情報を読取ることができる。ここで
前記磁気抵抗効果素子2の形状は薄膜状で厚さは
200〜300Å、幅は約10μm、長さは磁気記録媒体
6の記録トラツク幅に等しい数十〜数千μmであ
る。このような磁気抵抗効果素子2の形状すなわ
ち幅が長さにくらべて短いことに起因して、磁気
記録媒体6の残留磁化により磁化される際に磁気
抵抗効果素子2内に生ずる反磁界の影響が大きく
現れ、漏れ磁界に応じた磁化軸の向きの変化率が
小さくなつて再生感度が減少する傾向がある。こ
のような反磁界を抑制する目的で前記磁気抵抗効
果素子2の上側端縁部に微小な間隙をへだてて反
磁界抑制用磁性体膜4を具備させているが、該反
磁界抑制用磁性体膜4と前記磁気抵抗効果素子2
の間隙はできるだけ小さいことが望ましい。この
ため前記磁気抵抗効果素子2と反磁界抑制用磁性
体膜4は同一材料を使用して基板1上に同時にパ
ターニングを行つているが、前記磁気抵抗効果素
子2と反磁界抑制用磁性体膜4の間隙を2〜3μ
m以下にすることは現在の蒸着技術では困難であ
つて、磁気記録媒体6の残留磁化による反磁界を
所定以下に抑制できない欠点があつた。
体上に記録された情報を読取るための磁気ヘツド
として第1図に示すような磁気抵抗効果型のもの
が知られている。すなわち第1図において、1は
絶縁物からなる基板、2は前記基板1の一端と平
行な一端面において磁気記録媒体6に対向するよ
う支持された強磁性導電体材料からなる磁気抵抗
効果素子、3は前記磁気抵抗効果素子2の長さ方
向両端部に接続するよう対向配置した導電端子、
4は前記磁気抵抗効果素子2が磁気記録媒体6の
残留磁化により磁化される際に、磁気抵抗効果素
子2内に反磁界を抑制するための反磁界抑制用磁
性体膜、5は前記磁気抵抗効果素子2と前記反磁
界抑制用磁性体膜4の間隙に介在せしめた誘電体
である。このような構成の磁気ヘツドにおいて
は、前記磁気記録媒体6の残留磁化の漏れ成分が
磁気抵抗効果素子2に働き、磁化軸の方向が変化
することに起因する電気抵抗の変化に応動して導
電端子3の間の電流が変化するので、この電流の
変化を検出することによつて磁気記録媒体6に記
録されている情報を読取ることができる。ここで
前記磁気抵抗効果素子2の形状は薄膜状で厚さは
200〜300Å、幅は約10μm、長さは磁気記録媒体
6の記録トラツク幅に等しい数十〜数千μmであ
る。このような磁気抵抗効果素子2の形状すなわ
ち幅が長さにくらべて短いことに起因して、磁気
記録媒体6の残留磁化により磁化される際に磁気
抵抗効果素子2内に生ずる反磁界の影響が大きく
現れ、漏れ磁界に応じた磁化軸の向きの変化率が
小さくなつて再生感度が減少する傾向がある。こ
のような反磁界を抑制する目的で前記磁気抵抗効
果素子2の上側端縁部に微小な間隙をへだてて反
磁界抑制用磁性体膜4を具備させているが、該反
磁界抑制用磁性体膜4と前記磁気抵抗効果素子2
の間隙はできるだけ小さいことが望ましい。この
ため前記磁気抵抗効果素子2と反磁界抑制用磁性
体膜4は同一材料を使用して基板1上に同時にパ
ターニングを行つているが、前記磁気抵抗効果素
子2と反磁界抑制用磁性体膜4の間隙を2〜3μ
m以下にすることは現在の蒸着技術では困難であ
つて、磁気記録媒体6の残留磁化による反磁界を
所定以下に抑制できない欠点があつた。
本発明は、前記の欠点を改善すべく、磁気抵抗
効果素子と反磁界抑制用磁性体膜を最小間隙で絶
縁保持させることを目的として、磁気抵抗効果素
子の上側端縁部に絶縁膜と介して反磁界抑制用磁
性体膜を重複形成したことを特徴とするものであ
る。以下図面を用いて本発明に係る磁気抵抗効果
型磁気ヘツドについて詳細に説明する。
効果素子と反磁界抑制用磁性体膜を最小間隙で絶
縁保持させることを目的として、磁気抵抗効果素
子の上側端縁部に絶縁膜と介して反磁界抑制用磁
性体膜を重複形成したことを特徴とするものであ
る。以下図面を用いて本発明に係る磁気抵抗効果
型磁気ヘツドについて詳細に説明する。
第2図は本発明による磁気ヘツドの一実施例を
示し、aは斜視図、bは側断面図で、前図と同等
部分については同一符号を用いている。絶縁物か
らなる基板1の磁気記録媒体6に対向する一側端
面に支持されたNiFe合金などの強磁性導電体材
料からなる磁気抵抗効果素子2を蒸着形成し、該
磁気抵抗効果素子2の長さ方向両端部に導電端子
3を対向するように設けている点は従来の構成と
変わらない。しかしながら本発明においては磁気
抵抗効果素子2の上側端縁部に反磁界抑制用磁性
体膜4の下側端縁部4aが絶縁膜7を介して重複
するように蒸着してある。かかる構成において、
磁気抵抗効果素子2の上に形成する絶縁膜7とし
ては1μm以下の薄膜のものが比較的容易にでき
る。かくして磁気抵抗効果素子2と反磁界抑制用
磁性体膜4との間隙寸法が格段にせばまるため、
反磁界抑制効果が向上し、結果として記録媒体6
上の残留磁化に応じた変化率が増大し、磁気ヘツ
ドの再生感度を向上させることが可能となるわけ
である。なお、前記磁気抵抗効果素子2と反磁界
抑制用磁性体膜4の重複部4aの幅は数μm程度
で効果は充分である。
示し、aは斜視図、bは側断面図で、前図と同等
部分については同一符号を用いている。絶縁物か
らなる基板1の磁気記録媒体6に対向する一側端
面に支持されたNiFe合金などの強磁性導電体材
料からなる磁気抵抗効果素子2を蒸着形成し、該
磁気抵抗効果素子2の長さ方向両端部に導電端子
3を対向するように設けている点は従来の構成と
変わらない。しかしながら本発明においては磁気
抵抗効果素子2の上側端縁部に反磁界抑制用磁性
体膜4の下側端縁部4aが絶縁膜7を介して重複
するように蒸着してある。かかる構成において、
磁気抵抗効果素子2の上に形成する絶縁膜7とし
ては1μm以下の薄膜のものが比較的容易にでき
る。かくして磁気抵抗効果素子2と反磁界抑制用
磁性体膜4との間隙寸法が格段にせばまるため、
反磁界抑制効果が向上し、結果として記録媒体6
上の残留磁化に応じた変化率が増大し、磁気ヘツ
ドの再生感度を向上させることが可能となるわけ
である。なお、前記磁気抵抗効果素子2と反磁界
抑制用磁性体膜4の重複部4aの幅は数μm程度
で効果は充分である。
以上説明したように本発明は磁気抵抗効果型磁
気ヘツドの磁気抵抗効果素子2の上に反磁界抑制
用磁性体膜4を極薄の絶縁膜7を介して重複形成
させたものであるから、磁気抵抗効果素子2が磁
気記録媒体6の残留磁化により磁化される際に磁
気抵抗効果素子内に生ずる反磁界作用を大幅に抑
制することが可能となり、磁気抵抗効果型磁気ヘ
ツドの読取り性能の大幅な向上が期待でき、磁気
デイスク、磁気テープ装置等に適用して極めて有
利である。
気ヘツドの磁気抵抗効果素子2の上に反磁界抑制
用磁性体膜4を極薄の絶縁膜7を介して重複形成
させたものであるから、磁気抵抗効果素子2が磁
気記録媒体6の残留磁化により磁化される際に磁
気抵抗効果素子内に生ずる反磁界作用を大幅に抑
制することが可能となり、磁気抵抗効果型磁気ヘ
ツドの読取り性能の大幅な向上が期待でき、磁気
デイスク、磁気テープ装置等に適用して極めて有
利である。
第1図は従来の磁気抵抗効果型磁気ヘツドの斜
視図、第2図a及びbはそれぞれ本発明に係る磁
気抵抗効果型磁気ヘツドの一実施例を示す斜視図
と側断面図である。 1:基板、2:磁気抵抗効果素子、3:導電端
子、4:反磁界抑制用磁性体膜、5:誘電体、
6:磁気記録媒体、7:絶縁膜。
視図、第2図a及びbはそれぞれ本発明に係る磁
気抵抗効果型磁気ヘツドの一実施例を示す斜視図
と側断面図である。 1:基板、2:磁気抵抗効果素子、3:導電端
子、4:反磁界抑制用磁性体膜、5:誘電体、
6:磁気記録媒体、7:絶縁膜。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 基板の一側と平行な下側端面において、磁気
記録媒体に対向するよう前記基板上に支持された
磁気抵抗効果素子を有する磁気ヘツドにおいて、 前記基板上に前記磁気抵抗効果素子の上側端縁
部に絶縁体膜を介して、下縁部が重なり合う前記
磁気抵抗効果素子内に生ずる反磁界抑制用磁性体
膜を上方に延長する形で形成したことを特徴とす
る磁気抵抗効果型磁気ヘツド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3740279A JPS55129923A (en) | 1979-03-29 | 1979-03-29 | Magnetoresistance effect type magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3740279A JPS55129923A (en) | 1979-03-29 | 1979-03-29 | Magnetoresistance effect type magnetic head |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS55129923A JPS55129923A (en) | 1980-10-08 |
JPS6224849B2 true JPS6224849B2 (ja) | 1987-05-30 |
Family
ID=12496526
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3740279A Granted JPS55129923A (en) | 1979-03-29 | 1979-03-29 | Magnetoresistance effect type magnetic head |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS55129923A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58205921A (ja) * | 1982-05-26 | 1983-12-01 | Alps Electric Co Ltd | 磁気ヘツド |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51137406A (en) * | 1975-05-23 | 1976-11-27 | Nec Corp | Reluctance effect head |
-
1979
- 1979-03-29 JP JP3740279A patent/JPS55129923A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51137406A (en) * | 1975-05-23 | 1976-11-27 | Nec Corp | Reluctance effect head |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS55129923A (en) | 1980-10-08 |
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