JPS62234383A - レ−ザ装置 - Google Patents

レ−ザ装置

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Publication number
JPS62234383A
JPS62234383A JP61077677A JP7767786A JPS62234383A JP S62234383 A JPS62234383 A JP S62234383A JP 61077677 A JP61077677 A JP 61077677A JP 7767786 A JP7767786 A JP 7767786A JP S62234383 A JPS62234383 A JP S62234383A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser beam
laser
aperture member
aperture
reflected
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61077677A
Other languages
English (en)
Inventor
Kimiharu Yasui
公治 安井
Masaaki Tanaka
正明 田中
Shigehiro Yoshiyasu
吉安 重宏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP61077677A priority Critical patent/JPS62234383A/ja
Publication of JPS62234383A publication Critical patent/JPS62234383A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/034Optical devices within, or forming part of, the tube, e.g. windows, mirrors

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、レーザビーム位置検出手段金偏えたレーザ
装置の位置検出の信頼性向上に関するものである。
〔従来の技術〕
第5図(at !fi、例えば特開昭60−1)527
3号公報に示された従来のレーザ装置を示す断面構成囚
第5図(bl (clは各々従来のレーザ装着の主要部
を示す部分正面図及び断面側面図である。図において。
(1)はレーザ媒質であり、ガスレーザを例にとれば放
電等によって励起されたガス、ガラスレーザ七個にとれ
ばフラッシュランプ等により励起されたガラスである。
+21及び(31ハレーザ媒質ヲハさんで対向して設置
された共振器ミラーで、(21は全反射ミラー、(31
は部分反射ミラー、(4)は上記ミラー(2I。
(3)間に発生するレーザビーム(5)の光路内に配置
され、レーザビームの光軸上に開口部(7)を有するア
バ−チャ部材・(6)は外部に取出されたレーザビーム
、 (81flアパ一チヤ部材(4)の開口部(71外
周上に設けられた複数個の光センサーでフォトダイオー
ド。
熱電対、サーミスタ、白金抵抗体などであり、(9)は
センサー保持具である。
次に動作について説明する。ミラー(2)、(3)は共
振器を構成しており9両ミラー間を往復するレーザビー
ム(5)はレーザ媒質(1)により増幅されしだいにそ
の強度が増すが、ある一定以上の大きさになると、その
一部が部分反射ミラー(31よりレーザビーム(6)と
して外部に出射される。
共振器内には9通常開口部(7)ヲもつアパーチャ部材
(4)が挿入され、レーザビームの外径の制限’tおこ
なっている。
共振器ミラー(2)、(3;のいずれかが配置不良をお
こし・レーザビーム(5)と開口部(7)との同軸度が
ずれると、レーザビーム(6)の形状がぐずれたり、そ
の出射方向がずれ・ レーザビーム(6)ヲ用いて加工
等をおこなう場合には加工不良が発生する。第5図に示
すレーザ装置では開口部(7)の外周上に複数個の光セ
ンサ−(8)が配置され、開口部(71にエリはし切ら
れたレーザビームがこれら光センサ−(8)に入射する
が、この入射レーザビームの光量が変化することにより
、レーザビームのずれが検出できる。従って、光センサ
−(8)の各出力が、ミラー(21゜(3)とアパーチ
ャ部材(4)とが良好に配置された場合の値となるよう
に、ミラーf2+、 +31又はアパーチャ部材(4)
全調節すれば、常に良好なレーザビームが得られること
になる。
〔発明が解決しよりとする問題点J 従来のレーザ装置は以上のように構成されているが、 
数KW級の002レーザや、高出力パルスレーザ等に適
用した場合には、開口部によりはし切りされるレーザビ
ームが強い几め、アパーチャ部材から反射したり、アパ
ーチャ部材の温度上昇をもたらし、その輻射熱などにエ
リ、光センサーが誤動作をおこすなどの問題が発生する
ことがあった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになさn
たもので、アパーチャ部材に入射するレーザビームが強
い場合にも、安定に光センサーが作動し、信頼性よくレ
ーザビームの位置検出ができるレーザ装置t’を得るこ
とを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明に係るレーザ装置は、アパーチャ部材の、レー
ザ媒質側の開口部外周面に表面が反射面をなす傾斜部を
設け・かつこの傾斜部の傾斜角を。
上記傾斜部で反射するレーザビームが光センサーに入射
しないようにしたものである。
〔作用〕
この発明における傾斜部は、開口部ではし切りされるレ
ーザビームを反射し、光センサーに上記反射ビームが入
射するのを防ぐ。
〔実施例〕
貝下、この登明の−S添例1を防につG)τ説明する。
第1□□□(atはこの発明の一実施例によるレーザ装
置を示す断面構成図、第1(2)(b) (c)は各々
この発明の一実施例によるレーザ装置の主要部を示す部
分正面図及び断面側面図である。
図において、第5図と同一符号は同−又は相当部分を示
す。
04はアパーチャ部材(4)の、レーザ媒質Tll側の
tj1)口部(7)外周面に設けられ、その表面が反射
面をなす傾斜部であり1反射面は鏡面加工された金属・
面よりなる。また、傾斜部の傾斜角は傾斜部で反射する
レーザビームが光センサーに入射しないように構成され
る。
(55)は反射面からの反射レーザビーム、  (10
0)は反射レーザビーム(55)’t”吸収するダンパ
ーである。
次に動作について説明する。ミラー(2)、(31は共
振器を構成しており1両ミラー間全往復するレーザビー
ム(5)はレーザ媒質(1)により増幅されしだいにそ
の強度が増すが、ある一定以上の大きさになると、その
一部が部分反射ミラー(3)よりレーザビーム(6)と
して外部に出射される。
共振器内には1通常開口部(7)ヲもつアパーチャ部材
(4)が挿入され、レーザビームの外径の制限をおこな
っているが、共振器ミラー+21. (31のいずれか
が配置不良をおこし、レーザビーム(5)と開口部(7
)との同軸度がずれると、レーザビーム(6)の形状が
くずれたり、その出射方向がずれ、レーザビーム(6)
にエリ加工等をおこなう場合には加工不良が発生する。
この場合には開口部(7)の外周に配置された複数個の
光センサ−(8)に入射する開口部(7)によりはし切
りされるレーザビームの光量が変化することによりレー
ザビームのずれが検出されるため、光センサ−(8)の
各出力がミラー’2+ + (31とアパーチャ部材(
4)とが良好に配置された場合の値となるように、ミラ
ー(2)争 (3)またはアパーチャ部材(4)を調節
すれば常に良好なレーザビームが得られることになる。
また、光センサ−(8)以外にアパーチャ部材に入射す
る開口部(7)によるけし切りレーザビームは傾斜部(
4荀にエリ反射され、ダンパー(100)により吸収さ
れるため、従来のようにアパーチャ部材自体のばし切り
レーザビームによる加熱、アパーチャ部材からの反射光
による光センサーの誤動作が生じることはない。
なお、上記実施例では、ダンパー(100)に工り反射
光を吸収させる例を示したが、レーザ装置内壁に吸収さ
れるようにしてもよい。また傾斜部Q4)は鏡面加工し
たものを示したが、第2図(alに示すように、傾斜部
(44の表面にAu r Agなどの金属薄膜や、誘電
体のみ、又は誘電体と金属とをそれぞれ任意に多層に積
み合せた反射膜(ハ)を形成するようにしてもよい。
また第2図(b)に示す工うに傾斜部Q4はレーザビー
ムの光路側へ傾斜するものを示したが、レーザ装置内壁
へ向って傾斜する構造でもよい。
また、アパーチャ部材(4)は第3図に示すように共振
器外に配置して′%、よい。
さらに、第4図(at (b)に示すように傾斜部34
に複数個の穴Ml−設け、上記穴(ハ)を通過するレー
ザビーム全光センサー(8)にエリ受光するようにすれ
ば。
開口部(7)及び傾斜部からの微小な散乱光の影響も除
去できる。
〔発明の効果〕
以上のように、この発明によれば、アパーチャ部材の、
レーザ媒質側の開口部外周面に表面が反射面をなす傾斜
部を設け、かつこの傾斜部の傾斜角を上記傾斜部で反射
するレーザビームが光センサーに入射しないようにした
ので、光センサーは反射光や幅射熱等による誤動作をお
こすことがなく、信頼性よくレーザビームの位ff’に
検出できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図(alはこの発明の一実施例によるレーザ装置全
示す断面構成図、第1図(bl (c)は各々この発明
の一実施例によるレーザ装置の主要部を示す部分正面図
及び断面側面図、第2図(al (blは各々この発明
の他の実施例によるレーザ装置の主袂部全示す断面側面
図、第3図はこの発明の他の実施例にIるレーザ装置金
示す断面構成図、第4図(al (blは各々この発明
の他の実施例によるレーザ装置の主要部を示す部分正面
図及び断面側面図、第5図(a)は従来のレーザ装顛を
示す断面構成図、並びに第5図(bl (clは各々従
来のレーザ装置の主要部を示す部分正面図及び断面側面
図である。 (1)・・・レーザ媒質 (2)・・・全反射ミラー 
(31・・・部分反射ミラー (4:・・・アパーチャ
部材 !451 +61・・・レーザビーム (7)・
・・開口部 (8)・・・光センサ−(44)・・・傾
斜部 (ハ)・・・反射膜 CIG)・・・穴 (55
)・・・反射レーザビーム (100)・・・ダンパー なお1図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)レーザ媒質をはさんで対向して配置された共振器
    ミラー、これらミラー間に発生するレーザビームの光路
    内に配置され、上記レーザビームの光軸上に開口部を有
    するアパーチャ部材、及び上記アパーチャ部材の開口部
    外周上に設けられた複数個の光センサーを備えたものに
    おいて、上記アパーチャ部材は上記レーザ媒質側の、上
    記開口部外周面に表面が反射面をなす傾斜部を有し、か
    つ上記傾斜部の傾斜角を上記傾斜部で反射するレーザビ
    ームが上記光センサーに入射しないようにしたことを特
    徴とするレーザ装置。
  2. (2)傾斜部からの反射レーザビームを吸収するダンパ
    ーを設けた特許請求の範囲第1項記載のレーザ装置。
  3. (3)傾斜部の反射面は鏡面加工された金属面よりなる
    特許請求の範囲第1項又は第2項記載のレーザ装置。
  4. (4)傾斜部の反射面は上記傾斜部表面に設けられた反
    射膜よりなる特許請求の範囲第1項又は第2項記載のレ
    ーザ装置。
  5. (5)光センサーは傾斜部に設けられた穴を通過するレ
    ーザビームを受光する特許請求の範囲第1項ないし第4
    項のいずれかに記載のレーザ装置。
JP61077677A 1986-04-04 1986-04-04 レ−ザ装置 Pending JPS62234383A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6356527B1 (en) 1998-07-13 2002-03-12 Sony Corporation Shutter assembly for a disc cartridge
JP2006253671A (ja) * 2005-03-10 2006-09-21 Hitachi Via Mechanics Ltd ビームドリフト補償装置及び方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6356527B1 (en) 1998-07-13 2002-03-12 Sony Corporation Shutter assembly for a disc cartridge
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