JPS62234383A - レ−ザ装置 - Google Patents
レ−ザ装置Info
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- JPS62234383A JPS62234383A JP61077677A JP7767786A JPS62234383A JP S62234383 A JPS62234383 A JP S62234383A JP 61077677 A JP61077677 A JP 61077677A JP 7767786 A JP7767786 A JP 7767786A JP S62234383 A JPS62234383 A JP S62234383A
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- laser beam
- laser
- aperture member
- aperture
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 23
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 abstract description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/034—Optical devices within, or forming part of, the tube, e.g. windows, mirrors
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Lasers (AREA)
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- Optics & Photonics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、レーザビーム位置検出手段金偏えたレーザ
装置の位置検出の信頼性向上に関するものである。
装置の位置検出の信頼性向上に関するものである。
第５図（ａｔ ！ｆｉ、例えば特開昭６０−１）５２７
３号公報に示された従来のレーザ装置を示す断面構成囚
。
３号公報に示された従来のレーザ装置を示す断面構成囚
。
第５図（ｂｌ （ｃｌは各々従来のレーザ装着の主要部
を示す部分正面図及び断面側面図である。図において。
を示す部分正面図及び断面側面図である。図において。
（１）はレーザ媒質であり、ガスレーザを例にとれば放
電等によって励起されたガス、ガラスレーザ七個にとれ
ばフラッシュランプ等により励起されたガラスである。
電等によって励起されたガス、ガラスレーザ七個にとれ
ばフラッシュランプ等により励起されたガラスである。
＋２１及び（３１ハレーザ媒質ヲハさんで対向して設置
された共振器ミラーで、（２１は全反射ミラー、（３１
は部分反射ミラー、（４）は上記ミラー（２Ｉ。
された共振器ミラーで、（２１は全反射ミラー、（３１
は部分反射ミラー、（４）は上記ミラー（２Ｉ。
（３）間に発生するレーザビーム（５）の光路内に配置
され、レーザビームの光軸上に開口部（７）を有するア
バ−チャ部材・（６）は外部に取出されたレーザビーム
、 （８１ｆｌアパ一チヤ部材（４）の開口部（７１外
周上に設けられた複数個の光センサーでフォトダイオー
ド。
され、レーザビームの光軸上に開口部（７）を有するア
バ−チャ部材・（６）は外部に取出されたレーザビーム
、 （８１ｆｌアパ一チヤ部材（４）の開口部（７１外
周上に設けられた複数個の光センサーでフォトダイオー
ド。
熱電対、サーミスタ、白金抵抗体などであり、（９）は
センサー保持具である。
センサー保持具である。
次に動作について説明する。ミラー（２）、（３）は共
振器を構成しており９両ミラー間を往復するレーザビー
ム（５）はレーザ媒質（１）により増幅されしだいにそ
の強度が増すが、ある一定以上の大きさになると、その
一部が部分反射ミラー（３１よりレーザビーム（６）と
して外部に出射される。
振器を構成しており９両ミラー間を往復するレーザビー
ム（５）はレーザ媒質（１）により増幅されしだいにそ
の強度が増すが、ある一定以上の大きさになると、その
一部が部分反射ミラー（３１よりレーザビーム（６）と
して外部に出射される。
共振器内には９通常開口部（７）ヲもつアパーチャ部材
（４）が挿入され、レーザビームの外径の制限’ｔおこ
なっている。
（４）が挿入され、レーザビームの外径の制限’ｔおこ
なっている。
共振器ミラー（２）、（３；のいずれかが配置不良をお
こし・レーザビーム（５）と開口部（７）との同軸度が
ずれると、レーザビーム（６）の形状がぐずれたり、そ
の出射方向がずれ・ レーザビーム（６）ヲ用いて加工
等をおこなう場合には加工不良が発生する。第５図に示
すレーザ装置では開口部（７）の外周上に複数個の光セ
ンサ−（８）が配置され、開口部（７１にエリはし切ら
れたレーザビームがこれら光センサ−（８）に入射する
が、この入射レーザビームの光量が変化することにより
、レーザビームのずれが検出できる。従って、光センサ
−（８）の各出力が、ミラー（２１゜（３）とアパーチ
ャ部材（４）とが良好に配置された場合の値となるよう
に、ミラーｆ２＋、 ＋３１又はアパーチャ部材（４）
全調節すれば、常に良好なレーザビームが得られること
になる。
こし・レーザビーム（５）と開口部（７）との同軸度が
ずれると、レーザビーム（６）の形状がぐずれたり、そ
の出射方向がずれ・ レーザビーム（６）ヲ用いて加工
等をおこなう場合には加工不良が発生する。第５図に示
すレーザ装置では開口部（７）の外周上に複数個の光セ
ンサ−（８）が配置され、開口部（７１にエリはし切ら
れたレーザビームがこれら光センサ−（８）に入射する
が、この入射レーザビームの光量が変化することにより
、レーザビームのずれが検出できる。従って、光センサ
−（８）の各出力が、ミラー（２１゜（３）とアパーチ
ャ部材（４）とが良好に配置された場合の値となるよう
に、ミラーｆ２＋、 ＋３１又はアパーチャ部材（４）
全調節すれば、常に良好なレーザビームが得られること
になる。
〔発明が解決しよりとする問題点Ｊ
従来のレーザ装置は以上のように構成されているが、
数ＫＷ級の００２レーザや、高出力パルスレーザ等に適
用した場合には、開口部によりはし切りされるレーザビ
ームが強い几め、アパーチャ部材から反射したり、アパ
ーチャ部材の温度上昇をもたらし、その輻射熱などにエ
リ、光センサーが誤動作をおこすなどの問題が発生する
ことがあった。
数ＫＷ級の００２レーザや、高出力パルスレーザ等に適
用した場合には、開口部によりはし切りされるレーザビ
ームが強い几め、アパーチャ部材から反射したり、アパ
ーチャ部材の温度上昇をもたらし、その輻射熱などにエ
リ、光センサーが誤動作をおこすなどの問題が発生する
ことがあった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになさｎ
たもので、アパーチャ部材に入射するレーザビームが強
い場合にも、安定に光センサーが作動し、信頼性よくレ
ーザビームの位置検出ができるレーザ装置ｔ’を得るこ
とを目的とする。
たもので、アパーチャ部材に入射するレーザビームが強
い場合にも、安定に光センサーが作動し、信頼性よくレ
ーザビームの位置検出ができるレーザ装置ｔ’を得るこ
とを目的とする。
この発明に係るレーザ装置は、アパーチャ部材の、レー
ザ媒質側の開口部外周面に表面が反射面をなす傾斜部を
設け・かつこの傾斜部の傾斜角を。
ザ媒質側の開口部外周面に表面が反射面をなす傾斜部を
設け・かつこの傾斜部の傾斜角を。
上記傾斜部で反射するレーザビームが光センサーに入射
しないようにしたものである。
しないようにしたものである。
この発明における傾斜部は、開口部ではし切りされるレ
ーザビームを反射し、光センサーに上記反射ビームが入
射するのを防ぐ。
ーザビームを反射し、光センサーに上記反射ビームが入
射するのを防ぐ。
貝下、この登明の−Ｓ添例１を防につＧ）τ説明する。
第１□□□（ａｔはこの発明の一実施例によるレーザ装
置を示す断面構成図、第１（２）（ｂ） （ｃ）は各々
この発明の一実施例によるレーザ装置の主要部を示す部
分正面図及び断面側面図である。
置を示す断面構成図、第１（２）（ｂ） （ｃ）は各々
この発明の一実施例によるレーザ装置の主要部を示す部
分正面図及び断面側面図である。
図において、第５図と同一符号は同−又は相当部分を示
す。
す。
０４はアパーチャ部材（４）の、レーザ媒質Ｔｌｌ側の
ｔｊ１）口部（７）外周面に設けられ、その表面が反射
面をなす傾斜部であり１反射面は鏡面加工された金属・
面よりなる。また、傾斜部の傾斜角は傾斜部で反射する
レーザビームが光センサーに入射しないように構成され
る。
ｔｊ１）口部（７）外周面に設けられ、その表面が反射
面をなす傾斜部であり１反射面は鏡面加工された金属・
面よりなる。また、傾斜部の傾斜角は傾斜部で反射する
レーザビームが光センサーに入射しないように構成され
る。
（５５）は反射面からの反射レーザビーム、 （１０
０）は反射レーザビーム（５５）’ｔ”吸収するダンパ
ーである。
０）は反射レーザビーム（５５）’ｔ”吸収するダンパ
ーである。
次に動作について説明する。ミラー（２）、（３１は共
振器を構成しており１両ミラー間全往復するレーザビー
ム（５）はレーザ媒質（１）により増幅されしだいにそ
の強度が増すが、ある一定以上の大きさになると、その
一部が部分反射ミラー（３）よりレーザビーム（６）と
して外部に出射される。
振器を構成しており１両ミラー間全往復するレーザビー
ム（５）はレーザ媒質（１）により増幅されしだいにそ
の強度が増すが、ある一定以上の大きさになると、その
一部が部分反射ミラー（３）よりレーザビーム（６）と
して外部に出射される。
共振器内には１通常開口部（７）ヲもつアパーチャ部材
（４）が挿入され、レーザビームの外径の制限をおこな
っているが、共振器ミラー＋２１． （３１のいずれか
が配置不良をおこし、レーザビーム（５）と開口部（７
）との同軸度がずれると、レーザビーム（６）の形状が
くずれたり、その出射方向がずれ、レーザビーム（６）
にエリ加工等をおこなう場合には加工不良が発生する。
（４）が挿入され、レーザビームの外径の制限をおこな
っているが、共振器ミラー＋２１． （３１のいずれか
が配置不良をおこし、レーザビーム（５）と開口部（７
）との同軸度がずれると、レーザビーム（６）の形状が
くずれたり、その出射方向がずれ、レーザビーム（６）
にエリ加工等をおこなう場合には加工不良が発生する。
この場合には開口部（７）の外周に配置された複数個の
光センサ−（８）に入射する開口部（７）によりはし切
りされるレーザビームの光量が変化することによりレー
ザビームのずれが検出されるため、光センサ−（８）の
各出力がミラー’２＋ ＋ （３１とアパーチャ部材（
４）とが良好に配置された場合の値となるように、ミラ
ー（２）争 （３）またはアパーチャ部材（４）を調節
すれば常に良好なレーザビームが得られることになる。
光センサ−（８）に入射する開口部（７）によりはし切
りされるレーザビームの光量が変化することによりレー
ザビームのずれが検出されるため、光センサ−（８）の
各出力がミラー’２＋ ＋ （３１とアパーチャ部材（
４）とが良好に配置された場合の値となるように、ミラ
ー（２）争 （３）またはアパーチャ部材（４）を調節
すれば常に良好なレーザビームが得られることになる。
また、光センサ−（８）以外にアパーチャ部材に入射す
る開口部（７）によるけし切りレーザビームは傾斜部（
４荀にエリ反射され、ダンパー（１００）により吸収さ
れるため、従来のようにアパーチャ部材自体のばし切り
レーザビームによる加熱、アパーチャ部材からの反射光
による光センサーの誤動作が生じることはない。
る開口部（７）によるけし切りレーザビームは傾斜部（
４荀にエリ反射され、ダンパー（１００）により吸収さ
れるため、従来のようにアパーチャ部材自体のばし切り
レーザビームによる加熱、アパーチャ部材からの反射光
による光センサーの誤動作が生じることはない。
なお、上記実施例では、ダンパー（１００）に工り反射
光を吸収させる例を示したが、レーザ装置内壁に吸収さ
れるようにしてもよい。また傾斜部Ｑ４）は鏡面加工し
たものを示したが、第２図（ａｌに示すように、傾斜部
（４４の表面にＡｕ ｒ Ａｇなどの金属薄膜や、誘電
体のみ、又は誘電体と金属とをそれぞれ任意に多層に積
み合せた反射膜（ハ）を形成するようにしてもよい。
光を吸収させる例を示したが、レーザ装置内壁に吸収さ
れるようにしてもよい。また傾斜部Ｑ４）は鏡面加工し
たものを示したが、第２図（ａｌに示すように、傾斜部
（４４の表面にＡｕ ｒ Ａｇなどの金属薄膜や、誘電
体のみ、又は誘電体と金属とをそれぞれ任意に多層に積
み合せた反射膜（ハ）を形成するようにしてもよい。
また第２図（ｂ）に示す工うに傾斜部Ｑ４はレーザビー
ムの光路側へ傾斜するものを示したが、レーザ装置内壁
へ向って傾斜する構造でもよい。
ムの光路側へ傾斜するものを示したが、レーザ装置内壁
へ向って傾斜する構造でもよい。
また、アパーチャ部材（４）は第３図に示すように共振
器外に配置して′％、よい。
器外に配置して′％、よい。
さらに、第４図（ａｔ （ｂ）に示すように傾斜部３４
に複数個の穴Ｍｌ−設け、上記穴（ハ）を通過するレー
ザビーム全光センサー（８）にエリ受光するようにすれ
ば。
に複数個の穴Ｍｌ−設け、上記穴（ハ）を通過するレー
ザビーム全光センサー（８）にエリ受光するようにすれ
ば。
開口部（７）及び傾斜部からの微小な散乱光の影響も除
去できる。
去できる。
以上のように、この発明によれば、アパーチャ部材の、
レーザ媒質側の開口部外周面に表面が反射面をなす傾斜
部を設け、かつこの傾斜部の傾斜角を上記傾斜部で反射
するレーザビームが光センサーに入射しないようにした
ので、光センサーは反射光や幅射熱等による誤動作をお
こすことがなく、信頼性よくレーザビームの位ｆｆ’に
検出できる効果がある。
レーザ媒質側の開口部外周面に表面が反射面をなす傾斜
部を設け、かつこの傾斜部の傾斜角を上記傾斜部で反射
するレーザビームが光センサーに入射しないようにした
ので、光センサーは反射光や幅射熱等による誤動作をお
こすことがなく、信頼性よくレーザビームの位ｆｆ’に
検出できる効果がある。
第１図（ａｌはこの発明の一実施例によるレーザ装置全
示す断面構成図、第１図（ｂｌ （ｃ）は各々この発明
の一実施例によるレーザ装置の主要部を示す部分正面図
及び断面側面図、第２図（ａｌ （ｂｌは各々この発明
の他の実施例によるレーザ装置の主袂部全示す断面側面
図、第３図はこの発明の他の実施例にＩるレーザ装置金
示す断面構成図、第４図（ａｌ （ｂｌは各々この発明
の他の実施例によるレーザ装置の主要部を示す部分正面
図及び断面側面図、第５図（ａ）は従来のレーザ装顛を
示す断面構成図、並びに第５図（ｂｌ （ｃｌは各々従
来のレーザ装置の主要部を示す部分正面図及び断面側面
図である。 （１）・・・レーザ媒質 （２）・・・全反射ミラー
（３１・・・部分反射ミラー （４：・・・アパーチャ
部材 ！４５１ ＋６１・・・レーザビーム （７）・
・・開口部 （８）・・・光センサ−（４４）・・・傾
斜部 （ハ）・・・反射膜 ＣＩＧ）・・・穴 （５５
）・・・反射レーザビーム （１００）・・・ダンパー なお１図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。
示す断面構成図、第１図（ｂｌ （ｃ）は各々この発明
の一実施例によるレーザ装置の主要部を示す部分正面図
及び断面側面図、第２図（ａｌ （ｂｌは各々この発明
の他の実施例によるレーザ装置の主袂部全示す断面側面
図、第３図はこの発明の他の実施例にＩるレーザ装置金
示す断面構成図、第４図（ａｌ （ｂｌは各々この発明
の他の実施例によるレーザ装置の主要部を示す部分正面
図及び断面側面図、第５図（ａ）は従来のレーザ装顛を
示す断面構成図、並びに第５図（ｂｌ （ｃｌは各々従
来のレーザ装置の主要部を示す部分正面図及び断面側面
図である。 （１）・・・レーザ媒質 （２）・・・全反射ミラー
（３１・・・部分反射ミラー （４：・・・アパーチャ
部材 ！４５１ ＋６１・・・レーザビーム （７）・
・・開口部 （８）・・・光センサ−（４４）・・・傾
斜部 （ハ）・・・反射膜 ＣＩＧ）・・・穴 （５５
）・・・反射レーザビーム （１００）・・・ダンパー なお１図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (5)
- （１）レーザ媒質をはさんで対向して配置された共振器
ミラー、これらミラー間に発生するレーザビームの光路
内に配置され、上記レーザビームの光軸上に開口部を有
するアパーチャ部材、及び上記アパーチャ部材の開口部
外周上に設けられた複数個の光センサーを備えたものに
おいて、上記アパーチャ部材は上記レーザ媒質側の、上
記開口部外周面に表面が反射面をなす傾斜部を有し、か
つ上記傾斜部の傾斜角を上記傾斜部で反射するレーザビ
ームが上記光センサーに入射しないようにしたことを特
徴とするレーザ装置。 - （２）傾斜部からの反射レーザビームを吸収するダンパ
ーを設けた特許請求の範囲第１項記載のレーザ装置。 - （３）傾斜部の反射面は鏡面加工された金属面よりなる
特許請求の範囲第１項又は第２項記載のレーザ装置。 - （４）傾斜部の反射面は上記傾斜部表面に設けられた反
射膜よりなる特許請求の範囲第１項又は第２項記載のレ
ーザ装置。 - （５）光センサーは傾斜部に設けられた穴を通過するレ
ーザビームを受光する特許請求の範囲第１項ないし第４
項のいずれかに記載のレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61077677A JPS62234383A (ja) | 1986-04-04 | 1986-04-04 | レ−ザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61077677A JPS62234383A (ja) | 1986-04-04 | 1986-04-04 | レ−ザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62234383A true JPS62234383A (ja) | 1987-10-14 |
Family
ID=13640517
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61077677A Pending JPS62234383A (ja) | 1986-04-04 | 1986-04-04 | レ−ザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62234383A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6356527B1 (en) | 1998-07-13 | 2002-03-12 | Sony Corporation | Shutter assembly for a disc cartridge |
| JP2006253671A (ja) * | 2005-03-10 | 2006-09-21 | Hitachi Via Mechanics Ltd | ビームドリフト補償装置及び方法 |
-
1986
- 1986-04-04 JP JP61077677A patent/JPS62234383A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6356527B1 (en) | 1998-07-13 | 2002-03-12 | Sony Corporation | Shutter assembly for a disc cartridge |
| JP2006253671A (ja) * | 2005-03-10 | 2006-09-21 | Hitachi Via Mechanics Ltd | ビームドリフト補償装置及び方法 |
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