JPS62246062A - 写真処理装置 - Google Patents

写真処理装置

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JPS62246062A
JPS62246062A JP9037786A JP9037786A JPS62246062A JP S62246062 A JPS62246062 A JP S62246062A JP 9037786 A JP9037786 A JP 9037786A JP 9037786 A JP9037786 A JP 9037786A JP S62246062 A JPS62246062 A JP S62246062A
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JP
Japan
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processing
developer
temperature
circulation
processing liquid
Prior art date
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Application number
JP9037786A
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English (en)
Inventor
Toshio Kurokawa
俊夫 黒川
Kiichiro Sakamoto
坂本 喜一郎
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発すjは、感光材料を処理する写真処理装置に用いら
れ、特に処理液を循環することが可能な写真処理装置に
関する。
[従来技術及び発明が解決しようとする問題点〕写真処
理装置では1例えば印画紙の現像処理に応じて現像液槽
内の現像液は処理能力が低下するため、定期的に補充液
を補充する必要がある。
ところで、一般に写真処理装置では、現像液槽内の現像
液を循環させることにより現像液を攪拌し、疲労液が印
画紙回りに滞留することを防止し現像不良をなくすと共
に補充液を箇約するようにしている。
この場合、現像液が循環されると循環時にその温度が低
くなるため循環路の途中にヒータを設は加温して、適温
を保持するようにしている。
しかしながら、従来のヒータは循環路とは別体として配
設しなければならず、写真処理装置全体の配置スペース
が制限されることになる。
また、現像液は感光材料を処理量に応じて劣化するため
循環量が常に一定であると感光材科目りに前記疲労液が
滞留しやすくなり、現像不良をおこすことがあった。
本発明は上記事実を考慮し、感光材料の処理値に応じて
処理液の循環量が変更肩山な写真処理装置を得ることが
目的である。
[問題点を解決するための手段及び作用]本発明に係る
写真処理装置では、感光材料を処理する処理液が収容さ
れた処理液槽と、この処理液槽からの処理液を再度処理
液槽へと案内する循環路と、@記処理液を循環させるポ
ンプと、このポンプを駆動させるモータと、感光材料の
処理量を検出する処理量検出手段と、この処理量検出手
段の出力信号で前記モータの回転数を変更し処理液の劣
化度に応じた循環量とする制御手段と、を有することを
特徴としている。
従って、処理液の劣化度に応じて処理液の循環量が変更
できるので、疲労液の滞留等で処理不良が生じることが
ない。
[実施例] 第1図には本実施例に係る写真処理袋2110が示され
ている。
この写真処理袋2t10で処理される感光材料12は図
示しないラックに案内されて第1図矢印A方向へ搬送さ
れるようになっている。
写真処理袋Htoは現像液槽14と定着液槽16を備え
ており、感光材料12は前工程で露光処理が終了した後
、現像液JPJ14へ搬送され、さらに定着液槽16へ
と搬送されるようになっている。なお、この搬送は前記
ラックの案内により第1図に示される如く、各槽内で蛇
行させている。
現像液槽14及び定着液槽16に1±それぞれ現像液1
8及び定着液20がそれぞれ充填されている。また、こ
の現像液槽14.定着液槽16には、現像液18、定着
液20tl−循環する循環装置22がa 21されてい
る。この循環装置22はヒータ部分を除いて現像液槽1
4側と定着液槽16側とにそれぞれ同一の装置が設置さ
れており、以下現像f&槽14側の循環装置22につい
て説明する。
現像液槽14の側壁24には給水パイプ26と排水パイ
プ28が取り付けられており、ポンプ30により現像液
18を現像液槽14内から吸い出し、フィルタ32を介
して再度現像液槽14内へ送るようになっている。これ
により、現像液槽14内の現像液18は常時流動され、
PR拌されることになる。
フィルタ32と現像液槽14との間の給水パイプ26に
は筒状のヒータ本体34が介在されている。
第2図(A)及び(B)に示される如く、ヒータ本体3
4はその軸線が給水パイプ26の軸線と同軸とされるよ
うにフランジ31及びガスケット33を介して取り付け
られており、その管路34Aは給水路28Aと連通して
、循環される現像液18はこの管路34Aを通過するよ
うになっている。
ヒータ本体34には、熱源であるヒータt136が埋設
され、このヒータ線36に電流を流すことにより、ヒー
タ本体34が加熱され、管路34A内を流れる現像液1
8を加温することがでさるようになっている。
このヒータ本体34には2個の温度センサ38.40も
埋設されている。温度センサはそれぞれ測温抵抗体38
A、40Bで構成され、ブリッジ回路の一部とされてお
り、ヒータ本体34の両輪端へ配設されて、現像液18
のヒータ本体34の通過前と通過後の温度を不平衡電圧
として検出することができるようになっている。
この温度センサ38.40の信号線38B。
40Bはマイクロコンピュータ42へ配線されており、
これによりヒータ線36への電流の導通及び遮断をする
ソリッドステートリレー37(第4図参照)は、このマ
イクロコンピュータ42で制御するようになっている。
すなわち、現像液18の温度を設定した温度に保つよう
に制御している。
なお、このマイクロコンピュータ42の制御については
、後述する。
ヒータ本体34はセラミック等の熱電伝導の良い材料で
形成されており、これにより、ヒータ本体34の全体が
均一に加熱されると共に成型時にヒータ線36を容易に
埋設させることができるようになっている。
ヒータ線36は低電力と高電力の2本の電熱線36A、
36Bで構成されており、必要に応じて両方又はどちら
か一方に電流を流すことも可f克となっている。
このヒータ本体34の外周にはヒータ本体34を収容す
る円筒体44が配設されている0円筒体44の両端面の
軸心部からは前記給水パイプ26が貫通されており、他
は閉止されている0円筒体44の周面には2本のパイプ
46.48の一端が取り付けられ、前記定着液槽16に
おける′@環表装置給水及び排水パイプとされている。
従って、この2木のパイプ46.48の他方の端部は定
着液槽16の側壁へ取り付けられ、このパイプ46.4
8の管路48A、48Aがそれぞれ定着液槽16内と円
筒体44とヒータ本体34との間に設けられるチャンバ
50とを連通している。
これにより、定着液20が循環された場合に、この定着
液20を1個のヒータ本体34により現像液18と同時
に加温することができるようになっている。
第1図に示される如く、ポンプ30を作動させるモータ
52にはインバータ回路54が介在され、これの信号線
53はマイクロコンピュータ42へ接続されている。
これにより、モータ52はインバータ回路54の周波数
変換に対応して回転数が無段階に変更できるようになっ
ている。従って、感光材料12の処理数に対応する現像
液18の劣化度や硬質又は通常画質処理に応じて変更周
波数(Fl)を設定しモータ52の回転を変更して給水
路26A及び排水路28A内を流れる現像液18の循環
量を容易に調整できるようになっている。
なお、硬調画質となるものを軟調画質になるように処理
する場合、通常の画質を処理する循環量よりも少ない循
環量として現像液槽14内の循環速度(現像液18の流
動状態)を静止に近い状態とするようになっている。こ
れとは逆に硬調画質になるように処理する場合は多い循
環量とするようになっている。
現像液槽14の近傍には、補充タンク64が配設されて
おり、感光材料12の処理量に応じた現像液18の減少
又は現像能力の低下に応じて現像主薬が配合された補充
液62を補充できるようになっている。
すなわち、この補充タンク64の側g166には補充バ
イブロ8が取り付けられ、この補充バイブロ8の中間部
にはフィルタ70及びポンプ72が介在されており、ポ
ンプ72に取り付けられたモータ74の駆動力で補充液
62をフィルタ70で慮過した後に現像液槽14へ供給
するようになっている。
なお、モータ74の駆動電源はソリッドステートリレー
73(第4図参照)を介してマイクロコンピュータ42
へ接続され、感光材料12の所定の処理面積に達した場
合にポンプ72を一定時間(TS )作動させる制御を
行なうようになっている。
さらに、このマイクロコンピュータ42には感光材料1
2の幅寸法及び処理枚数を検出する処理量検出センサ7
8の信号線80が接続されている。
第3図に示される如く、この処理量検出センナ78はそ
のベース81が、現像液槽14に、おける感光材料12
の搬入口へ配設されている。
ベース81の中間部には矩形孔82が設けられており、
感光材料12はこの矩形孔82を通過して現像液槽14
へと至るようになっている。矩形孔82の上面及び下面
にはそれぞれ感光材料を感光させない波長域の光を用い
る光電スイッチの投光部84A及び受光部84Bが取り
付けられている。
光電スイッチの投光部84A及び受光部84Bは、それ
ぞれ感光材料12の幅方向に沿って、複数配設されてお
り、感光材料12の幅寸法に応じて、一部の投光部84
Aからの光信号を遮断し。
それぞれの光電スイッチの導通状態をマイクロコンピュ
ータ42で演算して感光材料12の幅寸法を得ることが
できるようになっている。
なお、この処理量検出センサ78は、レバータイプのリ
ミットスイッチを複数個用いて、Ii!光材料12の先
端部の搬送時に導通し、後端部が通過した場合にその導
通が遮断させる機械的な検出手段を適用してもよい。
マイクロコンピュータ42では感光材料12の搬送速度
も記憶されるようになっており、これにより、感光材料
12の処理量が面積として計算され、必要な補充液62
の補充量を算出するようになっている。
以下にマイクロコンピュータ42による制御について詳
細に説明する。
マイクロコンピュータ42は、空炊検出手段、循環不良
検出手段及び段線検出手段を備えており、別個に説明す
る。
まず、第4図に従い空炊検出手段について説明する。
温度センサ40.すなわち下流温度(TII )はA/
D変換回路88でデジタル信号に変換された後、インタ
フェース90を介してマイクロコンピュータ42のCP
Uへ入力されている。
マイクロコンピュータ42には温度設定器92により予
め設定温度(TC)が入力されており、この設定温度(
TO)と下fi湯温度TO)は比較されるようになって
いる。
これが比較された後は、インタフェース90を介してヒ
ータ線用ソリッドステートリレー37及びり告ブザーl
OOの作動用ソリッドステートリレー104へ接続され
ている。
次に、循環不良検出手段は、給水パイプ26及び排水パ
イプ28内を流れる現像液14の流速がおちた場合に、
これをヒータ本体34の前後の現像液18の温度の差で
判別して、制御する構成となっている。
温度センサ38.40により′測定された下流温度(T
O)及び上流温度(TU )はA/D変換回路87.8
8でデジタル変換した後、これらの差温(TU−TO)
が算出される。
マイクロコンピュータ42には適正循環時での温度差(
TO)が入力されており、これらを比較して適正周波数
(FO)を決めインタフェース90を介してインバータ
回路54を作動させて循環量を調整するようになってい
る。
また、断線検出子役は、上流温度・(TU )から下流
温度(1口)への一定時間の上昇率をヒータ線36への
給電中に逐次測定して温度センサ38.40の導通状態
を判別し、温度上昇がない場合に警告ブザーlOO等で
警告する構成となっている。
すなわち、1流部度(TU )及び下流温度(TD )
がそれぞれA/D変換回路87.88でデジタル信号に
変換された後、インタフェース90を介してマイクロコ
ンピュータ42のCPUへ入力されている。
マイクロコンピュータ42では、上流から下流への温度
上昇を算出し、変化がない場合に出力するようになって
おり、出力時にはインタフェース90を介してヒータ線
36への給電を遮断する信号をソリッドステートリレー
37へ送信し、警告ブザー100の作動用ソリッドステ
ートリレー104も信号を送るようになっている。
以下に本実施例の作用を説明する。
感光材料12が処理液槽14内搬送され処理されると、
これに応じて処理能力が低下する。
これは、感光材料12回りに疲労液が滞留したり、感光
材料12の処理に応じて現像液18に含まれる現像主薬
が減少するためであり、これを防止するために現像液槽
14内の現像液18を循環装置22で′fI環して、常
に攪拌している状態としている。
これにより、現像ムラが防止でき、現像液18をムダな
く使用できる。
現像液18は、ポンプ30により、排水路28Aへと吸
い出され、フィルタ32を介して給水路26Aへと至り
、再び現像液槽14へと流入される。ここで、給水路2
8Aの中間部には、筒状のヒータ本体34が介在されて
おり、現像液18はここで加温され、適温である38℃
とされた後、現像液槽14へと至るので、循環による温
度低下はない。
また、このヒータ本体34は、低電力と高電力の2個の
電熱線36A、36Bが埋設されているので、必要に応
じて加熱電力を変更することもできる。
さらに、ヒータ本体34はセラミック酸であるので、成
型時にヒータ線を容易に埋設させることができ、ヒータ
本体34内を通過する現像液18を均一に加温すること
ができるので温度ムラはない。
ヒータ本体34の外周には円筒体44が配設され、定着
液20t−循環する際にこの円筒体44により設けられ
たチャンバ50を通過させているので、現像液18と共
に定着液20も加温することができる。
以下に、第5図(A)乃至(C,)の制御フローチャー
トに従い説明する。
まず、第5図(A)で示される如く、ステップ200で
温度設定器92で設定した温度(TO)値を取り込む0
次にステップ201で処理開始と判断されるとステップ
202で適正循環時での温度差(TO)を読み込み、f
fi環ポンプ30を作動させ、ヒータ線36へ給電(以
下ヒータをオンという)する(ステップ204.206
)。
ヒータをオンした後、ステップ208で空炊検出制御を
実行し、次いで循環不良検出制御及び断線不良検出制御
を実行する(ステップ210.212)。
ステップ214では現像液の循環量制御を実行し4ステ
ップ216,218ではそれぞれ温度制御及び補充量の
制御をする。
次にステップ220で現像処理が継続される場合はステ
ップ208へ移行する。
第5図CB)に示される如く、ステップ208のサブル
ーチンでは、ステップ222において下流温度(1口)
が適正温度差(To )に所定温度を加算した温度(T
L )よりも高い場合は空炊と判断され、ステップ22
4でヒータ線36への給電を遮断(以下ヒータをオフと
いう)し、次いでステップ226で警告ブザー100を
鳴らすので、作業【1はこれを未然に知ることができる
ステップ22Bで警告ブザー100の作動を停ゝ止させ
ると、ステップ200へ移行する。
ステップ222において下流温度(1口)が温度(TL
 )よりも低い場合はメインルーチンへリターンする。
次に第5図(C)のフローチャートに従い、循環不良検
出制御のサブルーチンを説明する。
ステップ230では下流温度(TO)と上流部VIL(
Tut )の温度差を設定温度(TO)と比較する。こ
こで、前記温度差が設定温度(TO)よりも高い場合は
現像液18の循環量が低下していると判断し、この補正
周波数(FO)を読み込む(ステップ232)。
次にステップ234で現在のme数と補正周波数(FO
)とを比較し、現在の周波数が低い場合はステップ23
6でインバータ回路54の周波数を上げる。これを繰り
返しステップ234で現在の周波数と補正周波数(FO
)が等しくなった場合はステップ238へ移行し、周波
数を固定しメインルーチンへ移行する。
これにより、ポンプ30が正常に作動しているにも拘ら
ず、フィルタ32の目づまり等で現像液18の循環量が
低下した場合でも循環量を自動調整することができる。
なお、ステップ230で前記温度差が設定温度(To 
)よりも低い場合はここでメインルーチンへリターンす
る。
ステップ238でメインルーチンへ移行した後は第5図
CD)に示す断線不良検出制御のサブルーチンへ移行す
る。
まず、ステップ240でヒータがオン状態であるか否か
を判断し、ヒータがオンと判断されると、ステップ24
2で一定時間毎の下流温度(TD )と上流温度(TO
)との間の上昇温度を比較する。ここで、一定時間内で
温度上昇が無い場合、温度センサ38.40(測温抵抗
体38A、4OA又は信号線38B、40B)自身の断
線と判断し、ステップ244へ移行してヒータをオフと
し、次いでステップ246で警告ブザー100を鳴らす
ステップ248で警告ブザー100の作動が停止される
とステップ200へ移行する。
なお、ステップ240でヒータがオンされていない場合
、及びステップ242で温度差が生じている場合は正常
と判断し、メインルーチンへ移行する。
次に、第5図(E)のフローチャートに従い、循環量制
御を説明する。
ステップ250で循環量を変更する必要があると判断さ
れるとステップ252へ移行し、これに対応した周波数
(Fl)を読み込む。
これは、具体的には感光材料が送されない場合に、これ
を処理量検出センサ78で検出して循環量を通常の約半
分(417min、)に制御して現像液18の酸化等を
防止したり1通常画質から軟調画質になる処理へ変更す
る場合には循環量を少なくし現像液18を静止に近い状
態で処理するのが好ましく、また、硬調画質になる処理
へ変更する場合には循環を多くするのが好ましい、そし
てこれらの目的に応じて周波数(Fl)が算出される。
ステップ254では現在の周波数と前記周波数(Fl)
とが比較され、現在の周波数の方が高い場合はステップ
256でインバータ回路54の周波数を低くし、逆に低
い場合はステップ258へ移行してインバータ回路54
の周波数を高くする。これを繰り返し、周波数が等しく
なるとステップ254からステップ260へ移行しイン
バータ回路54の周波数を固定した後、メインルーチン
へ移行する。
第5図(F)に示される如く、温度制御サブルーチンで
は、ステップ262で下流温度(TO)と設定温度(T
C)とを比較し、下流温度(TO)が設定温度(TC)
よりも高い又は等しい場合はヒータをオフした後リター
ンしくステップ2B4)、下流温度(TO)の方が低い
場合は、ステップ265でヒータをオンさせてリターン
する。
これを繰り返すことにより、現像液18の温度を設定温
度に近づけると共に温度を均一に保つことができる。
第5図(G)には補充量制御のサブルーチンが示されて
いる。
ステップ266では感光材料12の処理数をその面積と
処理速度で積算し、所定処理数(面積)に達したか否か
を判別する。感光材料12が所定処理数(面積)に達し
ていない場合はリターンする。
また、感光材料12が所定処理数(面積)に達した場合
には、適正補充時間(TJ )を読み込んだ後、補充液
62を現像液#f114へ搬送するポンプ72を作動さ
せる(ステップ26.7.ステップ268)。
補充時間が終了すると、ポンプ72を停止させリターン
する(ステップ270,272)。
このように1本実施例に適用された循環装置22では、
温度制御、循環量制御及び補充量制御をマイクロコンピ
ュータ42で行なうと共に、現像液18の循環不良、空
炊及び信号線の断線を補償しているので、現像液18が
最適な状態に保たれ、現像不良をおこすことがない。
なお、本実施例では現像液槽14に設置された循環量2
122について説明したが、この循環装置22を定着液
槽16等の他の処理液槽の循環装置に用いてもよい。
[発明の効果] 以上説明した如く、本発明に係る写真処理装置では、感
光材料を処理する処理液が収容された処理液槽と、この
処理液槽からの処理液を再度処理液槽へと案内する循環
路と、前記処理液を循環させるポンプと、このポンプを
駆動させるモータと、感光材料の処理量を検出する処理
量検出手段と、この処理量検出手段の出力信号で前記モ
ータの回転数を変更し処理液の劣化度に応じた循環量と
する制御手段と、を有することを特徴としているので、
感光材料の処理量に応じて処理液の循環量が変更できる
という優れた効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本実施例に係る写真処理装置の配管図、第2図
(A)及び(B)はヒータ部の斜視図、第3図は処理量
検出センサの斜視図、第4図はル制御ブロック図、第5
図(A)乃至(G)は制御フローチャートである。 12・拳・感光材料。 14・・命現像液槽、 18・・Φ現像液、 30e11・ポンプ、 34・・・ヒータ本体、 36拳・・ヒータ線、 42・eやマイクロコンピュータ、 52壷1モータ、 54・1インバ一タ回路。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)感光材料を処理する処理液が収容された処理液槽
    と、この処理液槽からの処理液を再度処理液槽へと案内
    する循環路と、前記処理液を循環させるポンプと、この
    ポンプを駆動させるモータと、感光材料の処理量を検出
    する処理量検出手段と、この処理量検出手段の出力信号
    で前記モータの回転数を変更し処理液の劣化度に応じた
    循環量とする制御手段と、を有することを特徴とする写
    真処理装置。
JP9037786A 1986-04-18 1986-04-18 写真処理装置 Pending JPS62246062A (ja)

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JP (1) JPS62246062A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0476639A2 (en) * 1990-09-21 1992-03-25 ACCESSORIO RADIOGRAFICO S.p.A. Developing unit for radiographic and/or photographic material with means for controlling the washing water
JP2016090269A (ja) * 2014-10-30 2016-05-23 日本特殊陶業株式会社 可燃性ガス検出装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0476639A2 (en) * 1990-09-21 1992-03-25 ACCESSORIO RADIOGRAFICO S.p.A. Developing unit for radiographic and/or photographic material with means for controlling the washing water
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