JPS62246220A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPS62246220A JPS62246220A JP9090886A JP9090886A JPS62246220A JP S62246220 A JPS62246220 A JP S62246220A JP 9090886 A JP9090886 A JP 9090886A JP 9090886 A JP9090886 A JP 9090886A JP S62246220 A JPS62246220 A JP S62246220A
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- JP
- Japan
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- fuse
- semiconductor device
- blown
- sectional area
- temperature
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- Pending
Links
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Landscapes
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
- Fuses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、半導体装置に使用され1通電により溶断さ
れるヒユーズを備えた半導体装置に関するものである。
れるヒユーズを備えた半導体装置に関するものである。
現在、プログラム可能なROMや冗長回路を備えた半導
体装置においては、ヒユーズを必要に応じて電気的に、
つまり通電により溶断することが行われている。
体装置においては、ヒユーズを必要に応じて電気的に、
つまり通電により溶断することが行われている。
第6図は、例えばRe1iability 5tudy
ofPolygilicon Fusible Li
nk PROM ’ S (R,C。
ofPolygilicon Fusible Li
nk PROM ’ S (R,C。
Sm1th他、 Intel )に示された従来のヒユ
ーズを示す平面図である。この図において、1はポリシ
リコンヒユーズの溶断しようとする部分を示す。
ーズを示す平面図である。この図において、1はポリシ
リコンヒユーズの溶断しようとする部分を示す。
次に動作について説明する。
ヒユーズ部の両端に電圧が印加され、電流がヒユーズ中
を流れ、この電流とヒユーズ部の抵抗によりジュール熱
が発生する。一方で周囲温度差が発生し、ヒユーズ材料
と周囲との熱抵抗等により周囲部分への放電も行われる
が、発熱が十分大きい場合、ヒユーズ部の温度は上昇す
る。この関係は、 ここに、box (T−To)は放熱、J2・pt*生
rJc’れる熱を示し、Pはシリコン密度、Xは距離、
cはシリコン熱容量、にはシリコン熱伝導率、boxは
熱損失係数、Jは電流、ρは比抵抗、Toは周囲温度、
(The Physics And Re1iabi
lty of fusingpo12si1icon、
IEEE、1984. A、Ito他参照)を示す。
を流れ、この電流とヒユーズ部の抵抗によりジュール熱
が発生する。一方で周囲温度差が発生し、ヒユーズ材料
と周囲との熱抵抗等により周囲部分への放電も行われる
が、発熱が十分大きい場合、ヒユーズ部の温度は上昇す
る。この関係は、 ここに、box (T−To)は放熱、J2・pt*生
rJc’れる熱を示し、Pはシリコン密度、Xは距離、
cはシリコン熱容量、にはシリコン熱伝導率、boxは
熱損失係数、Jは電流、ρは比抵抗、Toは周囲温度、
(The Physics And Re1iabi
lty of fusingpo12si1icon、
IEEE、1984. A、Ito他参照)を示す。
(溶断しようとするヒユーズ部の両端の幅は溶断部に比
べ十分大きいため、この部分の温度上シ1を無視して考
える。) 第8図はヒユーズのブロー(気化に近い状態で発散する
)直前の温度分布を表示した図で、実線は第6図に示し
たヒユーズの距@Xに対する温度Tの分布を示し、tは
ヒユーズの溶断する臨界温度を示している。
べ十分大きいため、この部分の温度上シ1を無視して考
える。) 第8図はヒユーズのブロー(気化に近い状態で発散する
)直前の温度分布を表示した図で、実線は第6図に示し
たヒユーズの距@Xに対する温度Tの分布を示し、tは
ヒユーズの溶断する臨界温度を示している。
今、ヒユーズ表面が、空気などの気体である場合、この
臨界温度tを超えて、ある時間経過したところで、ヒユ
ーズ材料は周囲に対して発散できるほどの運動エネルギ
ーを持ち発散する。この結果、臨界温度を以上にあるヒ
ユーズ部分はブローされる。
臨界温度tを超えて、ある時間経過したところで、ヒユ
ーズ材料は周囲に対して発散できるほどの運動エネルギ
ーを持ち発散する。この結果、臨界温度を以上にあるヒ
ユーズ部分はブローされる。
また17図に示すように、溶断しようとする部分1の両
端が太くなった形状のヒユーズもあるが、この場合の温
度分布は第8図の破線ようになり、その結果、ブローさ
れる部分はさらに小さくなる。
端が太くなった形状のヒユーズもあるが、この場合の温
度分布は第8図の破線ようになり、その結果、ブローさ
れる部分はさらに小さくなる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記のような従来のヒユーズは、電気ブローにより取り
除くことのできる領域の幅が、溶断しようとする部分1
の熱分布状態に強く影響を受け、常に広い領域を正確に
溶断することができないため、半導体装置の信頼性の面
で問題があった。
除くことのできる領域の幅が、溶断しようとする部分1
の熱分布状態に強く影響を受け、常に広い領域を正確に
溶断することができないため、半導体装置の信頼性の面
で問題があった。
この発明は、かかる問題点を解決するためになされたも
ので、高い信頼性を持ち、より広い領域をブローでき、
またより小さな電気でブローすることのできるヒユーズ
を備えた半導体装置を得ることを目的とする。
ので、高い信頼性を持ち、より広い領域をブローでき、
またより小さな電気でブローすることのできるヒユーズ
を備えた半導体装置を得ることを目的とする。
この発明に係る半導体装置は、溶断しようとする部分の
両端の断面積を、溶断しようとする部分の断面積より小
さくしたヒユーズを備えたものである。
両端の断面積を、溶断しようとする部分の断面積より小
さくしたヒユーズを備えたものである。
この発明においては、断面積の小さい部分で発熱量が増
して放8量が減り、溶断しようとする部分の温度分布が
フラットになる。
して放8量が減り、溶断しようとする部分の温度分布が
フラットになる。
第1図はこの発明の半導体装置におけるヒユーズの一実
施例を示す平面図である。この図において、1は溶断し
ようとする部分、2は前記溶断しようとする部分1より
も断面積の小さい部分を示す。
施例を示す平面図である。この図において、1は溶断し
ようとする部分、2は前記溶断しようとする部分1より
も断面積の小さい部分を示す。
また第2図は第1図に示したヒユーズのブロー直前の温
度力t1jを示した図で、tはヒユーズの溶−断する臨
界温度を示している。
度力t1jを示した図で、tはヒユーズの溶−断する臨
界温度を示している。
すなわち、この発明の半導体装置におけるヒユーズは、
溶断しようとする部分1の両端に断面積の小さい部分2
を形成したので、この部分では単位長当たりの抵抗値が
増して発熱量が増大すると同時に、両端への放熱量が減
少するため、第2図に示すように、従来に比べて両端の
温度が上昇し、その結果、より大きなブロー領域が得ら
れる。
溶断しようとする部分1の両端に断面積の小さい部分2
を形成したので、この部分では単位長当たりの抵抗値が
増して発熱量が増大すると同時に、両端への放熱量が減
少するため、第2図に示すように、従来に比べて両端の
温度が上昇し、その結果、より大きなブロー領域が得ら
れる。
なお、断面積の小さい部分2は第3図、第4図に示すよ
うな形状にしてもよく、また第5図の断面図に示すよう
に、厚みを薄くして断面積を小さくしてもよい。
うな形状にしてもよく、また第5図の断面図に示すよう
に、厚みを薄くして断面積を小さくしてもよい。
この発明は以上説明したとおり、溶断しようとする部分
の両端の断面積を溶断しようとする部分の断面積より小
さくしたヒユーズを備えたので、より正確に広いブロー
領域を得ることができ、またより小さい電流または電圧
で、同じ大きさのブロー領域を得ることができ、高い信
頼性を持つ半導体装置が得られるという効果がある。
の両端の断面積を溶断しようとする部分の断面積より小
さくしたヒユーズを備えたので、より正確に広いブロー
領域を得ることができ、またより小さい電流または電圧
で、同じ大きさのブロー領域を得ることができ、高い信
頼性を持つ半導体装置が得られるという効果がある。
第1図はこの発明の半導体装置におけるヒユーズの一実
施例を示す平面図、第2図はそのブロー直前の温度分布
を示した図、第3図および第4図はこの発明の半導体装
置におけるヒユーズの他の実施例を示す平面図、第5図
は同じく断面図、第6図および第7図は従来のヒユーズ
を示す平面図、第8図はそのブロー直前の温度分布を示
した図である。 図において、1は溶断しようとする部分、2は断面積の
小さい部分である。 なお、各図中の同一符号は同一または相当部分を示す。 第1図 第2図 一距亀X 第3図 第4図 第5図
施例を示す平面図、第2図はそのブロー直前の温度分布
を示した図、第3図および第4図はこの発明の半導体装
置におけるヒユーズの他の実施例を示す平面図、第5図
は同じく断面図、第6図および第7図は従来のヒユーズ
を示す平面図、第8図はそのブロー直前の温度分布を示
した図である。 図において、1は溶断しようとする部分、2は断面積の
小さい部分である。 なお、各図中の同一符号は同一または相当部分を示す。 第1図 第2図 一距亀X 第3図 第4図 第5図
Claims (1)
- 通電によって溶断されるヒューズを備えた半導体装置に
おいて、前記ヒューズの溶断しようとする部分の両端の
断面積を前記溶断しようとする部分の断面積より小さく
したことを特徴する半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9090886A JPS62246220A (ja) | 1986-04-18 | 1986-04-18 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9090886A JPS62246220A (ja) | 1986-04-18 | 1986-04-18 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62246220A true JPS62246220A (ja) | 1987-10-27 |
Family
ID=14011506
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9090886A Pending JPS62246220A (ja) | 1986-04-18 | 1986-04-18 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62246220A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005039220A (ja) * | 2003-06-26 | 2005-02-10 | Nec Electronics Corp | 半導体装置 |
JP2010098184A (ja) * | 2008-10-17 | 2010-04-30 | Nec Electronics Corp | 半導体装置 |
JP2015510675A (ja) * | 2012-02-15 | 2015-04-09 | エム ティー エイ ソシエタ ペル アチオニMta S.P.A. | ヒューズ |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5989434A (ja) * | 1982-11-15 | 1984-05-23 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
-
1986
- 1986-04-18 JP JP9090886A patent/JPS62246220A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5989434A (ja) * | 1982-11-15 | 1984-05-23 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005039220A (ja) * | 2003-06-26 | 2005-02-10 | Nec Electronics Corp | 半導体装置 |
US7795699B2 (en) | 2003-06-26 | 2010-09-14 | Nec Electronics Corporation | Semiconductor device |
JP2010098184A (ja) * | 2008-10-17 | 2010-04-30 | Nec Electronics Corp | 半導体装置 |
JP2015510675A (ja) * | 2012-02-15 | 2015-04-09 | エム ティー エイ ソシエタ ペル アチオニMta S.P.A. | ヒューズ |
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