JPS62230984A - 無電解めつき用触媒液およびこれを用いためつき法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は無電解めっき用触媒液とこれを用い之プラスチ
ック体の無電解めっき法に関する。

（従来の技術〕 無電解めっき法はプラスチックなどの電気絶縁体に金属
層ン付与し装飾性や耐食性を向上させるものである。し
かし、近年エレクトロニクス分野への応用が盛んになり
、電子回路等の導電層形成や、電磁波シールド材のシー
ルド層形成に利用されてきている。

令も多く行われているＡＢＳ樹脂の無電解めっき法は、
下記の順序で行われている。（１）クロム酸・硫酸混液
で樹脂表面をエツチングする。

（２）塩酸酸性塩化第一スズ水溶液に浸漬して樹脂表面
にＳｎ”＋を付与する。（３）塩酸酸性塩化パラジウム
水溶液に浸漬してＰｄ　　＋Ｓｎ　　→Ｐｄ　＋Ｓｎの
ようにパラジウムを析出させる。（４）無電解めっき液
に浸漬して金属層を析出させる。

しかしながら、（２）の工程で付与した第一スズイオン
は不安定であり、工程中に第二スズイオンに変化してし
まう欠点があっ之。そこで、現在では（２）と（３）の
工程を同時に行う混合液型ＰｄＣｌ２／　５ｎＣ１２恕
媒液（Ｕ　Ｓ　Ｐａｔｅｎｔ　３，０１１，９２０゜１
９６１）が開発され、この型の恕媒液が主流となってき
ている。

（発明が解決しようとする問題点） 従来の混、＠、ｅ、型触媒液は、塩化第一スズ？使用し
ているため、次の様な問題点があった。■鳩化第−スズ
のための廃液処理が必要とされる。

■高価な塩化パラジウムχ丹生する場＠、塩化第一スズ
が浪人しているので再生工程を複軸にする。■工程が多
い。

（問題点を解決するための手段） 本発明は１以上のような点［６１ｉみてなさｒｔたもの
で、塩化第１スズを使用せずに触媒付与する無１匡解め
っき用触媒液に係り、被めっき体プラスチックの良溶媒
、及び貧溶媒の混合液に無電解めっき触媒を溶解してな
る無電解めっき用触媒液とこれ乞用い九無電解めっき法
を提供するものである。

ここで、本発明における被めっき体ゲラステックは、一
般に無電解めっきが可能であるものであれば特に限定さ
れないが、ＡＢＳ樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、
ポリアセタール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネー
ト＋！１１脂等が挙げられる。

本発明における良溶媒は特に限定されないが、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトン、ジク
ロロエタン等が挙げられる。また、本発明における貧溶
媒は、良溶媒に混付するものが望ましく、アルコール類
、水、脂肪族ポリエーテル、脂肪族ポリエステル等の液
状高分子が挙げられる。ｆ之、良溶媒か貧溶媒のどちら
か一方が無電解めっき触媒を溶解するものでもう一方が
対する溶媒に溶解している触媒乞析出することなく混合
するものが望ましい。

ま之、本発明における良溶媒、貧溶媒は一成分に限定さ
れるものではな（，２種類以上の混合溶媒であってもよ
い。また、良溶媒と貧溶媒の混合比は、被めっき体プラ
スチックｙａ／極端に侵食させなければ特に限定されな
いが、貧溶媒５００−に対し良溶媒１００ａｌ！１以下
が望ましい。

本発明における無電解めっき触媒は、触媒作用のあるも
のであｎば特に限定されないが、一般に広く用いられて
いる塩化パラジウム等が挙げられ、ＩＮ度は０．２〜２
　ｇ／ｌ程度でよい。

さらに被めっき体であるプラスチックの表面ン粗化する
方法としては特に限定されるものではないが、クロム酸
・硫酸混液による化学的粗化法あるいは研摩剤等を使用
した機械的粗化法などが採用される。

（作用） 従来の無電解めりき用触媒液は、塩化第一スズの吸着促
進効果を利用して塩化パラジウムを被めっき体プラスチ
ックに吸着させるものであったが、本発明が提供する無
電解めっき触媒液は、良溶媒が被めっき体表面をわずか
に溶解。

もしくは膨潤させるため、塩化パラジウムが被めっき体
表面に吸着し、通常の水洗では吸着された触媒が脱離し
ないものと推察される。なお。

この時貧溶媒ン必要とするのは、必要以上に被めっき体
を侵食しないようにする之めである。

さらに、従来法では塩化第一スズを利用してＰｄ２＋→
Ｐｄの還元を行っていたが、本発明では無電解めっき液
の還元能力を利用してパラジウムの還元を行い得るので
、塩化第一スズを使用することがない。したがって、Ｎ
ｌ媒化工程は。

前記の無１！解めっき用触媒液に浸漬するだけの一工程
でよ（、水洗を含めても二工程で完了する。

（実施例） 以下１本発明乞笑施例にて詳細に説明する。

実施例１ 塩化パラジウム０．１３５ｇ’にジメチルホルムアミド
５０−に溶解し、これにメタノール４５０ｃｍ’Ｙ加え
て触媒液とした。被めっき体にはクララステック（ＡＢ
Ｓ樹脂、住友ノーガタック株式会社製曲品名）をプレー
ト状（縦５×横５×厚みα２Ｃｒｎ）に成形したものを
用い、クロム酸・硫酸混合液でエツチングした後、上記
の触媒液に１分間浸漬した。次に被めっき体乞還元剤で
あるジメチルアミボラン水浴液に１分間浸漬し、最後［
６０℃に加熱したシューマー５Ｒ−５５（無電解ニッケ
ルメッキ液１日本カニゼン株式会社製商品名）に１０分
間浸漬して、ニッケルメッキを施しｔｏその結果、密着
性よく均一にニッケル層が析出し、粘着テープのごばん
目試験（ＡＳＴＭ　　Ｄ３３５９）で５Ｂレベルの結果
を得之。

実施例２ 上記方法と同様に前処理した被めっき体をＣＵＳＴ−２
０１（無電解鋼メッキ液、日旦化成工業株式会社製圏品
名）に室温で１５分間浸漬することによって、実施例１
と同様１ｃ５Ｂレベルの銅メツキ体を得た。

実施例３ 塩化パラジウム０．１３５ｇ乞ジメチルホルムアミド５
０ａＩＩＩＫ溶解し、これにメタノール４５０−を加え
て触媒液とした。被めっき体にはクララステック（ＡＢ
Ｓ樹脂、住友ノーカタック株式会社製商品名）をプレー
ト状（縦５ｘ横５×厚み０．２Ｃｍ）ＶＣＪｊＸ形した
ものを用い、クロム酸・硫酸混合液でエツチングした後
、下記に示す通りに無電解めっきケ行った。

１、触媒付与　二上記触媒液に１分間浸漬２、水洗　　
　二流水中に２分間放置 五　無電解めっき：シェーマー５Ｂ−５５（無電解ニッ
ケルナツト液１日本カ ニゼン株式会社展商品名）に。

６０℃で１０分間２漬 ４、水洗　　　二流水中に２分間放置 ５、乾燥　　　：６５℃４時間 その結果、密着性よく均一にニッケル層が析出し、粘着
テープのごはん目試験（ＡＳＴＭＤ３３５９）で５Ｂレ
ベルの結果ン得た。

実施例４ 上記方法で処理し之被めっき体’ｋＣＵＳＴ−２０１（
無電解鋼メッキ液５日立化成工業株式会社裂間品名）に
、室温で１０分間浸漬した。

その結果、実施例１と同様に５Ｂレベルの銅メツキ体を
得た。

（発明の効果） 以上の説明から明らかなように１本発明によれば塩化第
一スズン使用することなく、被めっき体を触媒化するこ
とが可能となり、このため塩化第一スズの之めの廃液処
理が不要で、かつ　　　１゜塩化パラジウム等の触媒の
再生も容易にたつ几。

又触媒化工程も短縮されるので生産性も大巾に向上し、
その工菓的価値を工極めて大である。　　　　パ３゜ ハ 手続補正書 昭和　６１年　８ｎ２５ｅ 事ｆ牛の表示 昭和６１年特許願第７３８４３号 発明の名称 無電解めつき用触媒液およびこれ全周いためつき法補正
をする者 事ず↑との閏停　　　　　　特許出願人名　称　［４４
５）日立化成工業株式会社日立化成工３ｉ株式会社内 電話東京３４６−３１１１（大代表） 氏　　　名　　　４４μ仝仝Ｊもエヨ１−１＝エエ舶も
トエエ７Ａ氷。アつ工士田＝＝＝＝字：＋８５３０１弁
理士　廣　１−１９−”。

ン、」とあるを「ジメチルアミンボラン」と訂正する。

（２）明細書第７頁下かも５行目に「塩化パラジウム０
．１３５　ｇを」とあるを１塩化パラジウム１５ｇを」
と訂正する。

（３）明細書第８頁第７行目に「ニッケルナツト液」と
あるヲ［−ニッケルメッキ液」と訂正する。

（４）明細書第８頁下から５行目に「上記方法で処理し
ｍ」とあろを「上記方法と同様に処理し之」と訂正する
。

以上

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、被めっき体プラスチックの良溶媒および貧溶媒の混
   合液に無電解めっき触媒を溶解してなる無電解めっき用
   触媒液。 ２、被めっき体プラスチックの良溶媒がジメチルホルム
   アミドであり、貧溶媒がアルコール類および／または水
   である特許請求の範囲第１項記載の無電解めっき用触媒
   液。 ３、表面粗化した被めっき体プラスチックを、被めっき
   体プラスチックの良溶媒および貧溶媒の混合液に塩化パ
   ラジウムを溶解してなる無電解めっき用触媒液に浸漬し
   水洗した後、常法により無電解めっきをおこなうことを
   特徴とする無電解めっき法。