JP7160306B2 - 無電解めっきの前処理用組成物、無電解めっきの前処理方法、無電解めっき方法 - Google Patents
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10mg/L以上の過硫酸イオン及び10mg/L以上の1価の銀イオンを含有することを特徴とする無電解めっきの60℃を超える条件で使用する前処理用組成物。
pHが1以下である、項1に記載の前処理用組成物。
前記前処理用組成物に、樹脂基板の被処理面を接触させる際、被処理面のエッチングと触媒付与とを同時に行なう為の、項1又は2に記載の前処理用組成物。
樹脂材料の無電解めっきの前処理方法であって、
前処理用組成物に、60℃を超える条件で、前記樹脂材料の被処理面を接触させる工程1を有し、
前記前処理用組成物は、10mg/L以上の過硫酸イオン及び10mg/L以上の1価の銀イオンを含有する、
ことを特徴とする無電解めっきの前処理方法。
樹脂材料の無電解めっき方法であって、
(1)前処理用組成物に、60℃を超える条件で、前記樹脂材料の被処理面を接触させる工程1、及び
(2)前記樹脂材料の被処理面を、無電解めっき液に接触させる工程2を有し、
前記前処理用組成物は、10mg/L以上の過硫酸イオン及び10mg/L以上の1価の銀イオンを含有する、
ことを特徴とする無電解めっき方法。
前記無電解めっき液は、銀に対して触媒活性を示す還元剤を含有する、項5に記載の無電解めっき方法。
本発明の無電解めっきの前処理用組成物(以下、単に「前処理用組成物」とも示す。)は、60℃を超える条件で使用する前処理用組成物であり、10mg/L以上の過硫酸イオン及び10mg/L以上の1価の銀イオンを含有する。本発明の前処理用組成物は、特定量の過硫酸イオン及び特定量の1価の銀イオンを含有するので、樹脂材料の被処理面に対するエッチング力の低下が抑制されており、触媒の付与が十分となる。
前処理用組成物に過硫酸イオンを付与するための化合物として、特に限定されず、過硫酸、もしくはその塩を用いることが好ましい。
本発明の前処理用組成物が含有する銀イオンは、1価の銀イオンである。1価の銀イオンを付与するための銀塩としては、前処理用組成物中に溶解した際に浴中で安定した1価の銀イオンを付与することができ、銀塩を形成する対イオンが過硫酸イオンに悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されない。具体的には硫酸銀(I)、硝酸銀(I)、酸化銀(I)が挙げられる。これらの中でも、溶解度が高く工業的に使用し易い点で、硝酸銀(I)が好ましい。
本発明の前処理用組成物は、上記過硫酸イオン、上記銀イオン、必要に応じて添加される他の成分が、溶媒に含有されることが好ましい。上記溶媒としては特に限定されず、水、アルコール、水とアルコールとの混合溶媒等が挙げられる。
本発明の樹脂材料の無電解めっきの前処理方法は、前処理用組成物に、上記樹脂材料の被処理面を接触させる工程1を有し、上記前処理用組成物は、10mg/L以上の過硫酸イオン及び10mg/L以上の1価の銀イオンを含有する無電解めっきの前処理方法である。
工程1は、前処理用組成物に、60℃を超える条件で、上記樹脂材料の被処理面を接触させる工程である。
本発明の樹脂材料の無電解めっき方法は、(1)前処理用組成物に、60℃を超える条件で、上記樹脂材料の被処理面を接触させる工程1、及び(2)上記樹脂材料の被処理面を、無電解めっき液に接触させる工程2を有し、上記前処理用組成物は、10mg/L以上の過硫酸イオン及び10mg/L以上の1価の銀イオンを含有する無電解めっき方法である。
本発明の樹脂材料の無電解めっき方法における工程1は、上述の樹脂材料の無電解めっきの前処理方法における工程1として説明した工程と同一である。
工程2は、上記樹脂材料の被処理面を、無電解めっき液に接触させる工程である。
被めっき物である樹脂材料として、ABS樹脂(UMG ABS(株)製、商標名:UMG ABS3001M)の平板(10cm×5cm×0.3cm、表面積約1dm2)を用意し、以下の方法で無電解めっき皮膜を形成した。
樹脂材料表面の無電解めっき皮膜が形成された面積の割合を被覆率として評価した。樹脂材料表面の全面が被覆された場合を被覆率100%とした。
無電解めっき皮膜が形成された樹脂材料を硫酸銅めっき浴に浸漬し、電流密度3A/dm2、温度25℃の条件で電気めっき処理を120分間行い、銅めっき皮膜を形成し、試料を作製した。当該試料を、80℃で120分間乾燥させ、室温になるまで放置した。次いで、めっき皮膜に10mm幅の切り目を入れ、引っ張り試験器((株)島津製作所製、オートグラフAGS-J 1kN)を用いて、樹脂材料の表面に対して垂直方向にめっき皮膜を引っ張り、ピール強度を測定した。結果を表3に示す。
Claims (5)
- 10mg/L~200g/Lの過硫酸イオン及び10mg/L以上の1価の銀イオンを含有し、
pHが1以下である、ことを特徴とする、
無電解めっきの60℃を超える条件で使用する前処理用組成物。 - 前記前処理用組成物に、樹脂基板の被処理面を接触させる際、被処理面のエッチングと触媒付与とを同時に行なう為の、請求項1に記載の前処理用組成物。
- 樹脂材料の無電解めっきの前処理方法であって、
前処理用組成物に、60℃を超える条件で、前記樹脂材料の被処理面を接触させる工程1を有し、
前記前処理用組成物は、10mg/L~200g/Lの過硫酸イオン及び10mg/L以上の1価の銀イオンを含有し、pHが1以下である、
ことを特徴とする無電解めっきの前処理方法。 - 樹脂材料の無電解めっき方法であって、
(1)前処理用組成物に、60℃を超える条件で、前記樹脂材料の被処理面を接触させる工程1、及び
(2)前記樹脂材料の被処理面を、無電解めっき液に接触させる工程2を有し、
前記前処理用組成物は、10mg/L~200g/Lの過硫酸イオン及び10mg/L以上の1価の銀イオンを含有し、pHが1以下である、
ことを特徴とする無電解めっき方法。 - 前記無電解めっき液は、銀に対して触媒活性を示す還元剤を含有する、請求項4に記載の無電解めっき方法。
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